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文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇理学

主题

  • 2篇氧化锌
  • 2篇共掺
  • 1篇射频磁控
  • 1篇射频磁控溅射
  • 1篇溅射
  • 1篇共掺杂
  • 1篇半导体
  • 1篇XPS
  • 1篇
  • 1篇
  • 1篇
  • 1篇掺杂
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射

机构

  • 2篇吉林大学
  • 1篇北华大学
  • 1篇中国科学院
  • 1篇中国科学院长...

作者

  • 2篇赵婷婷
  • 1篇刘力
  • 1篇张吉英
  • 1篇申德振
  • 1篇姚斌
  • 1篇杨通
  • 1篇张振中
  • 1篇李炳辉
  • 1篇郭秀芝
  • 1篇郑昌佶
  • 1篇陈足红
  • 1篇单崇新

传媒

  • 1篇发光学报
  • 1篇吉林大学学报...

年份

  • 1篇2010
  • 1篇2009
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
铟磷共掺杂p型氧化锌薄膜形成机理和性质(英文)被引量:2
2009年
利用射频磁控溅射在石英衬底上生长出铟磷共掺氧化锌薄膜(ZnO:In,P),所用靶材为掺杂五氧化二磷(P2O5)和氧化铟(In2O3)的氧化锌(ZnO)陶瓷靶,掺杂质量分数分别为1.5%和0.3%,溅射气体为Ar和O2的混合气体。原生ZnO薄膜是绝缘的, 600℃退火5 min后导电类型为n型,而800℃退火5 min后为p型。p型ZnO薄膜的电阻率、载流子浓度和霍尔迁移率分别为12.4Ω.cm, 1.6×1017cm-3和3.29 cm2.V-1.s-1。X射线衍射测量结果表明所有样品都只有(002)衍射峰,并与相同条件下生长的未掺杂ZnO相比向大角度方向偏移,意味着In和P都占据Zn位。XPS测试结果表明在共掺ZnO薄膜中P不是取代O而是取代Zn。因此,铟磷共掺ZnO薄膜中,In和P都取代Zn,并且PZn与2个锌空位(VZn)形成PZn-2VZn复合受主,薄膜表现为p型。
陈足红姚斌郑昌佶杨通赵婷婷单崇新张振中李炳辉张吉英申德振
关键词:氧化锌共掺射频磁控溅射XPS
用RF磁控溅射法制备锂氮共掺p型氧化锌被引量:1
2010年
采用RF磁控溅射技术,以掺杂氮化锂的氧化锌陶瓷为靶材,用不同物质的量比的高纯氩气和氧气混合气体为溅射气体,在石英衬底上生长锂氮共掺氧化锌薄膜,并在600℃真空热退火30min,研究生长气氛对锂氮共掺氧化锌导电类型、晶体结构与低温光致发光的影响规律和机制.结果表明,当以n(氩气):n(氧气)=60的混合气体为溅射气体时,可得到稳定的p型锂氮共掺氧化锌薄膜.X射线衍射谱表明,样品具有高度的c轴择优取向.由变温光致发光分析可知,该薄膜的p型导电来源于LiZn受主缺陷,其光学受主能级位于价带顶131.6meV处.
刘力郭秀芝赵婷婷
关键词:氧化锌半导体
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