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高谷松文

作品数：3 被引量：4H指数：2
供职机构：日本千叶工业大学更多>>
发文基金：国家教育部博士点基金更多>>
相关领域：理学一般工业技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 2篇一般工业技术
  • 2篇理学

主题

  • 2篇金刚石
  • 2篇金刚石薄膜
  • 2篇刚石
  • 1篇气相沉积
  • 1篇微波
  • 1篇微波等离子体
  • 1篇微波法
  • 1篇金刚石膜
  • 1篇化学气相
  • 1篇化学气相沉积
  • 1篇合成金刚石
  • 1篇MWPCVD

机构

  • 3篇吉林大学
  • 3篇日本千叶工业...

作者

  • 3篇高谷松文
  • 3篇金曾孙
  • 2篇吕宪义
  • 2篇邹广田
  • 2篇顾长志
  • 1篇坂本幸弘

传媒

  • 1篇吉林大学自然...
  • 1篇科学通报
  • 1篇首届中国功能...

年份

  • 1篇1998
  • 1篇1997
  • 1篇1992
共 3 条 记 录，以下是 1-3
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排序方式：
微波方法制备(100)晶面取向的金刚石薄膜被引量：2
1998年
采用MWPCVD制备金刚石膜的方法 ,以甲烷和一氧化碳为碳源气体 ,在适当的衬底温度与反应气体配比条件下 ,通过使衬底匀速转动 ,合成出具有 (10 0 )晶面取向的均匀生长的金刚石薄膜 ,在优化的工艺条件下这种定向金刚石膜的生长与单晶硅衬底的类型没有明显的直接关系 .
顾长志金曾孙吕宪义邹广田坂本幸弘高谷松文
关键词：金刚石膜MWPCVD微波法
过渡金属衬底上气相合成金刚石膜
1引言本文用微波PCVD法,主要研究了在多种过渡金属衬底上金刚石膜生长以及过渡金属的存在对金刚石成核密度的影响。2实验方法
金曾孙高谷松文钤■司
文献传递
微波等离子体CVD方法制备金刚石薄膜被引量：2
1997年
采用微波等离子体化学气相沉积方法分别在CH4／H2，CO／H2和（CH4＋CO）／H2气体体系下合成了金刚石薄膜．结果表明，所合成的金刚石薄膜具有明显的柱状生长特性和较高的品质，（CH4＋CO）／H2体系合成的金刚石薄膜具有较高的生长速率和（100）晶面定向生长的特性．
顾长志金曾孙吕宪义邹广田高谷松文坂本幸弘
关键词：金刚石微波等离子体化学气相沉积
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