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万玉喜

作品数:7 被引量:0H指数:0
供职机构:华为技术有限公司更多>>
相关领域:电子电信文化科学更多>>

文献类型

  • 7篇中文专利

领域

  • 2篇电子电信
  • 1篇文化科学

主题

  • 3篇碳化
  • 2篇导热
  • 2篇导热材料
  • 2篇导热系数
  • 2篇电子设备
  • 2篇散热
  • 2篇散热装置
  • 2篇热辐射
  • 2篇外延片
  • 2篇金属有机物
  • 2篇金属有机物化...
  • 2篇进风口
  • 2篇晶圆
  • 2篇控制方法
  • 2篇机柜
  • 2篇键合
  • 2篇风道
  • 2篇复合衬底
  • 2篇半导体
  • 2篇半导体器件

机构

  • 7篇华为技术有限...

作者

  • 7篇万玉喜
  • 3篇黄伯宁
  • 2篇彦斯
  • 2篇彭锋
  • 2篇胡卫峰

年份

  • 3篇2021
  • 1篇2020
  • 1篇2019
  • 1篇2009
  • 1篇2007
7 条 记 录,以下是 1-7
排序方式:
一种碳化硅基板、碳化硅器件及其基板减薄方法
本申请提供一种碳化硅基板、碳化硅器件及其基板减薄方法,包括:提供一第一基板;第一基板为碳化硅基板,第一基板具有相对而置的硅面及碳面;在第一基板的硅面形成碳化硅器件,在碳化硅器件之上形成保护层;对第一基板的碳面进行离子注入...
韩小标黄伯宁万玉喜王弋宇
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一种用于金属有机物化学气相沉积的承载盘
本申请提供了一种用于金属有机物化学气相沉积的承载盘。所述承载盘包括:至少一个承载子盘,呈凹槽结构,用于放置外延晶圆衬底;在所述承载子盘内的第一空间填充有第一导热材料,所述第一空间为,当所述承载子盘放置有所述外延晶圆衬底时...
彭泽滔万玉喜
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直通风散热装置及其控制方法
本发明提供了一种直通风散热装置,包括:机柜(16);设备插框(15),设置在机柜(16)的中央区域;第一进风口(3、6)和第一出风口(10),其均位于机柜(16)的第一侧;挡风板(14),其设置在机柜(16)的第一侧与设...
万玉喜彭锋胡卫峰彦斯
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一种用于金属有机物化学气相沉积的承载盘
本申请提供了一种用于金属有机物化学气相沉积的承载盘。所述承载盘包括:至少一个承载子盘,呈凹槽结构,用于放置外延晶圆衬底;在所述承载子盘内的第一空间填充有第一导热材料,所述第一空间为,当所述承载子盘放置有所述外延晶圆衬底时...
彭泽滔万玉喜
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复合衬底及其制备方法、半导体器件、电子设备
本申请实施例提供一种复合衬底及其制备方法、半导体器件、电子设备,涉及半导体技术领域,用于解决因SiC衬底成本高,导致SiC功率器件成本高的问题。复合衬底包括:第一碳化硅层和第二碳化硅层。第一碳化硅层的材料包括单晶碳化硅;...
高博黄伯宁万玉喜
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复合衬底及其制备方法、半导体器件、电子设备
本申请实施例提供一种复合衬底及其制备方法、半导体器件、电子设备,涉及半导体技术领域,用于解决因SiC成本高,导致AlxGayN基半导体器件成本高的问题。复合衬底,包括:承载层、碳化硅层以及至少一层外延层。碳化硅层设置在承...
高博黄伯宁万玉喜
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直通风散热装置及其控制方法
本发明提供了一种直通风散热装置,包括:机柜(16);设备插框(15),设置在机柜(16)的中央区域;第一进风口(3、6)和第一出风口(10),其均位于机柜(16)的第一侧;挡风板(14),其设置在机柜(16)的第一侧与设...
万玉喜彭锋胡卫峰彦斯
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共1页<1>
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