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付永启

作品数：41 被引量：67H指数：6
供职机构：电子科技大学更多>>
发文基金：国家教育部博士点基金国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域：机械工程电子电信理学自动化与计算机技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 21篇期刊文章
  • 18篇专利
  • 1篇会议论文
  • 1篇科技成果

领域

  • 12篇机械工程
  • 10篇电子电信
  • 7篇理学
  • 2篇自动化与计算...
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  • 1篇一般工业技术
  • 1篇文化科学
  • 1篇兵器科学与技...

主题

  • 10篇光学
  • 7篇衍射
  • 7篇光刻
  • 6篇光学元件
  • 5篇透镜
  • 4篇光电
  • 4篇光电探测
  • 4篇感器
  • 4篇传感
  • 4篇传感器
  • 3篇衍射光学
  • 3篇衍射光学元件
  • 3篇涂胶
  • 3篇微光学
  • 3篇响应度
  • 3篇成像
  • 2篇导体
  • 2篇等离子体
  • 2篇低介电常数
  • 2篇衍射极限

机构

  • 19篇电子科技大学
  • 17篇中国科学院长...
  • 5篇中国科学院
  • 2篇四川大学
  • 1篇中国科学院研...
  • 1篇中国科学院微...
  • 1篇中国科学院长...

作者

  • 41篇付永启
  • 3篇吴伟
  • 3篇赵晶丽
  • 3篇赵兴国
  • 2篇任延同
  • 2篇杜惊雷
  • 2篇罗先刚
  • 2篇吴斌
  • 2篇朱应时
  • 2篇杜春雷
  • 2篇黄鹏
  • 2篇周崇喜
  • 1篇周秀丽
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  • 1篇卢振武
  • 1篇温朗枫
  • 1篇杨俊
  • 1篇张作梅

传媒

  • 12篇光学精密工程
  • 3篇仪器仪表学报
  • 2篇计量技术
  • 2篇光散射学报
  • 1篇实用测试技术
  • 1篇中国科技论文
  • 1篇中国光学学会...

年份

  • 3篇2023
  • 3篇2022
  • 3篇2021
  • 5篇2020
  • 1篇2019
  • 1篇2018
  • 1篇2013
  • 1篇2010
  • 2篇2009
  • 1篇2008
  • 1篇2006
  • 2篇1999
  • 3篇1998
  • 5篇1997
  • 8篇1996
  • 1篇1995
共 41 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
薄膜沉积多级衍射光学元件的微型制作与误差标定的研究(英文)
1999年
应用光刻和薄膜沉积技术，制作了多级衍射光学元件。对制作误差和影响误差的因素进行了分析。给出了改善对准误差的标校方法，并在实际的多级衍射光学元件制作过程中得到验证。
付永启赵晶丽李吉学张新郑宣明
关键词：照相制版光学元件
提拉法涂胶提升速度的确定被引量：1
1997年
分析了提拉法涂胶中影响胶膜厚度的主要因素，并据此确定出胶膜厚度；用实验的手段拟合出胶膜厚度与提升速度间的曲线图及关系表达式，依据该表达式确定出与选取的胶膜厚度对应的提升速度，为实际操作提供了可靠的工艺参数。
付永启赵兴国
关键词：提拉法涂胶光刻胶
基于重离子径迹技术的超表面纳米天线阵列的制造方法及应用
本发明公开了基于重离子径迹技术的超表面纳米天线阵列的制造方法及应用，步骤S1：采用时域有限差分仿真软件设计纳米天线阵列；步骤S2：优化超聚焦点的聚焦度；步骤S3：制造基于超表面的纳米天线阵列；步骤S4：超表面的纳米天线阵...
付永启崔颂雅游依莎赵康伊
文献传递
柱面图形光学刻划的研究
1999年
柱面涂胶问题、刻划间隙的选取及新型光刻掩模板的研制是柱面图形光学刻划需解决的三大关键问题，本文以这三个问题为中心详细讨论了在圆柱面上光刻图形的方法。
付永启赵兴国赵晶丽
接近式光刻刻划间隙的确定被引量：3
1997年
接近式光刻刻划间隙的确定＊付永启（中国科学院长春光学精密机械研究所应用光学国家重点实验室长春１３００２２）０前言接近式光刻法是目前常用的光刻方法之一，该方法由于具有效率高、不损伤毛坯感光胶面等优点而被广泛采用，但该方法也有一缺点长期困扰着人们，这就是...
付永启
关键词：光刻衍射效应对比度
圆刻机轴系动态精度分析
1996年
本文从动态的角度分析了圆刻机在连续刻划时轴系误差与转速的变化关系，并求得系统的固有圆频率，为圆刻机的设计改造提供了一条理论依据。
付永启张作梅
菱形金属纳米粒子光学性质的研究被引量：3
2009年
金属纳米粒子的光学性质与金属纳米粒子的组成、形状、尺寸及周围的介电常数有关。利用时域有限差分法研究菱形纳米粒子的尺寸与其消光特性关系，发现粒子尺寸的大小对其消光谱共振峰有较大影响，随着粒子尺寸的增大，消光谱共振峰可分裂成两个或多个共振峰。而且在可见光范围内波长大于480nm的区域，表面等离子体共振峰是偶极子激发模式；而在波长小于480nm的区域，共振模式则比较复杂，有偶极子模式，也有多极子模式。计算表明，波长为480～600nm区间与波长大于600nm的区间，菱形纳米粒子的尺寸对消光光谱的峰值和谱线宽度影响不同。在波长为480600nm之间，短轴为140nm时，其消光效率最高。
黄鹏付永启杜惊雷周崇喜罗先刚
关键词：FDTD
一种基于表面等离子体准D型光子晶体光纤传感器
本发明公开了一种基于表面等离子体准D型光子晶体光纤传感器，属于光纤传感器领域。本发明传感器通过在纤芯两侧引入椭圆空气孔增强了双折射效应，改进了传感器的性能；使用ITO薄膜使得传感器的工作波长拓展到了近红外光波段；通过引入...
田家国徐成付永启
文献传递
误差均匀化效应的机理分析被引量：7
1997年
本文以精密圆刻划机为例，用机械动力学理论分析了误差均匀化效应的原理及作用机制，为机械设计及误差分析提供了理论依据。
付永启
基于金微纳锥形阵列结构的传感器及其制备方法和应用
本发明公开了一种基于金微纳锥形阵列结构的传感器及其制备方法和应用，涉及光学传感器领域。本发明包括基底、位于所述基底上的铜粘合层薄膜、位于所述铜粘合层薄膜上的金薄膜以及位于所述金薄膜上金微纳锥形阵列结构。本发明提供的基于金...
吴心成吴伟苏港付永启
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