姜春竹
- 作品数：21 被引量：7H指数：2
- 供职机构：哈尔滨工业大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划国家教育部博士点基金更多>>
- 相关领域：理学一般工业技术电气工程电子电信更多>>
- 一种采用热蒸发GeC制备石墨烯的方法
- 一种采用热蒸发GeC制备石墨烯的方法，它涉及一种石墨烯的制备方法。本发明要解决现在制备石墨烯的方法存在成本高、能耗高的问题。方法：一、清洗单晶硅片衬底；二、对清洗后单晶硅片衬底进行真空保温处理；三、首先进行启辉，然后进行...
- 朱嘉琦于海玲姜春竹韩杰才
- 文献传递
- 磁控共溅射制备高热稳定性无氢非晶碳化锗薄膜的方法
- 磁控共溅射制备高热稳定性无氢非晶碳化锗薄膜的方法，它涉及制备无氢非晶碳化锗薄膜方法。本发明现有方法得到的氢化碳化锗薄膜热稳定性差、高温红外性能下降的问题。本方法如下：将经过丙酮、质量浓度为99.5％的乙醇溶液和去离子水清...
- 朱嘉琦姜春竹韩杰才雷沛
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- 一种采用磁控溅射制备薄膜的方法
- 一种采用磁控溅射沉积制备薄膜的方法，它涉及薄膜的制备方法。它解决了现有溅射出的薄膜面积较磁控靶面积小、均匀性较差和靶材的利用率低的问题。本发明的方法为：一、选用靶材，并将衬底置于旋转加热台上；二、将加热台用真空仓密封，抽...
- 朱嘉琦姜春竹韩潇梁军
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- 溅射功率对碳化锗薄膜化学键的影响研究
- 朱嘉琦姜春竹贾振宇
- 关键词：化学键XPSRAMANFTIR
- 过滤电弧沉积非晶金刚石薄膜的光谱椭偏研究被引量：4
- 2006年
- 为了深入理解过滤阴极电弧沉积非晶金刚石薄膜的光学性质,利用光谱椭偏仪研究了薄膜光学常数随测试偏振光波长变化的谱学关系,进而分析了薄膜折射率、消光系数和光学带隙与沉积能量之间的变化规律。实验表明,非晶金刚石薄膜的折射率高于金刚石晶体的折射率,薄膜的吸收光谱在高吸收区可以用抛物线型函数描述,并由此计算Tauc带隙。随着波长向红外延伸,非晶金刚石薄膜的消光系数渐次降低并趋近于零,光学常数因沉积能量变化而实现的调整幅度也逐渐缩小。随着衬底偏压的增加,折射率和光学带隙都是先升高后减小,并在负偏压为80 V时有最大值;而消光系数却是先减小再升高,在负偏压为80 V时有最小值。
- 朱嘉琦韩杰才陶艳春姜春竹
- 关键词：光学性能
- 磁控共溅射制备无氢非晶碳化锗薄膜的方法
- 磁控共溅射制备无氢非晶碳化锗薄膜的方法，它涉及制备无氢非晶碳化锗薄膜方法。本发明现有方法得到的氢化碳化锗薄膜热稳定性差、高温红外性能下降的问题。本方法如下：将经过丙酮、质量浓度为99.5％的乙醇溶液和去离子水清洗的硫化锌...
- 朱嘉琦姜春竹韩杰才雷沛
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- 采用磁控溅射在碳化硅反射镜表面涂覆硅膜的方法
- 采用磁控溅射在碳化硅反射镜表面涂覆硅膜的方法，它涉及碳化硅反射镜表面的涂膜方法。它解决了现有反射镜的两相具有相差悬殊的硬度值，使抛光的均匀性受到影响，加工难度高；反射镜的粗糙度较高、表面易损伤的问题。本发明的方法为：一、...
- 朱嘉琦姜春竹韩潇贾泽纯韩杰才张宇民
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- 一种采用热蒸发GeC制备石墨烯的方法
- 一种采用热蒸发GeC制备石墨烯的方法，它涉及一种石墨烯的制备方法。本发明要解决现在制备石墨烯的方法存在成本高的问题。方法：一、清洗单晶硅片衬底；二、对清洗后单晶硅片衬底进行真空保温处理；三、首先进行启辉，然后进行溅射，即...
- 朱嘉琦于海玲姜春竹韩杰才
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- 一种采用磁控溅射制备薄膜的方法
- 一种采用磁控溅射沉积制备薄膜的方法，它涉及薄膜的制备方法。它解决了现有溅射出的薄膜面积较磁控靶面积小、均匀性较差和靶材的利用率低的问题。本发明的方法为：一，选用靶材，并将衬底置于旋转加热台上；二，将加热台用真空仓密封，抽...
- 朱嘉琦姜春竹韩潇梁军
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- 采用磁控溅射在碳化硅反射镜表面涂覆硅膜的方法
- 采用磁控溅射在碳化硅反射镜表面涂覆硅膜的方法，它涉及碳化硅反射镜表面的涂膜方法。它解决了现有反射镜的两相具有相差悬殊的硬度值，使抛光的均匀性受到影响，加工难度高；反射镜的粗糙度较高、表面易损伤的问题。本发明的方法为：一、...
- 朱嘉琦姜春竹韩潇贾泽纯韩杰才张宇民
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