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张传波

作品数:6 被引量:16H指数:3
供职机构:南昌航空大学轻合金加工科学与技术国防重点学科实验室更多>>
发文基金:江西省自然科学基金更多>>
相关领域:化学工程金属学及工艺一般工业技术更多>>

文献类型

  • 4篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇专利

领域

  • 3篇化学工程
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 4篇镀铜
  • 3篇化学镀
  • 3篇化学镀铜
  • 2篇阻抗谱
  • 2篇合金
  • 1篇电化学
  • 1篇电化学阻抗
  • 1篇电化学阻抗谱
  • 1篇镀铜工艺
  • 1篇镀铜液
  • 1篇氧化膜
  • 1篇乙二胺四乙酸
  • 1篇植酸转化膜
  • 1篇制备及性能
  • 1篇塑料
  • 1篇碳纤维
  • 1篇碳纤维表面
  • 1篇铜工艺
  • 1篇铜液
  • 1篇转化膜

机构

  • 6篇南昌航空大学
  • 1篇成都飞机工业...
  • 1篇中国航空工业...

作者

  • 6篇张传波
  • 5篇赵晴
  • 4篇杜楠
  • 4篇王帅星
  • 3篇赵琳
  • 1篇刘刚
  • 1篇雷明侠
  • 1篇王力强
  • 1篇严小梅
  • 1篇李园园
  • 1篇张小琴

传媒

  • 1篇腐蚀与防护
  • 1篇电镀与精饰
  • 1篇表面技术
  • 1篇中国腐蚀与防...

年份

  • 3篇2013
  • 2篇2012
  • 1篇2011
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
MB8镁合金植酸转化膜的制备及性能被引量:3
2011年
通过单因素实验优化镁合金植酸转化工艺,发现在植酸体积浓度为10 mL/L,pH=2.5,温度50℃,成膜时间20 min条件下,可在MB8镁合金表面制备出均匀一致的植酸转化膜。该膜层微观形貌与铬酸盐转化膜类似,表面呈现出均匀分布的网状微裂纹,类似于"龟裂的土地",膜层主要成分为Mg,O,P,Mn和C;动电位极化曲线测试发现MB8镁合金经植酸转化处理后,自腐蚀电流密度显著降低,表明植酸转化膜有效提高了MB8镁合金的耐蚀性。
张小琴赵晴王帅星严小梅张传波
关键词:镁合金植酸转化膜耐蚀性
ABS塑料快速化学镀铜研究
本文针对化学镀铜沉积速率慢的问题,研究了ABS塑料快速化学镀铜工艺。根据选定的基础配方,以沉积速率、镀液稳定性及镀层质量为评价指标,采用单因素试验对其进行优化;在化学镀铜过程中,以镀液中甲醛和铜离子的消耗量为指标调整镀液...
张传波
关键词:化学镀铜交流阻抗谱
文献传递
氧化时间对钛合金微弧氧化膜性能的影响被引量:9
2013年
研究了在含钙、磷的电解液中氧化时间对Ti6Al4V钛合金微弧氧化生物活性膜的厚度、粗糙度、表面形貌、相成分及氧化膜与基体结合力的影响。结果表明,氧化t低于12min时,随着氧化时间增加,微弧氧化膜的厚度增加、表面粗糙度增大、微观孔洞变大、膜层中钙磷含量及钙磷比增大、氧化膜与基体的结合力增强。氧化t为12min时膜层与基体的结合力较好,约30N。氧化t超过12 min以后,膜层表面出现裂痕,与基体的结合力减小。
赵琳赵晴雷明侠杜楠王帅星简志超张传波
关键词:微弧氧化TI6AL4V钛合金结合力
一种碳纤维表面的化学镀铜方法
本发明公开了一种在碳纤维表面快速化学镀铜方法,该工艺在碳纤维表面快速化学镀铜前无需敏化处理工艺,只要碳纤维经稀酸处理后直接与化学镀铜液接触,碳纤维表面即可获得铜镀层。提供的化学镀铜液是含有铜盐、甲醛、配位剂、稳定剂、加速...
赵晴张传波杜楠刘刚王帅星
文献传递
EDTA体系无氰碱性镀铜的电化学成核机理被引量:4
2013年
采用循环伏安法和计时电流暂态曲线研究了EDTA(乙二胺四乙酸)体系无氰碱性镀铜的电化学成核机理。结果表明,铜在玻碳电极上的沉积遵循3D"成核/生长"机制;计时电流暂态曲线分析表明,在高负电位下铜离子的结晶成核方式遵循瞬时成核机制,低负电位下则趋向遵循连续成核机制,且过电位增加会促进铜离子结晶形核,随最大电流Im增大,电结晶成核数增多。
赵晴赵琳杜楠张传波王力强简志超
关键词:碱性镀铜计时电流法
1.10-菲啰啉在以HCHO为还原剂的化学镀铜体系中的作用
2013年
通过实时分析镀液中HCHO含量,结合极化曲线、电化学阻抗谱及扫描Kelvin探针技术,研究了1.10-菲啰啉对化学镀铜液中HCHO利用率及镀层沉积行为的影响;采用SEM,XRD分析铜镀层微观形貌及结构。结果表明:1.10-菲啰啉能够加速HCHO的氧化,提高HCHO利用率;化学镀铜液中加入1.10-菲啰啉,能够明显降低镀液阻抗,提高混合电位下的自腐蚀电流密度,降低Cu在镀液中的表面电势,提高镀层沉积速率。镀液中加入1.5 mg·L-11.10-菲啰啉可使HCHO利用率从28%提高到39%,镀速增加50%;1.10-菲啰啉的加入可以提高Cu(111)晶面的择优取向程度,获得细致均匀的铜镀层。
赵晴张传波王帅星杜楠赵琳李园园
关键词:化学镀铜HCHO电化学阻抗谱
共1页<1>
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