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沈祖宏

作品数：3 被引量：3H指数：1
供职机构：上海交通大学更多>>
相关领域：电子电信环境科学与工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇学位论文
  • 1篇期刊文章

领域

  • 2篇电子电信
  • 1篇环境科学与工...

主题

  • 3篇电路
  • 3篇集成电路
  • 2篇因素及控制
  • 2篇光刻
  • 1篇电路制造
  • 1篇气相沉积
  • 1篇微振动
  • 1篇洗净
  • 1篇洁净度
  • 1篇控制方法
  • 1篇化学气相
  • 1篇化学气相沉积
  • 1篇环境因素
  • 1篇集成电路产业
  • 1篇集成电路制造
  • 1篇工艺废气
  • 1篇光刻设备
  • 1篇废气
  • 1篇废气处理

机构

  • 3篇上海交通大学

作者

  • 3篇沈祖宏
  • 1篇刘书俊

传媒

  • 1篇洁净与空调技...

年份

  • 2篇2012
  • 1篇2011
共 3 条 记 录，以下是 1-3
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排序方式：
集成电路制造中化学气相沉积工艺废气的处理被引量：1
2011年
集成电路制造过程中化学气相沉积(CVD)工艺生成大量有毒有害工艺废气,介绍在这道工序中工艺废气的成因及其无害化排放处理的过程。
沈祖宏刘书俊
关键词：化学气相沉积废气处理
环境因素及控制方法研究
集成电路产业是我国重点发展的新兴战略产业，国家集成电路十二五规划中明确了集成电路是国家战略性新兴产业，，集成电路制造业是集成电路产业中极其重要的一环。 集成电路制造是一个非常复杂的流程，其中光刻是其中最重要的环节。由于光...
沈祖宏
关键词：集成电路光刻微振动洁净度
文献传递
环境因素及控制方法研究——以集成电路工厂光刻区为例
集成电路产业是我国重点发展的新兴战略产业，国家集成电路十二五规划中明确了集成电路是国家战略性新兴产业，，集成电路制造业是集成电路产业中极其重要的一环。　　集成电路制造是一个非常复杂的流程，其中光刻是其中最重要的环节。由于...
沈祖宏
关键词：集成电路产业光刻设备环境因素控制方法
文献传递
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