浦东林
- 作品数：85 被引量：81H指数：6
- 供职机构：苏州大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划江苏省高校自然科学研究项目更多>>
- 相关领域：机械工程电子电信理学自动化与计算机技术更多>>
- 一种直写式光刻加工系统及光刻方法
- 一种直写式光刻加工系统和光刻方法，该光刻加工系统包括能够运用傅立叶展开计算功能的控制系统和由该控制系统控制实现多次光刻的曝光系统。该光刻方法依据傅立叶分析原理，将待刻曲面展开为傅立叶多项式，然后根据多项式中各项余弦函数进...
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- 微纳柔性制造与印刷电子材料被引量：6
- 2014年
- 微纳加工技术主要应用在光电子和IC领域,随着国际新一轮印刷电子技术的发展,电路线宽越来越细,对印刷电子材料与应用技术提出更高要求,传统印刷术很难实现数微米以下精密电路。针对国际行业研究现状、工艺及最新进展,详细阐述微纳柔性制造技术的原理与特点。基于微纳图形化激光直写光刻技术、卷对卷纳米压印技术及其配套(微纳填充、转印和软压印)技术,以大尺寸透明导电材料的研发为例,微纳柔性制造在106.68 cm幅面上使印刷电路的线宽达到1.5μm。微纳柔性制造方法属于"加法"制造。展望了柔性制造在印刷电子材料产业发展中的前景和需求,指出微纳柔性制造与印刷材料的结合,有可能成为新一轮大尺寸柔性显示与触控、传感器件等产业发展的有力工具和推动性力量。
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- 一种头戴式三维显示装置
- 本发明公开了一种头戴式三维显示装置，包括图像生成装置，和对应眼睛的可视镜片，所述可视镜片上设有至少一层设置有具有会聚成像功能的纳米结构功能薄膜，从而使得可视镜片成为具有光场变换功能的指向性功能镜片，所述指向性功能镜片上的...
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- 基于闪耀光栅图形化实现高分辨率干涉光刻被引量：3
- 2015年
- 为提高图形化干涉光刻质量,提出了基于闪耀光栅的图形化干涉光刻(PIIL)系统,并对该系统所采用的光学原理和实现方法进行了研究。首先,分析了图形化干涉光刻系统的光场特性,阐述了其分辨率提升的原理。讨论了光学系统带宽和图案分布对光刻图形质量的影响,给出了图形质量控制的工艺方法。其次,提出了一种新型的图形化干涉光刻方法,该方法采用闪耀光栅作为衍射分光器件,实现了位相和振幅的一体化调制。采用数值计算方法模拟了闪耀光栅的衍射特性和像面光场分布,讨论了闪耀光栅的优化设计方法,获得了高达92.3%的±1级衍射效率。最后,基于数字微镜器件(DMD)和微缩成像光路设计开发了图形化干涉光刻系统,实验获得了像素化的点阵图形和质量明显改善的光刻图像,验证了该方法对任意图形的适用性。
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- 关键词：傅里叶光学衍射效率激光直写数字微镜器件
- 光刻胶傅里叶全息图的记录条件及防伪应用研究
- 采用电寻址液晶空间光调制器作为存储系统的组页器,常规CCD探测器作为重构图像的检测器件,实验研究了在光刻胶干板上记录黑白二值条纹图像的傅里叶全息图时,记录条件对重构图像信噪比的影响.实验结果表明,对于给定的系统及记录介质...
- 浦东林
- 关键词：光刻胶信噪比图像编码复用技术防伪
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- 一种反射式分光光栅及干涉光刻系统
- 一种反射式分光光栅及干涉光刻系统，该反射式分光光栅包括位于反射面的光栅槽形区和位于该光栅槽形区外围的阻光区，所述光栅槽形区包括周期性分布的光栅结构，该光栅结构具有槽形反射面和非反射区，所述槽形反射面与光栅基面之间形成一斜...
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- 文献传递
- 激光直写光刻机制作的三维微纳形貌结构及其制备方法
- 本发明提供一种激光直写光刻机制作的三维微纳形貌结构及其制备方法。所述制备方法包括：提供三维模型图；将所述三维模型图在高度方向上进行划分，获得至少一个高度区间；将三维模型图在平面上进行投影得到映射关系，映射关系包括三维模型...
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- 非周期微纳结构器件智能化制造技术与应用
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- 1.来源与背景：该成果是先进制造技术的新方法、关键器件研制的原始创新、自主研发。微纳米尺度的周期结构具有彩虹色散效应。而非周期性微结构能定向控制光线发散方向，消除色散，均匀光强，可将LED点光源转换为面光源、提高平板显示...
- 关键词：
- 双光束干涉光刻方法和系统
- 本发明公开了一种双光束干涉光刻方法和系统，其方法包括：两路光束在加工工件表面实现N次干涉曝光，相邻两次曝光位置之间的错位值为d<Sub>I</Sub>/N，其中，N≥2，d<Sub>I</Sub>为曝光后的光强分布的周期...
- 胡进浦东林
- 文献传递
- 一种基于空间光调制器的微透镜阵列制备技术被引量：11
- 2012年
- 提出了一种基于空间光调制器的并行光刻制备微透镜阵列的技术。采用数字微反射镜器件输入光刻图形,结合热回流技术,制作任意结构和排布的微透镜阵列。无限远校正显微微缩光学系统的长焦深保证了深纹光刻的实现,热回流法提供了良好的表面光滑度。与传统逐层并行光刻和掩模曝光技术相比,提出的技术方案更加便捷灵活,特别适合制作特征尺寸在数微米至百微米的微透镜阵列器件。得到的微透镜阵列模版经过电铸转移为金属模具,利用紫外卷对卷纳米压印技术在柔性基底上制备微透镜阵列器件,在超薄液晶显示、有机发光二极管(OLED)照明等领域有广泛应用。
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- 关键词：光学制造微透镜阵列光刻空间光调制器
