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田浩

作品数:16 被引量:1H指数:1
供职机构:中国科学院上海微系统与信息技术研究所更多>>
相关领域:电子电信一般工业技术理学自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 8篇会议论文
  • 7篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 6篇电子电信
  • 4篇一般工业技术
  • 3篇理学
  • 2篇自动化与计算...

主题

  • 14篇总剂量
  • 14篇总剂量辐射
  • 8篇总剂量辐射效...
  • 6篇SOI
  • 5篇离子注入
  • 5篇
  • 4篇绝缘
  • 4篇绝缘体
  • 4篇绝缘体上硅
  • 3篇阈值电压
  • 3篇沟道
  • 3篇SIMOX
  • 3篇SOI_MO...
  • 2篇电场
  • 2篇电场分布
  • 2篇总剂量效应
  • 2篇阈值电压漂移
  • 2篇SOI材料
  • 2篇SRAM
  • 2篇材料性能

机构

  • 16篇中国科学院
  • 4篇中国科学院研...
  • 1篇中国科学院大...

作者

  • 16篇田浩
  • 14篇张正选
  • 13篇王茹
  • 13篇俞文杰
  • 12篇陈明
  • 12篇贺威
  • 4篇张恩霞
  • 4篇钱聪
  • 3篇毕大炜
  • 3篇王曦
  • 2篇刘张李
  • 2篇杨惠
  • 2篇张帅

传媒

  • 3篇功能材料
  • 2篇高能物理与核...
  • 2篇功能材料与器...
  • 1篇第五届粒子物...
  • 1篇第十五届全国...
  • 1篇第六届中国功...

年份

  • 4篇2009
  • 11篇2007
  • 1篇2006
16 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
部分耗尽SOI MOSFET总剂量效应与偏置状态的关系
实验表明SOI MOSFET掩埋氧化层中的总剂量辐射效应与辐射过程中的偏置状态有关.对诱发背沟道泄漏电流的陷阱电荷进行了研究.建立一个数值模型来模拟不同偏置下陷进电荷的建立,它包括辐射产生的载流子复合和俘获的过程.模拟结...
俞文杰王茹张正选钱聪贺威田浩陈明
关键词:总剂量辐射效应载流子复合
文献传递
应用于抗辐照SRAM的地址转换监控电路的设计
本文介绍了一种新型的抗噪声地址转换监控(ATD)电路。在CMOS静态存储电路中,ATD信号作为重要的触发信号加快了数据读出速度。对于应用于辐照环境下的SRAM来说,ATD电路需满足极高的抗噪声干扰的要求。我们利用SR触发...
田浩张正选刘张李俞文杰王茹张帅毕大炜陈明
文献传递
不同源CMOS/SOI器件的总剂量辐射异同性研究及ESD保护电路的设计
由于SOI材料中绝缘埋层(BOX)的存在,使得SOI器件抗总剂量辐射能力不足,并且静电放电问题也较为严重,这两方面问题严重制约了SOI技术在空间环境中的应用。对器件进行总剂量辐射加固研究必须依靠地面上的辐射源进行辐射评估...
田浩
浮栅存储器的总剂量辐射效应研究进展
本文对浮栅存储器的总剂量辐射效应进行详细分析和讨论,主要内容包括浮栅存储器控制电路和存储单元的总剂量辐射效应。指出:总剂量辐射效应对浮栅存储器的影响主要是在隧道氧化层、栅之间的绝缘层中产生电荷,引起浮栅上电荷的变化。
刘张李张正选毕大炜张帅田浩俞文杰陈明王茹
关键词:控制电路总剂量辐射效应
文献传递
部分耗尽SOI MOSFET总剂量效应与偏置状态的关系(英文)
2007年
实验表明SOI MOSFET掩埋氧化层中的总剂量辐射效应与辐射过程中的偏置状态有关.对诱发背沟道泄漏电流的陷阱电荷进行了研究.建立一个数值模型来模拟不同偏置下陷进电荷的建立,它包括辐射产生的载流子复合和俘获的过程.模拟结果与实验结果相符,解释了总剂量辐射效应受偏置状态影响的机理.
俞文杰王茹张正选钱聪贺威田浩陈明
关键词:总剂量辐射
SOI器件总剂量辐射效应研究进展
绝缘体上的硅(Silicon on Insulator,SOI)技术凭借其全介质隔离的特殊结构,成为制造抗辐射集成电路的首选技术。然而由于埋氧化层的存在,使得SOI器件的总剂量效应比体硅器件更为复杂。本文将阐述埋氧化层中...
俞文杰张正选田浩王茹毕大伟陈明张帅刘张李
文献传递
利用硅离子注入提高SOI材料的抗辐射性能(英文)
研究采用硅离子注入及高温退火的方法对 SOI 材料进行抗辐射加固.通过对比发现,制作在加固 SOI 衬底上的 NMOS 器件和 CMOS 反相器在总剂量辐射下性能恶化程度大大降低.陷阱电荷和界面电荷的分析解释了加固机理....
俞文杰张正选贺威田浩陈明王茹毕大炜
关键词:总剂量辐射离子注入
文献传递
部分耗尽SOI MOSFET总剂量辐射效应的最恶劣偏置状态(英文)被引量:1
2007年
通过实验研究了部分耗尽SOI NMOSFET总剂量辐射效应与辐射时的偏置状态的关系,实验结果表明TG(Transition Gate)是最恶劣的偏置状态。随后分别用MEDICI模拟软件和数值模型模拟掩埋氧化层中的电场强度与空穴俘获率。模拟结果合理地解释了实验结果,掩埋氧化层中的高电场和高空穴俘获率是TG为最恶劣偏置状态的主要原因。
俞文杰张正选张恩霞钱聪贺威田浩陈明王茹
关键词:SOI总剂量辐射
SOI NMOS晶体管在高剂量的X射线与^(60) Coγ射线辐射作用下的背栅阈值电压漂移饱和效应的研究及比对
2007年
利用标准SIMOX材料制作了部分耗尽环型栅NMOS晶体管,并在ON偏置条件下分别对其进行了10keV X射线及^(60)Coγ射线总剂量辐照实验。实验结果表明,在两种辐射条件下NMOS晶体管的背栅阈值电压漂移量都会随着辐照剂量的升高而趋于饱和。实验分析并研究了这种现象的机理,并发现在较低的辐照剂量下^(60)Coγ射线造成的背栅阈值电压漂移量较大,但在高剂量条件下X射线造成的漂移量将超过^(60)Coγ射线。
田浩张正选张恩霞贺威俞文杰王茹
关键词:注氧隔离总剂量辐射效应MOS晶体管
一种应用于部分耗尽型SOI SRAM的高速低功耗TTL与CMOS接口电路
介绍了一种新型分离自偏置TTL与CMOS接口电路。该电路具有高速、低功耗的优点,且其逻辑阈值电压对于工艺和电源电压的变化均不敏感,因而非常适宜应用于受电源噪声影响较大的SOI静态随机存取存储器电路中。
田浩张正选张恩霞贺威俞文杰王茹陈明
关键词:接口电路阈值电压
共2页<12>
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