耿学文
- 作品数：8 被引量：22H指数：3
- 供职机构：哈尔滨工业大学更多>>
- 发文基金：教育部“新世纪优秀人才支持计划”辽宁省自然科学基金国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：金属学及工艺一般工业技术电子电信理学更多>>
- Pt纳米粒子辅助化学刻蚀制备硅减反射层被引量：3
- 2010年
- 制备高效硅太阳能电池,需要在整个太阳光谱范围内进行有效陷光和保持低反射率。基于贵金属粒子湿法辅助刻蚀方法,在P型(100)单晶硅表面溅射了一层厚度为1～5 nm的非连续分布Pt粒子层作为催化剂,浸入HF/H2O2的水溶液中进行湿法刻蚀,制备的减反射层在300～800 nm入射光波段范围的平均减反射率低于7%,减反射效果明显优于传统的热碱溶液刻蚀单晶硅所得的织构。通过进一步优化工艺参数,并增镀SiNx等减反射膜,陷光效果将会进一步提高。研究结果为高效太阳能电池的设计提供了新思路。
- 耿学文李美成尚春宇
- 关键词：硅衬底催化剂
- 6061Al搅拌摩擦焊焊缝腐蚀研究
- 搅拌摩擦焊是一项新型固态连接技术,近年来在航空航天、汽车工业等领域得到了广泛应用。其工艺特性导致各焊缝微区组织和应力状况不同,从而展现出不同的腐蚀行为。文章首先综述了近年来国内外搅拌摩擦焊焊缝腐蚀行为的研究进展,分析了影...
- 耿学文
- 关键词：搅拌摩擦焊
- 文献传递
- 搅拌摩擦焊焊缝腐蚀研究进展被引量：4
- 2007年
- 搅拌摩擦焊是一项新型固态连接技术,近年来在航空航天、汽车工业等领域得到了广泛应用。其工艺特性导致各焊缝微区组织和应力状况不同,从而展现出不同的腐蚀行为。综述了近年来国内外搅拌摩擦焊焊缝腐蚀行为的研究进展,分析了影响焊缝腐蚀的因素,展望了发展趋势。
- 耿学文朱丽娟贺春林范希会才庆魁
- 关键词：搅拌摩擦焊
- 银辅助化学刻蚀半导体材料被引量：4
- 2012年
- 微电子器件的发展趋势是小型化和多功能化,这就对半导体材料的加工技术提出了更高的要求。与传统的加工技术相比,近年发展起来的贵金属粒子辅助化学刻蚀半导体材料制备微结构技术因操作简单、不需要精密设备、反应迅速和可批量生产等优点引起了国内外学者的广泛关注。本文以Si为主,详细介绍了Ag辅助化学刻蚀半导体材料的机理、反应现象及影响因素,总结了各种微结构的制备技术及其应用。此外,对Ge,Si1-xGex和GaAs等其他半导体材料的贵金属粒子辅助化学刻蚀技术也进行了综述。同时分析了贵金属粒子辅助化学刻蚀半导体目前存在的问题,并对未来的研究方向进行了展望。
- 耿学文贺春林徐仕翀李俊刚朱丽娟赵连城
- 关键词：银半导体
- 贵金属粒子催化刻蚀制备硅太阳能电池减反射层研究进展被引量：3
- 2010年
- 贵金属纳米粒子催化性能的研究已成为当前新材料及能源科学研究领域的热点之一。最近,在用贵金属粒子作为催化剂,辅助刻蚀硅衬底制作太阳能电池减反射层方面开展了大量的研究工作。综述了近年来贵金属粒子催化刻蚀硅制备减反射层的研究进展,分析了贵金属粒子的催化机理和减反射层制作的影响因素,展望了贵金属粒子催化刻蚀薄膜太阳能电池硅衬底研究的发展趋势。
- 耿学文李美成
- 关键词：催化剂硅衬底
- LPCVD制备微晶硅薄膜及热处理工艺研究
- 采用低压化学气相沉积(LPCVD)方法在单面抛光的n型(100)4寸硅片上沉积了微晶硅薄膜,沉积薄膜前用湿氧氧化法在硅片表面氧化SiO2层作为扩散阻挡层。用普通氧化铝管式炉加热处理制成的微晶硅薄膜制备多晶硅薄膜。选取了6...
- 袁媛耿学文李美成
- 关键词：多晶硅薄膜退火温度
- 文献传递
- 薄膜太阳能电池硅衬底陷光结构的研究进展被引量：11
- 2010年
- 制备高效硅薄膜太阳能电池,需要在整个太阳光谱范围内进行有效陷光和保持低反射率。最近,对于硅衬底的陷光结构展开了大量的研究工作。综述了近年来硅衬底陷光结构的研究进展,分析了陷光结构制作的影响因素,展望了薄膜太阳能电池硅衬底陷光结构研究的发展趋势。
- 耿学文李美成赵连城
- 关键词：薄膜太阳能电池硅衬底陷光结构
- 化学刻蚀制备硅和氮化镓微纳结构的光学性能和应用研究
- 在HF/H2O2溶液中用贵金属催化刻蚀(MacEtch)方法加工半导体具有独特的优势,近年来引起了广泛关注。这是一种全新的湿法刻蚀技术,可用来制备多种微纳结构,经验证,该加工技术对于块体和薄膜半导体材料均能实现快速加工,...
- 耿学文
- 关键词：氮化镓光学性能
- 文献传递
