苏树新
- 作品数：13 被引量：9H指数：2
- 供职机构：中国原子能科学研究院放射化学研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：核科学技术理学金属学及工艺农业科学更多>>
- 土壤中锶-90快速分析方法的重复性和再现性被引量：1
- 1995年
- 本文报道了土壤中锶-90快速分析方法的精密度试验结果。各实验室对4个不同放射性活度水平的参考土壤样品中锶-90的分析结果总平均值分别为230±0.23Bq/kg,12.12±0.59Bq/kg,70.33±2.52Bq/kg和318.0±6.8Bq/kg,与参考值2.52Bq/kg,12.46Bq/kg,66.24Bq/kg和314.2Bq/kg接近,相对误差各为8.7％,2.7％,6.2％和1.2％。结果表明文献[1]中推荐的土壤中锶-90的快速分析方法是可行的。
- 贾国纲杜秀领李树棠苏树新李春生林敏陈云东
- 关键词：土壤锶-90
- 脉冲电镀制备镧、锕系元素厚源(靶)
- 制源或制靶技术是核化学研究中的关键技术之一,在核化学研究、核数据测量等领域都涉及到放射性靶子或源的制备。靶子或源的质量大小、均匀性、牢固程度直接影响所开展研究工作能否顺利进行。在超铀核或超重核的实验平,必须要涉及到重锕系...
- 杨春莉苏树新张生栋
- 文献传递
- Pu源、靶制备技术与方法
- <正>自从1940年Seaborg等用16MeV的氘轰击铀发现了238Pu之后,Pu作为一种人造元素成为工业领域和自然科学史上最有应用价值的元素之一,在核能领域和超重核素研究方面的重要性几乎超过其他所有人造元素。在诸多涉...
- 杨春莉张生栋丁有钱苏树新
- 文献传递
- 脉冲分子镀技术制备铀靶方法研究
- 目前,分子镀技术是被国内外广泛采用的制备较高质量锕系元素源、靶的技术。传统的分子镀均使用直流电源进行电沉积,制备的源,靶往往具有内应力大,易开裂,沉积厚度有限(厚度上限一般在1mg/cm以内)等缺陷,已不能满足目前核化学...
- 杨春莉苏树新张生栋
- 文献传递
- 脉冲分子镀技术制备铀靶
- 自上世纪70年代以来,为了研究重元素的化学行为,锕系靶被用来合成多种重元素的富中子同位素, 制备此类用于裂变截面测量或加速器轰击的锕系元素靶子。大多采用分子镀技术。传统的分子镀技术均使用直流电源,直流分子镀制备的源,靶内...
- 杨春莉苏树新张生栋
- 文献传递
- 11．3MeV中子诱发238U裂变的质量分布
- 本文报告关于裂变产物产额的一个新的测量结果。裂变产额重要的核数据,在不同类型的反应堆的设计和运行中有重要的应用。诸如燃耗的评价、衰变热的计算、裂变产物核素和重元素的生产以及屏蔽计算都需要裂变产物产额数据。对中子诱发 U—...
- 李泽王秀芝敬克兴崔安智刘永辉李大明戚大海李学良刘从贵苏树新唐培家刘大明张淑兰张生栋郭景儒
- 文献传递
- 裂变谱中子诱发^(238)U裂变的质量分布
- 1991年
- 本工作测量了40个质量链(A=83-161)的产额值。实验值描绘了一条完整的质量分布曲线,在该曲线下的产额值的总和为197.2％,与理论值200％很好符合,实验测量的产额值总和为141％(其中轻峰为52.65％,重峰为72.24％),轻峰和重峰的平均质量数分别为97.5和139.0,对应于每次裂变平均释放的中子数为2.5个,与编评值2.57相一致。
- 苏树新刘永辉张素静刘从贵王秀芝戚大海唐培家
- 关键词：铀裂变中子诱发
- 分子镀法制备Th-232靶
- 采用分子电镀法,以异丙醇体系为电镀介质,采用改进的电镀槽垫片,在带有靶框的2～8μmAl箔衬底上直接电沉积Th-232。实现了镀液不泄露、装卸μm级别的Al箔不破裂的要求。通过研究体系酸度,得到分子镀Th的最佳沉积条件,...
- 杨春莉吴俊德苏树新杨金玲
- 关键词：异丙醇
- 文献传递
- 放射化学中子活化分析法测定高放废液中的129Ⅰ被引量：3
- 1992年
- 为了测定高放废液中的^(129)I 含量本文建立了一个放射化学活化分析方法。样品在加入^(131)I 示踪剂后进行放化分离,以^(131)I 定化学收率,然后以液体形式进行中子活化。活化后加入碘载体再次进行放化分离,以 AgI 形式测量^(130)I。用^(197)Au(n,γ)^(198)Au 作为活化参考标准。在中子通量密度3×10~9cm^(-2)·s^(-1)下本方法的灵敏度达1×10^(-9)g。共分析了十二个高放废液样品。由于全部样品的^(129)I 含量都在本方法的灵敏度以下,所以只能给出^(129)I 浓度的上限值。
- 崔安智郭景儒唐培家苏树新刘大鸣张淑兰
- 关键词：高放废液活化分析
- 脉冲分子镀制备铀靶方法研究被引量：4
- 2007年
- 采用脉冲电沉积方法,以N,N-二甲基甲酰胺(DMF)体系为电镀介质,研究了电极距离、溶剂DMF的体积、沉积时间、铀的质量浓度、阴极材料等对镀层性能和铀沉积率的影响,得到在DMF中脉冲分子镀铀的最佳条件,制备得到的靶面平整、牢固。用扫描电镜分析了铀靶的形貌和组成,采用测厚仪分析了铀靶厚度的均匀性。结果表明,在脉冲电沉积中,铀是非均匀沉积,靶面密度为0.2～2.0 mg/cm^2。
- 杨春莉苏树新张生栋
- 关键词：DMF均匀性
