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许欣翔

作品数:7 被引量:2H指数:1
供职机构:中山大学更多>>
相关领域:电气工程更多>>

文献类型

  • 4篇专利
  • 2篇会议论文
  • 1篇学位论文

领域

  • 4篇电气工程

主题

  • 7篇电池
  • 7篇太阳电池
  • 4篇多晶
  • 4篇多晶硅
  • 3篇晶体硅
  • 3篇硅片
  • 3篇硅太阳电池
  • 2篇氮化硅
  • 2篇氮化硅薄膜
  • 2篇电极
  • 2篇多晶硅片
  • 2篇掩模
  • 2篇显示汉字
  • 2篇铝膜
  • 2篇金属
  • 2篇金属电极
  • 2篇晶体硅太阳电...
  • 2篇硅薄膜
  • 2篇焊条
  • 1篇单晶

机构

  • 7篇中山大学

作者

  • 7篇许欣翔
  • 4篇沈辉
  • 2篇艾斌
  • 2篇贾晓洁
  • 2篇陈奕峰
  • 2篇杨江海
  • 2篇梁学勤
  • 1篇卢庆韦
  • 1篇郭志球
  • 1篇刘超
  • 1篇柳锡运
  • 1篇郑广富
  • 1篇陶龙忠

传媒

  • 1篇2007中国...
  • 1篇第九届中国太...

年份

  • 1篇2015
  • 1篇2013
  • 1篇2011
  • 1篇2010
  • 2篇2007
  • 1篇2006
7 条 记 录,以下是 1-7
排序方式:
一种太阳电池背面处理方法
本发明公开了一种太阳电池背面处理方法,包括以下步骤:1)采用磁控溅射的方法在多晶硅片的一面镀上铝膜;2)对上述镀上铝膜后的多晶硅片进行酸制绒;3)采用离子注入的方法对制绒后的硅片进行磷扩散;4)扩散后的硅片进行退火;5)...
赖键均艾斌贾晓洁许欣翔杨江海
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一种采用掩模制备保护太阳电池细栅线金属电极的彩色薄膜的方法
一种采用掩模制备保护太阳电池细栅线金属电极的彩色薄膜的方法,该方法是在制备太阳电池后,在太阳电池前表面利用掩模对主栅线金属电极进行覆盖,在未被掩模覆盖的区域进行二次镀膜,制备保护细栅线金属电极的介质层,形成介质层-细栅线...
沈辉陈奕峰许欣翔梁学勤
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晶体硅电池绒面工艺的研究及中试设备的设计
本文研究了溶液成分、配比、腐蚀温度、腐蚀时间等因素对太阳电池绒面的影响,优化适合于工业化生产、经济有效的单晶硅和多晶硅绒面制备技术.通过SEM和HitachiU-4100分光光度计测试,结果显示制备出的单晶硅和多晶硅太阳...
陶龙忠沈辉郑广富许欣翔郭志球柳锡运
关键词:晶体硅电池太阳电池
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多晶硅太阳电池表面织构化工艺的研究
表面织构化(制作绒面)是提高太阳电池效率的重要手段。多晶硅表面织构工艺,目前在工业化生产中还没有全面推广。如何判绒面的质量,以及如何实现稳定的工业生产等问题还有待解决。本文研究了以硝酸和氢氟酸为基础的腐蚀液对多晶硅表面的...
许欣翔
关键词:多晶硅太阳能电池微观形貌
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一种太阳电池背面处理方法
本发明公开了一种太阳电池背面处理方法,包括以下步骤:1)采用磁控溅射的方法在多晶硅片的一面镀上铝膜;2)对上述镀上铝膜后的多晶硅片进行酸制绒;3)采用离子注入的方法对制绒后的硅片进行磷扩散;4)扩散后的硅片进行退火;5)...
赖键均艾斌贾晓洁许欣翔杨江海
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太阳电池用晶体硅片绒面制备的研究
本文研究了太阳电池用单晶硅片和多晶硅片绒面的制备工艺。分别用Na2C03/NaHC03和NaOH/异丙醇(IPA)体系制备出了单晶硅片减反射绒面,分析了两者的优劣和影响绒面制备的各种因素。研究了HF/HN03体系在制备多...
刘超卢庆韦许欣翔沈辉
关键词:单晶硅多晶硅太阳电池
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一种采用掩模制备保护太阳电池细栅线金属电极的彩色薄膜的方法
一种采用掩模制备保护太阳电池细栅线金属电极的彩色薄膜的方法,该方法是在制备太阳电池后,在太阳电池前表面利用掩模对主栅线金属电极进行覆盖,在未被掩模覆盖的区域进行二次镀膜,制备保护细栅线金属电极的介质层,形成介质层-细栅线...
沈辉陈奕峰许欣翔梁学勤
共1页<1>
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