您的位置: 专家智库 > >

郭宗福

作品数:8 被引量:6H指数:2
供职机构:湖南大学更多>>
发文基金:国家科技重大专项湖南省研究生科研创新项目国家自然科学基金更多>>
相关领域:金属学及工艺机械工程更多>>

文献类型

  • 4篇专利
  • 2篇期刊文章
  • 2篇学位论文

领域

  • 3篇金属学及工艺
  • 2篇机械工程

主题

  • 4篇抛光
  • 2篇研磨
  • 2篇元件
  • 2篇抛光表面
  • 2篇曲面
  • 2篇去除函数
  • 2篇自由曲面
  • 2篇网格
  • 2篇网格划分
  • 2篇矩阵
  • 2篇矩阵运算
  • 2篇回转
  • 2篇遍历
  • 1篇研抛
  • 1篇有限元
  • 1篇有限元分析
  • 1篇陶瓷
  • 1篇陶瓷材料
  • 1篇抛光加工
  • 1篇抛光设备

机构

  • 8篇湖南大学

作者

  • 8篇郭宗福
  • 5篇金滩
  • 4篇吴耀
  • 3篇尚振涛
  • 3篇谢桂芝
  • 2篇易军
  • 2篇李平
  • 1篇盛晓敏
  • 1篇李平

传媒

  • 1篇制造技术与机...
  • 1篇金刚石与磨料...

年份

  • 1篇2018
  • 1篇2017
  • 3篇2016
  • 1篇2014
  • 2篇2012
8 条 记 录,以下是 1-8
排序方式:
一种回转弹性体及研磨抛光设备
本发明公开了一种回转弹性体研抛装置及研磨抛光设备。所述回转弹性体研抛装置包括用于装在转轴上的轮毂,包绕在轮毂外周上的环形的弹性本体,以及固定在弹性本体外周上的研磨元件或抛光元件。所述研磨抛光设备包括机床本体和上述的回转弹...
金滩卢安舸郭宗福吴耀
文献传递
超精密流体射流抛光加工技术研究与工艺系统开发
目前,对于流体射流抛光加工技术的应用研究相对较少,且主要集中于去除机理研究、去除函数的优化及工艺参数实验等方面。本文通过研究磨粒水射流加工技术进行快速、可靠的确定性去除的控制方法和工艺参数,及其对去除效率和去除函数轮廓造...
郭宗福
关键词:去除函数
一种遍历连续抛光表面的随机路径生成方法
本发明公开了一种遍历连续抛光表面的随机路径生成方法,首先对加工表面的面形进行建模,并将影响路径密度的路径间距输入到控制界面中,加工表面可以是连续的平面、球面、非球面、离轴非球面和自由曲面,并且该表面中可以包含一个或多个子...
金滩郭宗福李平尚振涛易军吴耀谢桂芝
文献传递
金属陶瓷材料高速超高速磨削性能试验研究被引量:3
2012年
通过考察工艺参数(砂轮线速度、工作台速度和磨削深度)对磨削力、表面粗糙度及工件表面微观形貌的影响及最大未变形切屑厚度与比磨削能的关系,探讨了金属陶瓷材料的高速超高速磨削性能,即提高砂轮线速度,可使磨削力、表面粗糙度值大幅减小,材料塑性去除趋势增强;提高磨削深度和工作台速度将使磨削力和表面粗糙度值变大,材料脆性断裂去除趋势增强;提高砂轮线速度,可使最大未变形切屑厚度减小,比磨削能增大;提高磨削深度和工作台速度将使最大未变形切屑厚度变大,比磨削能减小。试验结果表明高速超高速磨削技术能够降低金属陶瓷材料出现崩边和裂纹现象的几率,并实现高效精密加工。
尚振涛郭宗福谢桂芝盛晓敏
关键词:金属陶瓷表面粗糙度
一种遍历连续抛光表面的随机路径生成方法
本发明公开了一种遍历连续抛光表面的随机路径生成方法,首先对加工表面的面形进行建模,并将影响路径密度的路径间距输入到控制界面中,加工表面可以是连续的平面、球面、非球面、离轴非球面和自由曲面,并且该表面中可以包含一个或多个子...
金滩郭宗福李平尚振涛易军吴耀谢桂芝
文献传递
9SiCr超高速磨削试验研究与磨削温度仿真
9SiCr合金钢韧性较好,具有较好的回火稳定性、热处理时变形小,经淬火后硬度能达到HRC60,它这一系列优良的机械物理性能预示了它在以后的工业生产中将继续得到大量的应用。在机床行业中,经过淬火的9SiCr合金钢因为拥有较...
郭宗福
关键词:超高速磨削有限元分析
文献传递
一种回转弹性体研磨抛光方法
本发明公开了一种回转弹性体研磨抛光方法。所述研磨抛光方法利用回转弹性体研磨抛光设备对工件进行研磨抛光;所述研磨抛光方法包括如下步骤:S1、将回转弹性体研磨抛光装置安装在主轴箱下部主轴头上;将待加工工件安装在回转工作台上,...
金滩卢安舸郭宗福吴耀
文献传递
提升磨料水射流抛光去除效率的参数研究被引量:2
2017年
具有独特优势的磨粒水射流抛光技术,由于去除效率低,在加工超精密光学元件中的应用受到了一定的限制。本研究通过实验和仿真,分析了喷嘴直径和射流压力对去除函数、去除效率和确定性修形加工的影响。实验结果表明:喷嘴直径在一定尺寸范围内增加,可以有效地提升去除效率,超过一定尺寸后,去除效率增加减慢,去除函数的宽度变化要远大于喷嘴直径的变化;随射流压力增大,去除函数深度呈指数增加,去除函数轮廓由W形转变为双W形。通过建立回转函数来模拟偏心回转射流的方法,验证了变形后的去除函数在确定性抛光加工中具有很好的适用性,并且该方法可以用在采用垂直射流直接进行超精密表面的确定性抛光加工上。
郭宗福郭宗福金滩曲美娜李平
共1页<1>
聚类工具0