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黄建兴

作品数:5 被引量:3H指数:1
供职机构:华南师范大学更多>>
相关领域:电子电信化学工程自动化与计算机技术电气工程更多>>

文献类型

  • 4篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 3篇电子电信
  • 1篇化学工程
  • 1篇电气工程
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 3篇高聚物
  • 2篇电容
  • 2篇电容器
  • 2篇电容性
  • 2篇电容性能
  • 2篇湿敏
  • 2篇光刻
  • 1篇镀膜
  • 1篇性能分析
  • 1篇湿敏电容
  • 1篇湿敏电容器
  • 1篇酯型
  • 1篇温度传感器
  • 1篇响应性能
  • 1篇聚酯
  • 1篇聚酯型
  • 1篇抗蚀
  • 1篇抗蚀性
  • 1篇刻蚀
  • 1篇光刻版

机构

  • 5篇华南师范大学

作者

  • 5篇黄建兴
  • 3篇李光云
  • 2篇陈佩娴
  • 1篇吕广镛

传媒

  • 2篇华南师范大学...
  • 1篇仪表技术与传...
  • 1篇广东化工
  • 1篇第三届全国敏...

年份

  • 3篇1993
  • 1篇1992
  • 1篇1989
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
高抗蚀性的聚酯型光刻胶被引量:2
1989年
聚酯型光刻胶是国内常用的光刻胶,其特点是分辨率高,可以刻蚀1~2μm的细线,因此在集成电路器件工业中常用于刻蚀细线。国内目前生产的聚酯型光刻胶是聚肉桂叉丙二酸乙二酯(乙胶),虽可刻蚀细线但抗蚀性较差,如提高其分子量以满足抗蚀性,则又仅可用于刻蚀4μm左右的线条。
吕广镛杨年光黄建兴
关键词:光刻胶聚酯型抗蚀性
一种新型高聚物材料湿敏电容性能的研究
1992年
本文叙述用聚内桂叉丙乙酸乙二醇—1.4丁二醇酯(简称JZ—YD)制造湿敏电容器的工艺条件和响应性能,并对实验结果进行了讨论.
李光云陈佩嫻任进勇林大流黄建兴杨年光廖秉良
关键词:湿敏电容器高聚物响应性能
全文增补中
铜膜电阻温度传感器研制中的几个关键技术分析
1993年
本文分析讨论研制钢膜电阻温度传感器的几个关键技术和工艺,并说明光刻版的设计要与实验室的工艺条件相适应;蒸发源的纯度、镀膜室的真空度和基片的温度对镀膜的质量有重要影响;镀膜厚度对器件互换性有重大影响,光刻时要防止到蚀过量和刻蚀不足等.文中还公开了作者在这些方面的做法和体会.
李光云陈佩娴任进勇黄建兴杨年光林大流
关键词:温度传感器光刻版镀膜刻蚀
高聚物湿敏电容性能的研究
李光云黄建兴
关键词:高聚物性能分析电容器
一种高聚物新材料湿敏电容元件的研究被引量:1
1993年
本文叙述用聚肉挂叉丙二酸乙二醇—1.4丁二醇酯(简称JZ—YD)制造湿敏电容元件的工艺条件和响应性能,并对实验结果进行了讨论。
李光云黄建兴陈佩娴
关键词:高聚物
共1页<1>
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