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屈展

作品数:3 被引量:8H指数:2
供职机构:江苏大学材料科学与工程学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金江苏省高校自然科学研究项目江苏省自然科学基金更多>>
相关领域:理学一般工业技术更多>>

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 2篇一般工业技术
  • 2篇理学

主题

  • 2篇射频磁控
  • 2篇溅射
  • 2篇溅射法
  • 2篇溅射法制备
  • 2篇负热膨胀
  • 2篇WO
  • 2篇AL
  • 2篇磁控
  • 2篇磁控溅射
  • 1篇热膨胀
  • 1篇热膨胀特性
  • 1篇固相法
  • 1篇固相法制备
  • 1篇固相反应法
  • 1篇粉体

机构

  • 3篇江苏大学

作者

  • 3篇屈展
  • 3篇程晓农
  • 2篇张志萍
  • 2篇刘红飞
  • 1篇杨新波

传媒

  • 1篇机械工程材料
  • 1篇真空科学与技...

年份

  • 1篇2008
  • 2篇2007
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
射频磁控溅射法制备Al2(WO4)3薄膜
采用 WO和 AlO陶瓷靶材,以双靶射频磁控溅射法在石英基片上沉积制备了 Al(WO)薄膜。利用 X 射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM) 研究了热处理温度对 Al(WO)薄膜的相组成和表面形貌的影响,采用表面...
程晓农刘红飞张志萍屈展
关键词:磁控溅射热膨胀特性
文献传递
射频磁控溅射法制备Al_2(WO_4)_3薄膜和负热膨胀性能研究被引量:6
2008年
采用WO3和Al2O3陶瓷靶材,以双靶交替射频磁控溅射法,在石英基片上沉积制备了Al2(WO4)3薄膜。利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM),研究了退火温度对Al2(WO4)3薄膜的相组成和表面形貌的影响,采用表面粗糙轮廓仪和划痕仪测量薄膜厚度,探索了薄膜的制备工艺以及薄膜与基片的结合力,采用高温X射线衍射和晶胞参数指标化软件,初步研究了薄膜热膨胀特性。实验结果表明:磁控溅射沉积制备的这种薄膜为非晶态,表面平滑、致密,随着热处理温度的升高,薄膜开始结晶且膜层颗粒增大,在950℃热处理10 min后得到Al2(WO4)3薄膜,薄膜与基片的结合力为13.6 N,薄膜物质热膨胀特性呈各向异性。
程晓农刘红飞张志萍屈展
关键词:磁控溅射负热膨胀
固相法制备Al_2(WO_4)_3粉体及其负热膨胀性能被引量:3
2007年
以Al_2O_3和WO_3为原料,采用固相反应法制备了负热膨胀性能的Al_2(WO_4)_3粉体。用X射线粉末衍射和扫描电镜分别对粉体进行物相、晶体结构分析和形貌观察;通过热重-差热分析了粉体的热性能;采用热膨胀仪测定了热膨胀系数。结果表明:产物为高纯度正交晶系结构的Al_2(WO_4)_3,形状规则,大小均匀,平均尺寸为0.6μm×0.4μm。从室温到熔点范围内,Al_2(WO_4)_3粉体无相变,不发生分解,30~900℃的平均热膨胀系数为—1.56×10^(-6)K^(-1)。
屈展杨新波程晓农
关键词:负热膨胀固相反应法
共1页<1>
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