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张国玲

作品数：3 被引量：0H指数：0
供职机构：河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：化学工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇会议论文
  • 1篇期刊文章

领域

  • 1篇化学工程

主题

  • 3篇CMP
  • 2篇超精
  • 2篇超精密
  • 2篇超精密加工
  • 1篇硬盘基板
  • 1篇平整度
  • 1篇基板
  • 1篇碱性
  • 1篇NANOME...
  • 1篇NI(OH)...
  • 1篇CACO3
  • 1篇MG(OH)...
  • 1篇粗糙度
  • 1篇FE3O4
  • 1篇ROUGHN...
  • 1篇ALKALI
  • 1篇PLANAR...
  • 1篇SLURRY

机构

  • 3篇河北工业大学

作者

  • 3篇田军
  • 3篇刘玉岭
  • 3篇唐文栋
  • 3篇王立发
  • 3篇张国玲

传媒

  • 2篇第六届中国国...
  • 1篇纳米科技

年份

  • 1篇2009
  • 2篇2007
共 3 条 记 录，以下是 1-3
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排序方式：
CMP Study of NiP Substrate of Computer Hard-disk with Alkali Nanometer Slurry
In this paper, the chemical character of NiP substrate of computer disk is analyzed. New type of alkali slurry...
刘玉岭田军唐文栋张国玲王立发
关键词：CMPROUGHNESSPLANARIZATION
用碱性纳米SiO2浆料对计算机硬盘NiP基板进行CMP超精密加工的研究
本文采用碱性纳米SiO2纳米浆料对计算机硬盘NiP基板进行CMP超精密加工与酸性浆料对比在平整度PV, 均匀度rms和粗糙度RA均获得了显著的提高。
田军刘玉岭唐文栋张国玲王立发
关键词：MG(OH)2NI(OH)2FE3O4
用碱性纳米SiO2浆料对计算机硬盘NiP基板进行CMP超精密加工的研究
2009年
采用碱性纳米SiO2浆料对计算机硬盘NiP基板进行CMP超精密加工，与酸性浆料对比，在平整度PV、均匀度rms和粗糙度RA均获得显著提高。
田军刘玉岭唐文栋张国玲王立发
关键词：硬盘基板CMP粗糙度平整度
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