张鉴
- 作品数：2 被引量：1H指数：1
- 供职机构：南京大学现代工程与应用科学学院材料科学与工程系更多>>
- 发文基金：国家高技术研究发展计划国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学机械工程电子电信更多>>
- 基于纳米压印技术制备200nm周期金自支撑透射光栅被引量：1
- 2009年
- 采用纳米压印技术作为制备亚微米周期光栅图案的核心技术,并结合反应离子刻蚀,电子束蒸镀,微电镀,紫外光刻,湿法刻蚀成功制作了面积为5 mm×8 mm、周期为200 nm、占空比近1∶1的大面积金自支撑透射光栅.首先利用紫外光固化纳米压印技术和反应离子刻蚀在高分子胶层上复制出石英模板上的纳米光栅结构,然后用微电镀技术制备出金光栅.为了获得具有较深槽深的光栅图形,采用了纳米压印双层胶工艺体系.此工艺利用了纳米压印技术分辨率高、效率高的优点,并且可以制备出剖面陡直、对比度高的高分辨率纳米光栅线条.最后用紫外光刻,微电镀和湿法腐蚀制作出支撑结构,获得金自支撑透射光栅.
- 袁远顾艳妮李志炜张鉴袁长胜葛海雄陈延峰
- 关键词：纳米压印透射光栅反应离子刻蚀
- 一种新型多官能度乙烯基醚树脂的制备及在光刻负胶中的应用
- 2010年
- 以苯乙烯,2-异氰酸甲基丙烯酸酯(IEMA),以及乙二醇单乙烯基醚(EGME)等为原料,分两步合成了一种主链为聚苯乙烯结构的多乙烯基醚(VEs)树脂(PSIM-VE).通过测定该树脂的红外光谱、核磁氢谱及核磁碳谱,确定了其分子结构式.测定了该树脂的紫外透光性,并且研究了基于该树脂的紫外光刻负胶以甲苯及四氢呋喃为溶剂时的成膜性及紫外光固化性能.通过接触式光刻工艺,在光刻胶膜层上得到了4μm周期的光栅结构.
- 陈明张鉴李志炜葛海雄袁长胜陈延峰
- 关键词：乙烯基醚自由基共聚合紫外光固化
