李冬雪
- 作品数：8 被引量：5H指数：1
- 供职机构：郑州大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：一般工业技术理学电子电信医药卫生更多>>
- 压缩式气压纳米压印阻尼减振分析被引量：1
- 2014年
- 纳米压印技术十几年来获得快速发展,新提出的纳米压印压缩式气压纳米压印系统存在的自身振动影响图像转移精度。采用阻尼减振系统避免施压过程中伺服马达和施压活塞位移产生的系统振动影响。基于振源和施压系统结构建立阻尼减振模型,材料物质特性分析和有限元模型仿真分析优化减振系统材料及其内部结构设计。分析结果表明蜂窝外接圆半径为0.02 m,相邻两外接圆距离外切的蜂窝结构为减振装置最优单元层,橡胶材质的3层单元层蜂窝型层叠减振结构最大衰减振幅可达87.51%,可有效减少系统振源对压印转移图形保真度的影响。
- 刘超然罗康李天昊夏委委李冬雪段智勇
- 关键词：纳米压印阻尼减振
- 一种平面-介孔混合钙钛矿太阳能电池结构及制作方法
- 本发明公开了一种平面-介孔混合钙钛矿太阳能电池结构，从下至上依次包括衬底、透明电极、太阳光吸收混合层、空穴传输层和金属背电极，太阳光吸收混合层为具有介孔的柱阵列支架结构层，柱阵列上下表面、柱阵列间隙及柱内介孔间隙内填充有...
- 段智勇王盼苏宇锋郑国恒钟英辉李冬雪王文
- 文献传递
- 纳米压印脱模坍塌及掩模板拓扑结构图形转移影响研究
- 随着微电子技术应用领域的不断扩展，硅技术时代的半导体制备工艺种类越来越多。图形转移是微纳制造的最主要核心，纳米压印工艺相比传统光刻工艺避免了在小尺寸应用上的曝光波长衍射的限制，并具有工艺简单、分辨率高、低成本和高产率等优...
- 李冬雪
- 关键词：纳米压印拓扑结构
- 文献传递
- 金属诱导横向晶化非晶硅薄膜技术及新发展
- 2013年
- 金属诱导横向晶化技术(MILC)由于具有晶化温度低、晶化颗粒大等优点而获得了快速发展。阐述了金属诱导横向晶化非晶硅薄膜的晶化机理、晶化效果及影响晶化效果的主要参数,并介绍了基于多种辅助措施,如离子掺杂、电磁场辅助、微波退火、激光退火、氮硅化合物覆盖法和焦耳热升温法等方法,以优化金属诱导横向晶化非晶硅薄膜。辅助措施均有利于增强晶化效果,更易获得大面积无孪晶多晶硅薄膜,并具有较高的载流子迁移率。最后提出采用微纳金属阵列结构调控晶化能量,实现低温、高速、大晶粒直径的多晶硅薄膜制备新方法。
- 李冬雪汪浩夏委委刘超然李天昊段智勇
- 关键词：金属诱导活化能多晶硅薄膜
- 假塑性流体纳米压印中影响填充度的因素被引量：1
- 2013年
- 作为新一代的半导体加工工艺,直接金属纳米压印以其步骤简单、成本低等显著优点得到迅速的发展.然而目前纳米压印中所采用的转移介质在流动状态下为牛顿流体,牛顿流体的黏度是一个常量,而假塑性流体具有黏度随着剪切速率的增大而逐渐减小的趋势,更适用于纳米压印.综合假塑性流体的剪切稀化特性以及直接金属图形转移的优点,将不同大小的金属纳米粒子分散在基液中制成假塑性金属纳米流体并将其作为转移介质用于纳米压印中.基于假塑性流体的Carreau流变模型利用COMSOL软件仿真分析金属纳米粒子假塑性流体参数集对图形压印转移的影响,完成假塑性流体与牛顿流体分别作为转移介质实现图形转移的对比分析.同时还得到了压印过程中影响填充度的各个因素,如流体黏度、施加压强、掩模板移动速度等.研究工作为金属纳米粒子假塑性流体制备以及纳米压印流程的设计提供了理论基础.
- 夏委委郑国恒李天昊刘超然李冬雪段智勇
- 关键词：纳米压印假塑性流体
- 一种金属图形直接压印转移掩模板基板静电场力分离装置
- 本发明公开了一种金属图形直接压印转移掩模板基板静电场力分离装置，包括通过气浮滑轨支架设置在底座上的气浮滑轨，气浮滑轨上设置有多个通过连接管连接充气泵的气孔，气浮滑轨上设置有3个滑块，滑块、基座和绝缘电木依次连接，3个滑块...
- 段智勇李天昊李冬雪郑国恒苏宇锋弓巧侠
- 文献传递
- β--隐黄素对大鼠实验性牙周炎炎症因子的影响
- 牙周炎是一种病因复杂的炎症性破坏性疾病。牙周致病菌定植后，细菌的包膜成分及其毒性产物一方面直接引起牙周组织的破坏，另一方面引起宿主过度反应，造成或加重组织损伤。在宿主反应中，尤以白介素-1β（Interleukin-1β...
- 李冬雪
- 关键词：牙周炎炎症因子药理机制
- 掩膜板凸出环隔离压缩式纳米压印施压气体的研究被引量：2
- 2013年
- 在半导体微纳加工技术中,纳米压印由于具备低成本、高产出、超高分辨率等诸多优势而备受研究者和半导体厂商的青睐,有望成为下一代光刻技术的重要备选支撑技术之一.然而在其施压流程中,由于气体诱捕或陷入所造成的气泡缺陷问题直接关系到图案复制的成功率和完整性,因此避免气泡缺陷,阻止气泡进入模穴是亟待解决的关键问题.提出一种适用于在气体环境中进行气压压缩式纳米压印工艺并避免气体进入掩膜板基板间隙的方法.采用带有刻蚀一定宽度凸出环的掩膜板,凸出环与基板形成环板毛细缝隙,图形转移介质流体在其中形成毛细液桥,使掩膜板-介质-基板形成独立的封闭腔,转移介质黏附力所产生的静摩擦力及介质流体表面张力所诱导的毛细力抵抗施压气体,有效地阻止气体进入空穴形成气泡缺陷.通过理论解析推导求出针对具有不同表面特性转移介质流体的凸出环有效宽度,为掩膜板制备提供理论依据.
- 李天昊郑国恒刘超然夏委委李冬雪段智勇
- 关键词：纳米压印静摩擦力
