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李名复

作品数:3 被引量:0H指数:0
供职机构:中国科学院研究生院更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 2篇电子电信

主题

  • 2篇DX中心
  • 1篇导体
  • 1篇砷化镓
  • 1篇瞬态
  • 1篇退火
  • 1篇退火特性
  • 1篇离子注入
  • 1篇晶格
  • 1篇晶格场
  • 1篇半导体
  • 1篇半导体物理
  • 1篇P-SI
  • 1篇XGA
  • 1篇ALGAAS
  • 1篇C-V测量
  • 1篇C-V方法
  • 1篇DLTS
  • 1篇弛豫
  • 1篇P
  • 1篇X

机构

  • 2篇中国科学院
  • 1篇北京工业大学
  • 1篇中国科学技术...
  • 1篇中国科学院研...

作者

  • 3篇李名复
  • 2篇周洁
  • 1篇贾英波
  • 1篇孙璟兰
  • 1篇高季林
  • 1篇陈建新
  • 1篇孔梅影

传媒

  • 2篇Journa...
  • 1篇中国物理学会...

年份

  • 1篇1991
  • 1篇1990
  • 1篇1989
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
瞬态C-V方法对Al_xGa_(1-x)As中DX中心的研究
1990年
本文指出DX中心电容测量中边区的重要性,提出一种新的瞬态C-V方法,可以用来测量DX中心浓度、导带电子浓度和边区的空间电荷分布及导带电子浓度随温度的变化关系,并由此导出测量DX中心热电离能的方法。另外,还对DX中心正∪和负∪两种模型的理论分析和实验结果进行了比较,得出不同模型所应满足的附加条件。
贾英波李名复周洁高季林孔梅影
关键词:ALGAASDX中心C-V测量
B^+、P^+离子注入p-Si中产生的缺陷及其退火特性的DLTS研究
1991年
用电容及电流DLTS方法测量了B^+、P^+离子注入掺硼p-Si中引进的空穴缺陷能级及其退火行为.在两种离子注入样品中都测到的空穴陷阱有七个,除了常见的辐照缺陷V.O.C受主H_4(0.35)、V.O.B复合团H_5(0.29)及V_2^+双空位单受主H_(72)(0.21)外,还测到其它四个能级H_0(0.56)、H_3(0.47)、H_6(0.25)、H_(73)(0.15).此外,在注B^+样品中还测到H_1(0.57)、H_2(0.53),在注P^+样品中有三个能级H_2~'(0.61)H_(71)~'(0.20)、H_8~'(0.11),其中H_8~'浓度很小.在600℃退火后,缺陷浓度均在10^(13)cm-^(-3)以下或者完全消失.与已有的工作比较,本文所测得的各种缺陷有较高的退火温度.
孙璟兰李名复陈建新
关键词:离子注入P-SIDLTS退火
Al#-[x]Ga#-[1-x]As中DX中心的研究进展
李名复周洁单伟
关键词:砷化镓半导体物理弛豫晶格场
共1页<1>
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