您的位置: 专家智库 > >

潘登

作品数:2 被引量:4H指数:2
供职机构:哈尔滨工业大学机电工程学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:自动化与计算机技术机械工程更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 1篇机械工程
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 2篇润滑
  • 2篇润滑剂
  • 2篇磁盘
  • 2篇磁头
  • 1篇动力学
  • 1篇动力学模拟
  • 1篇影响因素
  • 1篇分子
  • 1篇分子动力学
  • 1篇分子动力学模...
  • 1篇表面形貌

机构

  • 2篇哈尔滨工业大...

作者

  • 2篇闫辉
  • 2篇姜洪源
  • 2篇潘登

传媒

  • 1篇物理学报
  • 1篇中国科学:技...

年份

  • 2篇2014
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
磁头/磁盘间润滑剂转移机理及影响因素被引量:3
2014年
硬盘存储密度的增加促使磁头的飞行高度不断降低.降低磁头飞行高度所导致的润滑剂在磁头与磁盘之间的转移已成为影响磁头飞行稳定性的一个重要因素.本文采用改进后的粗粒珠簧模型,应用分子动力学模拟方法,对磁头/磁盘之间润滑剂转移的机理进行研究.分析了磁盘表面润滑膜厚度、润滑剂种类以及磁头表面局部温度差对磁头/磁盘之间润滑剂转移量的影响.研究结果表明:转移到磁头上的润滑剂的体积随磁盘表面润滑膜厚度的增加而急剧增加;增加单个分子中羟基的数量,可以显著减少转移到磁头上的润滑剂的体积;磁头表面的局部高温可增加转移到磁头上的润滑剂的体积,且增加单个分子中羟基的数量可显著改善局部温度差对磁头/磁盘之间润滑剂转移的影响.
潘登闫辉姜洪源
关键词:分子动力学模拟
磁盘表面形貌对润滑剂分布及磁头/磁盘之间润滑剂转移的影响被引量:2
2014年
磁盘表层润滑剂在磁头与磁盘之间转移会影响磁头飞行的稳定性.本文采用改进后的粗粒珠簧模型,运用分子动力学方法,研究了磁盘上类金刚石薄膜(diamond like carbon,DLC)层粗糙度和磁盘表面凸起对润滑剂在磁盘表面分布及磁头/磁盘之间润滑剂转移的影响.研究结果表明,DLC层粗糙度对润滑膜平均厚度及磁盘表层粗糙度的影响很小;磁盘表面凸起对磁盘表层润滑剂分布的影响明显.类金刚石薄膜层的粗糙度和磁盘表层凸起均可增加转移到磁头上的润滑剂的体积.但磁盘表层粗糙度对磁头/磁盘之间润滑剂转移量的影响明显低于由磁盘表层凸起导致的磁头/磁盘之间润滑剂的转移量.
潘登闫辉姜洪源
关键词:表面形貌
共1页<1>
聚类工具0