白海平
- 作品数：5 被引量：18H指数：2
- 供职机构：内蒙古大学物理科学与技术学院更多>>
- 发文基金：内蒙古自治区高等学校科学研究项目内蒙古自治区自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学电子电信更多>>
- 硫属锡化物（Sn<,x>S<,y>）纳米薄膜制备及特性
- 采用真空热蒸发法在玻璃衬底制备纳米硫属锡化物薄膜(Sn<,x>S<,y>)薄膜。在空气、氮气气氛下对薄膜进行不同条件的热处理，获得性能良好的SnS、SnS<,2>、Sn<,2>S<,3>纳米多晶薄膜。经X射线衍射仪、扫描...
- 白海平
- 关键词：表面形貌光电特性
- 文献传递
- 稀土Dy掺杂CdO薄膜的结构与光学特性被引量：1
- 2007年
- 采用真空热蒸发法,在玻璃衬底上制备稀土Dy掺杂CdO薄膜并进行热处理。对薄膜进行结构和光学特性测试分析。实验给出:掺Dy后CdO薄膜沿(111)晶向的衍射峰增强,随掺Dy含量的增大峰强度逐渐减弱。掺Dy含量为5%时可促进薄膜晶粒的生长改善薄膜的晶相结构特性。制备的薄膜表面颗粒均匀,存在颗粒聚集现象。随掺Dy含量增加薄膜的透光率增大,掺Dy含量为9at%时,在波长大于900nm的区域透光率可达90%,略高于纯CdO薄膜。
- 白海平李健韩菲
- 关键词：光学特性
- SnS_2纳米薄膜的制备及结构和光学特性被引量：6
- 2009年
- 采用真空热蒸发法,在玻璃衬底上制备纳米SnS2薄膜。研究不同Sn和S配比及不同热处理条件对薄膜性能的影响。实验给出采用Sn∶S=1∶1.5摩尔比混合粉末制备的薄膜,经T=430℃,t=40min氮气保护热处理可获得性能良好的SnS2纳米多晶薄膜。薄膜呈n型、表面结构较致密,平均晶粒尺寸为77nm,直接光学带隙约为2.02eV。
- 杨晶李健白海平卢建丽
- 关键词：微结构光学特性
- 不同衬底制备稀土Nd^(+3)掺杂SnO_2薄膜的XRD、SEM分析被引量：2
- 2006年
- 采用真空气相沉积法在玻璃和单晶硅衬底[111]上制备纳米SnO2及稀土金属钕掺杂薄膜,并对薄膜进行热处理。对薄膜进行XRD、SEM测试。实验显示,不同衬底制备SnO2薄膜在未掺钕时结构有明显区别,采用同样工艺条件在玻璃衬底上制备的SnO2薄膜没有显示择优生长;在硅衬底上制备未掺钕SnO2薄膜显示出沿[101]晶向择优生长趋势。掺钕(5 at%)玻璃衬底制备的薄膜沿[110]衍射峰较强,但薄膜基本呈现自由生长;掺钕后硅衬底制备的薄膜则强烈沿[110]晶向择优生长,随掺钕含量增加择优生长趋势消失,当掺钕含量为(5 at%)时薄膜呈自由生长结构较完善。SEM给出在玻璃基片生长的薄膜表面形貌呈均匀小颗粒状,平均晶粒尺寸在30 nm左右。硅基片制备的薄膜表面则呈紧密均匀带孔颗粒状;颗粒尺寸约1000 nm与计算值相差较大。两种衬底制备的SnO2薄膜经稀土钕掺杂可抑制晶粒生长。本实验中钕掺杂量为5 at%(热处理T=500℃,t=45 m in)时薄膜结构特性最佳。
- 白海平李健吉雅图
- 关键词：SNO2薄膜XRDSEM分析
- Sn_2S_3薄膜制备及结构与光学特性被引量：7
- 2009年
- 采用真空热蒸发法在玻璃衬底上制备Sn2S3薄膜。研究不同Sn和S配比及热处理条件对薄膜的结构及光学特性的影响。结果显示:采用Sn∶S为1∶1.2(at%)混合粉末制备出的薄膜,在T=430℃,t=40min氮气保护热处理后,可得到结构良好的n型Sn2S3纳米多晶薄膜。薄膜表面致密较平整,颗粒分布均匀,平均晶粒尺寸为60.37nm。Sn2S3薄膜的直接光学带隙约为2.0eV。
- 卢建丽李健白海平杨晶
- 关键词：结构和光学特性
