董贤子
- 作品数：74 被引量：75H指数：6
- 供职机构：中国科学院理化技术研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划中国科学院“百人计划”更多>>
- 相关领域：电子电信理学机械工程一般工业技术更多>>
- 聚合物表面金纳米颗粒的纳米尺度可控制沉积研究(英文)
- 利用双光子聚合技术所制备的三维微纳结构可望在微器件与微系统中发挥重要作用。构成三维微纳结构的材料功能化是实现器件应用的关键。进行三维微纳结构表面金属化、实现制备任意尺寸和形状复杂的微纳米金属结构具有重要意义。在聚合物纳米...
- 王维康陈卫强董贤子段宣明
- 关键词：金纳米颗粒选择性化学镀
- 文献传递
- 利用激光双光子直写技术制作微纳结构器件的方法
- 本发明涉及一种利用激光双光子直写技术制作微纳结构器件的方法。该方法包括以下步骤：在衬底上涂敷光刻胶形成光刻胶层；用激光束照射所述光刻胶，通过激光双光子吸收效应对所述光刻胶的指定位置进行曝光；对所述光刻胶进行显影；将所得到...
- 段宣明陈述曹洪忠韩伟华颜伟张严波董贤子杨富华赵震声
- 飞秒激光双光子聚合三维微纳结构加工技术被引量：4
- 2023年
- 飞秒激光双光子聚合微纳加工技术作为重要的三维微纳结构制备手段,已成为国际前沿研究热点。该技术利用激光与物质相互作用的双光子非线性吸收效应和阈值效应,可以突破经典光学理论衍射极限,实现纳米尺度的激光加工分辨力,在三维功能性微纳器件制备领域正在发挥着十分重要的作用。本文在介绍飞秒激光双光子聚合三维微纳加工技术的光物理和光化学过程基本原理的基础上,重点回顾人们在改善加工线宽及分辨力、提高加工效率等方面的研究进展与发展概况。该技术所制备的各种微光学器件、集成光学器件、微机电系统以及生物医学器件,不仅充分展示了飞秒激光双光子聚合三维微纳加工技术的高空间分辨力和真三维加工特点,也为其在相关前沿领域的应用提供具有启发性的思路。最后,对该技术实现高精度、高效率、低成本、大面积、多功能的三维微纳结构加工所存在的挑战和未来发展方向,进行了讨论和展望。
- 赵圆圆金峰董贤子郑美玲段宣明
- 关键词：飞秒激光
- 双光子微纳加工技术结合化学镀工艺制备三维金属微弹簧结构被引量：4
- 2014年
- 利用飞秒激光双光子微纳加工技术与化学镀工艺制备了三维金属微弹簧结构。采用扫描电子显微镜(SEM)及选区电子能谱(EDS)对镀层进行了表征,当化学镀时间为15min时,所得到的镀层厚度约为130nm。对不同电镀时间下获得的镀层电阻率进行了测定,实验结果表明,当电镀时间为35min时得到的镀层电阻率约为80×10-9Ω·m,仅为银块体材料电阻率16×10-9Ω·m的5倍。利用这种方法,我们制备了总长度为28.75μm、周期为2.93μm的悬空金属弹簧结构,其中弹簧圈数为9圈,直径为6μm,弹簧线分辨率为1.17μm。文中所述的将双光子微纳加工技术与化学镀技术相结合的方法可以实现任意三维微金属结构与器件的制备,在微光学器件、微机电系统(MEMS)及微传感器等领域有着广泛的应用前景。
- 贾雁鹏郑美玲董贤子赵震声段宣明
- 关键词：化学镀
- 数字微镜无掩模光刻技术进展及应用被引量：9
- 2022年
- 光刻技术在前沿科学与国计民生等领域发挥着重要作用。随着曝光光源、数字微镜器件(DMD)、投影镜头等光学元件的升级及计算机控制技术的飞速发展,基于DMD的无掩模光刻技术有可能在不久的将来与目前成熟的有掩模光刻技术齐头并进,并在特定应用领域中不可或缺。详细介绍了基于DMD的面投影光刻的曝光原理、系统组成和发展进程,重点介绍了提高面投影光刻分辨率的方法,以及突破光学衍射极限制备超细微结构的相关工作。同时阐述了基于DMD的面投影无掩模曝光技术在制备光子学器件、生物学支架、仿生结构等器件中的独特优势,特别是引入超快激光后其在新型加工领域所展现出的应用潜力。
- 周子逸董贤子郑美玲
- 关键词：光刻数字微镜器件分辨率超快激光
- 基于咔唑的新型双光子聚合引发剂的合成及其性质
- 卢维尔董贤子陈卫强段宣明
- 关键词：引发剂咔唑衍生物微加工
- 一种分区域曝光方法及系统
- 本发明实施例公开一种分区域曝光方法及系统。在一具体实施方式中，该方法包括：将待曝光的目标图形分解为第一图形区域和第二图形区域；利用空间光调制器输出所述第一图形区域的数字掩模图案，并对所述第一图形区域实施第一曝光剂量；利用...
- 赵震声刘享洋董贤子郑美玲金峰
- 三维微纳结构的分子设计与表面荧光分子修饰
- ＜正＞飞秒激光双光子微纳加工技术具有高精度、良好的空间分辨率和三维加工能力等特点,已经用于各种尺度微纳结构的加工。除了所设计加工的微纳结构本身所具备的功能外,微纳结构还可以通
- 师兰婷董贤子陈卫强段宣明
- 文献传递
- 一种无机光刻胶组合物图案化的方法
- 本发明公开了一种无机光刻胶组合物图案化的方法，采用光源对光刻胶组合物进行图案化；其中，所述光源为波长为250‑2500nm范围的紫外‑可见‑近红外光源；所述无机光刻胶组合物为氢倍半硅氧烷。当所述无机光刻胶组合物曝光时，光...
- 段宣明金峰郑美玲董贤子
- 文献传递
- 一种跨尺度结构协同工作的无掩模光刻系统
- 本发明提供了一种跨尺度结构协同工作的无掩模光刻系统，包括：激光逐点扫描曝光单元，面投影曝光单元，移动台和计算控制单元，其中，计算控制单元将待曝光图形进行分解，以使得精度要求在预定阈值以下的图形由激光逐点扫描单元实现曝光，...
- 段宣明董贤子郑美玲
- 文献传递
