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邱春燕
作品数:
1
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供职机构:
北京理工大学
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发文基金:
国家高技术研究发展计划
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相关领域:
化学工程
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合作作者
赵清华
北京理工大学
陈川川
北京理工大学
朱鹤孙
北京理工大学
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邱春燕
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高技术通讯
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1篇
1996
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DCPJ法多次沉积制备金刚石厚膜的研究
1996年
用直流电弧等离子体喷射(DCPJ)法进行多次沉积,在硅衬底上制备了金刚石厚膜。并用扫描电镜对这种厚膜的截面结构和表面状态进行分析,发现截面有明显的层状结构,在原来晶面上进行二次沉积是一个重新的成核过程。并对多次沉积过程中金刚石晶粒的生长特性进行了描述。
陈川川
邱春燕
赵清华
朱鹤孙
关键词:
化学气相沉积
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