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郑安生

作品数:30 被引量:26H指数:3
供职机构:北京有色金属研究总院更多>>
发文基金:国家高技术研究发展计划河北省科技计划项目更多>>
相关领域:电子电信一般工业技术理学电气工程更多>>

文献类型

  • 19篇期刊文章
  • 7篇会议论文
  • 2篇专利
  • 1篇标准
  • 1篇科技成果

领域

  • 19篇电子电信
  • 4篇一般工业技术
  • 4篇理学
  • 1篇电气工程
  • 1篇语言文字

主题

  • 18篇单晶
  • 9篇晶体
  • 6篇位错
  • 6篇GAAS
  • 5篇砷化镓
  • 4篇单晶生长
  • 4篇半导体
  • 3篇单晶材料
  • 3篇英寸
  • 3篇锑化镓
  • 3篇位错分布
  • 3篇晶体生长
  • 3篇计算机
  • 3篇二极管
  • 3篇发光
  • 3篇半导体材料
  • 3篇半绝缘
  • 3篇SEM
  • 3篇GAAS晶体
  • 3篇GASB单晶

机构

  • 29篇北京有色金属...
  • 1篇复旦大学

作者

  • 30篇郑安生
  • 14篇屠海令
  • 13篇邓志杰
  • 7篇俞斌才
  • 7篇黎建明
  • 5篇钱嘉裕
  • 3篇林泉
  • 3篇尹士平
  • 2篇韩庆斌
  • 2篇张峰翊
  • 2篇王超群
  • 2篇钱佑华
  • 2篇胡广勇
  • 2篇陈坚邦
  • 2篇龙彪
  • 1篇陈良尧
  • 1篇武壮文
  • 1篇马宏舟
  • 1篇王永鸿
  • 1篇霍承松

传媒

  • 10篇稀有金属
  • 4篇Journa...
  • 3篇中国集成电路
  • 1篇硅酸盐学报
  • 1篇矿业研究与开...
  • 1篇第四届中国功...
  • 1篇中国有色金属...
  • 1篇中国有色金属...
  • 1篇第四届中国功...

年份

  • 1篇2022
  • 1篇2020
  • 1篇2019
  • 1篇2007
  • 1篇2006
  • 2篇2004
  • 5篇2003
  • 3篇2002
  • 5篇2001
  • 3篇2000
  • 1篇1999
  • 1篇1996
  • 2篇1995
  • 1篇1993
  • 1篇1992
  • 1篇1991
30 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
制备单晶用的带过滤器的坩埚
本实用新型设计了一种特别适合制备GaSb单晶体用的坩埚。这种坩埚由坩埚主体和过滤器组成。过滤器的底部有若干小孔,端部有挂把,在使用中可方便地将过滤器放入主体内及从主体内提起取出。为了提高过滤的效果,还可在过滤器的底部加设...
邓志杰武希康郑安生屠海令
文献传递
Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体单晶材料发展动态
<正> GaAs等Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体材料在微电子学和光电子学方面的应用日益重要,尤其是发光二极管(LED)、激光二极管(LD)及微波高频器件,如异质双极晶体管(HBT),高电子迁移率晶体管(HEMT),单片微波集成电路...
郑安生钱嘉裕韩庆斌邓志杰
关键词:发光二极管
文献传递
直径2英寸非掺<111>磷化镓单晶片抛光工艺
本发明涉及半导体单晶片的抛光工艺。本工艺是将直径2英寸非掺<111>磷化镓单晶片浸入化学预处理液中进行化学预处理;再进行镓面的抛光,最后进行磷面的抛光。本工艺解决了在同一抛光液中镓面抛光速度慢,磷面的抛光速度...
樊成才郑安生宋文会李忠义龙彪
文献传递
水平磁场中 GaSb 单晶的生长被引量:1
1993年
GaSb 单晶是制备三、四元含锑化合物、Ⅲ-Ⅴ族合金及超晶格等材料的重要衬底材料。用 GaSb 单晶为衬底研制的 GaAs/GaSb 迭层太阳能电池转换效率超过30%,是目前转换效率最高的太阳能电池。
邓志杰郑安生武希康屠海令
关键词:单晶GASB磁场
半绝缘GaAs单晶材料发展现状
2002年
一、前言 GaAs是目前工艺最成熟、生产量最大的化合物半导体材料。它具有直接跃迁较大带隙、电子迁移率高、易于制成半绝缘单晶(其电阻率可达10~9Ωcm,是理想的微波传输介质,在IC加工中不必另外制作绝缘隔离层,既简化了IC加工过程又降低了寄生电容从而更有利于提高器件工作速度)等优良性能(表1)。
邓志杰郑安生俞斌才
关键词:半绝缘晶体生长位错密度电阻率
掺锌(100)GaSb单晶的生长被引量:4
2001年
采用LEC方法研制出掺锌 (10 0 )GaSb单晶 ;用霍尔测量法算出的锌掺杂浓度计算得出锌的有效分凝系数keff约为 0 84± 0 0 1,沿晶体生长方向随着锌浓度的提高 ,位错密度缓慢增加 ,数值约为 (2~ 3.2 )× 10 3cm-2 ,当掺锌浓度大于 3× 10 19cm-3 以后 ,GaSb发生简并 ,载流子浓度随掺锌浓度的增加缓慢提高。采用重掺锌母合金作掺杂剂 ,可减少锌的损失 。
黎建明屠海令郑安生邓志杰罗志强
关键词:位错密度简并掺杂锑化镓晶体生长
计算机闭环控径制备φ2.0英寸<111>GaP单晶
用高压液封直拉法(LEC法)制备单晶,关键问题是解决直径控制,其直径控制的精度,直接影响到单晶的完整性和位错密度.本文阐述了LEC法制备GaP单晶过程中,用计算机来控制单晶直径的原理,及用计算机闭环控径制备GaP单晶的初...
尹士平俞斌才郑安生
关键词:单晶计算机发光二极管直拉法
文献传递
LEC < 111 > 磷化镓晶片缺陷的观察被引量:1
1999年
使用 S T E M、 S E M 观察了磷化镓晶片在切割、研磨等工艺过程中引入的损伤。切片损伤层深度约303 μm , 磨片损伤层深度小于20 μm 。还观察到一些磷化镓单晶锭局部表面布满麻坑, 认为这是单晶生长时, 磷挥发造成的。同时离晶体表面100 ~150 μm 范围内有镓凝聚物, 是磷挥发后造成镓过剩并聚集在一起形成的。
陈坚邦郑安生
关键词:扫描电镜磷化镓
计算机闭环控径制备Φ2.0英寸<111>aP单晶
用高压液封直拉法(LEC 法)制备单晶,关键问题是解决直径控制,其直径控制的精度,直接影响到单晶的完整性和位错密度。本文阐述了LEC法制备GaP 单晶过程中,用计算机来控制单晶直径的原理,及用计算机闭环控径制备GaP 单...
尹士平俞斌才郑安生
关键词:单晶计算机直径
文献传递
GaAs窗口晶体位错分布及其对红外透射的影响
LEC法生长的轻掺铬高阻GaAs 晶体熔融KOH腐蚀坑SEM观察结果表明,轻掺Cr-GaAs晶体位错的径向分布呈“W”型。这是由于GaAs单晶生长过程中,晶体中的热弹应力的“W”分布和位错大量增殖时所需的临界应力共同作用...
黎建明屠海令郑安生
关键词:GAAS晶体SEM位错分布
文献传递
共3页<123>
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