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宋庆山

作品数:16 被引量:7H指数:1
供职机构:中国科学院计算技术研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:理学电气工程一般工业技术电子电信更多>>

文献类型

  • 8篇会议论文
  • 6篇期刊文章
  • 2篇专利

领域

  • 4篇理学
  • 3篇电气工程
  • 2篇电子电信
  • 2篇一般工业技术
  • 1篇化学工程
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 4篇溅射
  • 3篇感器
  • 3篇
  • 3篇传感
  • 3篇传感器
  • 3篇磁电
  • 3篇磁电阻
  • 3篇磁头
  • 3篇磁性
  • 2篇导热性
  • 2篇粘接
  • 2篇粘接方法
  • 2篇视频磁头
  • 2篇自旋
  • 2篇自旋阀
  • 2篇灵敏度
  • 2篇铝合金
  • 2篇铝膜
  • 2篇敏度
  • 2篇金属

机构

  • 16篇中国科学院
  • 5篇北京科技大学

作者

  • 16篇宋庆山
  • 14篇方光旦
  • 5篇熊鑫恩
  • 4篇常香荣
  • 4篇李丹
  • 4篇顾有松
  • 4篇田中卓
  • 3篇李福燊
  • 3篇乔利杰
  • 3篇周剑平
  • 2篇王晋国
  • 2篇陈光
  • 1篇肖纪美
  • 1篇朱逢吾
  • 1篇于广华
  • 1篇夏洋

传媒

  • 2篇第1届全国磁...
  • 2篇第十届全国磁...
  • 1篇金属学报
  • 1篇计算机研究与...
  • 1篇中国科学(A...
  • 1篇自然科学进展
  • 1篇真空科学与技...
  • 1篇材料工程
  • 1篇第三届全国磁...
  • 1篇中国物理学会...

年份

  • 1篇2003
  • 2篇2002
  • 4篇2001
  • 4篇1999
  • 2篇1998
  • 1篇1995
  • 2篇1992
16 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
自旋阀(Spin Valve—SV)读出头内CoZrTa屏蔽膜的退火处理
自旋阀读出头结构主要由自由层、非磁间隔层、被钉扎层和钉扎层构成。由于感应式写头/SV读出头是一个用集成工艺制作成的整体双元头,因此SV 磁头中还必须有屏蔽层。技术上要求被钉扎层的易轴垂直于下屏蔽层的易轴,而被钉扎层的易轴...
宋庆山方光旦
关键词:自旋阀屏蔽层预退火
文献传递
利用射频磁控溅射制作高性能铁磁性薄膜的研究被引量:1
1998年
讨论了用射频(RF)磁控溅射制作铁磁性薄膜工艺,合适的工艺参数能够获得较低的矫顽力Hc=6Oe。用X射线光电子能谱(XPS)和原子力显微镜(AFM)研究膜表面情况及氧化深度。
夏洋于广华朱逢吾肖纪美方光旦宋庆山熊鑫恩
关键词:巨磁电阻铁磁性射频磁控溅射
巨磁电阻自旋阀(GMR-SV)传感器用CoCrTa永磁体膜(PM)的初步研究
报道了巨磁电阻自旋阀传感器的CoCrTa永磁体(PM)膜制备工艺的初步研究结果,即基板负偏压、靶溅射功率密度、膜厚及溅射工作气体Ar分压等制备参数对Cr/CoCrTa膜矫顽力Hc的影响.
宋庆山方光旦尹林G.Pan
文献传递
超厚铁硅铝膜视频磁头的研制
方光旦宋庆山苏生润宫启顺王晋国
关键词:视频磁头
文献传递网络资源链接
无屏蔽磁电阻传感器的灵敏度
方光旦宋庆山熊鑫恩
关键词:灵敏度传感器
文献传递网络资源链接
Fe-N软磁薄膜的结构和性能被引量:1
2002年
用RF溅射制备厚度为200nm的Fe-N薄膜在250℃,12000A/m磁场下真空热处理后,当N含量在5%~7%(原子百分数)范围内形成a′+a″相时,4πMs可达2.4T,Hc<80A/m,2~10MHz下高频相对导磁率μr=1500,可满足针对10Gb/in2存储密度的GMR/感应式复合读写磁头中写入磁头的需要.Fe-N系薄膜中a′相的形成机理和点阵常数与块状试样按Bain机理形成的a′相有明显的差别,得到了薄膜中a′相的a,c与C_N^a′之间的线性关系式.
周剑平李丹顾有松赵春生常香荣李福燊乔利杰田中卓方光旦宋庆山
关键词:磁性薄膜软磁薄膜硬盘磁头材料
超厚铁硅铝膜视频磁头的研制
方光旦宋庆山苏生润宫启顺王晋国
关键词:视频磁头
真空溅射系统阴极靶的粘接方法
本发明涉及真空溅射系统阴极靶的粘结方法。其工艺由清洗、溅射镀膜、焊接等步骤组成。该方法摆脱了靶托、靶通常必须在真空、高温条件下,进行焊接的工艺环境。克服了传统靶托、靶材质必须匹配的缺陷,用廉价锡基低温焊锡代替贵金属焊接,...
方光旦宋庆山陈光熊鑫恩
文献传递
纳米晶软磁薄膜Fe-Ti-N的结构、磁学性能和热稳定性研究被引量:1
2003年
在高溅射功率900 W 下用RF磁控溅射方法制备了厚为630-780nm的Fe-Ti-N薄膜,结果表明:当膜成分(原了分数, %.下同)在Fe-3.9Ti-8.8N和Fe-3.3Ti-13.5N范围内,薄膜由α’和Ti2N沉淀组成,磁化强度4πMs超过纯铁,最商可达2.38T:而矫顽力Hc下降为89 A/m.可以满足针对1.55 Gb/cm2高存储密度的GMR/感应式复合读写磁头中写入磁头的需要.N原子进入α-Fe使α’具有高饱和磁化强度;Ti的加入,阻止α’→α’+γ’的分解,稳定了强铁磁性相α’.是Fe-Ti-N具有高饱和磁化强度的原因.由于由晶粒度引起的对Hc的影响程度HcD与晶粒度D有以下关系:HcD∝D6,晶粒度控制非常重要.N原了进入α+Fe点阵的八面体间隙,引起极大的畸变,使晶粒碎化.提高溅射功率也使晶粒度下降.两者共同作用,能使晶粒度下降到约14nm,使Hc下降,晶界是择优沉淀地点,在α’晶界上沉淀Ti2N能起钉扎作用,阻止晶界迁移,使纳米晶α’不能长大。
李丹顾有松常香荣李福燊乔利杰田中卓方光旦宋庆山
关键词:磁学性能热稳定性磁场热处理
关于溅射条件对RF溅射Al_2O_3膜应力的影响的研究
1992年
本文简述了淀积于基片上的薄膜中的应力的计算理论的演变过程.评价了每种计算公式的优缺点.这些方法统称为"弯梁法".详细报导了溅射条件对溅射Al_2O_3膜应力的影响的实验结果.
宋庆山
关键词:溅射
共2页<12>
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