明安杰
- 作品数：60 被引量：54H指数：5
- 供职机构：中国科学院微电子研究所更多>>
- 发文基金：国家高技术研究发展计划国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划更多>>
- 相关领域：电子电信机械工程一般工业技术自动化与计算机技术更多>>
- 微机械光开关的闩锁及制作
- 本发明属于微光机电器件，涉及一种微机械光开关的闩锁它包括：微反射镜1、悬臂2、下层基片3、倾斜下电极8、倾斜绝缘层9、水平下电极10及水平绝缘层11，制作步骤：首先在衬底上涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、刻蚀掉闩锁图形的所...
- 梁静秋董玮明安杰陈维友王立军
- 文献传递
- 一种MEMS红外光源及其制作方法
- 本发明公开一种MEMS红外光源及其制作方法，MEMS红外光源包括衬底、支撑层、第一热敏电阻层、介质层、第二热敏电阻层、隔离保护层、加热电阻层和辐射层，本发明中利用第一热敏电阻层和第二热敏电阻层中的一层热敏电阻层作为温度传...
- 明安杰刘卫兵孙西龙王玮冰陈大鹏
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- 基于MOEMS的自由空间8×8光开关相关技术研究
- 在光通信领域,基于MOEMS（micro opto electro mechanical systems）的光开关由于具有插入损耗和串话小、消光比高、透明性和可扩展性好、易于集成和稳定性好等优点而得到业内人士的推崇。为了...
- 明安杰梁静秋董玮陈维友王立军王维彪
- 关键词：MOEMS光开关凸角补偿耦合损耗
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- 面向红外光源的辐射自增强非晶碳薄膜性能
- 2017年
- 为进一步提升红外气体传感器的性能,提出了一种可实现辐射自增强的多层纳米交叠复合非晶碳薄膜材料应用于红外光源,对材料制备的关键工艺及性能表征进行了深入研究,以期大幅提高光源的辐射效率,降低功耗。采用非平衡磁控溅射工艺制备了含钛的周期性非晶碳复合薄膜,在不同退火条件下进行了方阻及光学吸收率测试表征。结果表明,多层纳米厚度交叠薄膜有效降低了薄膜的应力;氧等离子体表面刻蚀调控工艺实现了高辐射率纳米纤维材料的集成制备;制备的非晶碳纳米复合薄膜在高温800℃退火后呈现出良好的电阻热稳定性,在波长5~6μm内吸收率大于80%,最高接近84%。本工作为该辐射自增强的非晶碳薄膜应用于MEMS红外光源提供了一定的技术支持。
- 刘卫兵明安杰谭秋林孟莹孙西龙毛海央王玮冰熊继军
- 关键词：非晶碳红外光源吸收率
- 基于湿法预释放结构的MEMS红外光源及其制备方法
- 本发明公开一种基于湿法预释放结构的MEMS红外光源及其制备方法。所述基于湿法预释放结构的MEMS红外光源包括嵌入式空腔的承载衬底及所述承载衬底上的红外光源结构；所述红外光源结构设有支撑层、隔离层、图形化金属电极以及辐射层...
- 明安杰刘卫兵孙西龙王玮冰陈大鹏
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- 架空式热电堆红外探测器
- 本发明涉及热电堆红外探测器，具体是一种架空式热电堆红外探测器。进一步改进了热电堆红外探测器。所述探测器的加工步骤包括：1、在SOI衬底正面加工两隔离槽，划分出了两个热电偶加工区；2、加工SiO2介质支撑膜；3、加工构成热...
- 谭秋林陈媛婧熊继军薛晨阳张文栋刘俊毛海央明安杰欧文陈大鹏
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- 倾斜下电极式MOEMS光开关阵列的光路分析及准直技术研究被引量：1
- 2004年
- 从高斯光束的传输理论出发,对8×8 MOEMS阵列光开关的光路进行了分析.这种光开关的反射镜尺寸与插入损耗(简称插损)密切相关.为了降低插损并且达到准直长度的要求,对相关参数进行了优化选择.此外,开关中光纤、球透镜以及微反射镜之间的位置及角度偏移均会使插损大大增加,采用自对准技术和凸角补偿方法可以有效提高各个器件之间的对准效果,降低插损[1].
- 明安杰梁静秋兰卫华王维彪董玮陈维友
- 关键词：MOEMS光开关插损凸角补偿
- 一种可集成的纳米结构红外光源
- 本发明公开了一种可集成的纳米结构红外光源，利用MEMS/CMOS工艺，对非晶硅表面进行纳米修饰加工，形成锥状纳米结构，再对锥状纳米结构进行TiN镀层加工；最后采用正面XeF<Sub>2</Sub>释放技术，对硅衬底进行深...
- 谭秋林陈媛靖熊继军薛晨阳张文栋刘俊毛海央明安杰欧文陈大鹏
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- 架空式热电堆红外探测器
- 本发明涉及热电堆红外探测器，具体是一种架空式热电堆红外探测器。进一步改进了热电堆红外探测器。所述探测器的加工步骤包括：1、在SOI衬底正面加工两隔离槽，划分出了两个热电偶加工区；2、加工SiO2介质支撑膜；3、加工构成热...
- 王红亮谭秋林陈媛婧熊继军薛晨阳张文栋刘俊毛海央明安杰欧文陈大鹏
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- SOI二极管型非制冷红外焦平面结构的改进设计(英文)被引量：5
- 2014年
- 在绝缘衬底上的硅(SOI)制备的二极管型非制冷红外焦平面是利用单晶硅PN结二极管作为温度探测器,比其它类型非制冷红外焦平面具有自己的独特优势.描述了传统型像素的结构与特性,并提出一种改进型结构.在传统的像素结构中,红外吸收结构直接覆盖于二极管表面,其填充系数仅为21%.改进后的结构将红外吸收层悬空并覆盖整个像素表面,使吸收结构能够达到80%,大大提高了器件的吸收率.计算结果也显示改进后的结构在像素尺寸为35μm×35μm时,器件的灵敏度可达到7.75×10^(-3)V/K,等效功率噪声(NETID)可减小至43 mK(F/10.0).同时,ANSYS的仿真结果也表明改进后的结构在吸收率上的提高,证明了此结构的可行性.
- 蒋文静欧文明安杰刘战锋袁烽
- 关键词：二极管红外焦平面
