您的位置: 专家智库 > >

范永涛

作品数:39 被引量:15H指数:2
供职机构:中国科学院上海光学精密机械研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:电子电信理学机械工程电气工程更多>>

文献类型

  • 35篇专利
  • 3篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 5篇电子电信
  • 2篇理学
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇机械工程
  • 1篇电气工程

主题

  • 17篇激光
  • 10篇激光直写
  • 8篇图像
  • 8篇计算机
  • 7篇自动聚焦
  • 7篇晶体
  • 7篇晶体生长
  • 7篇KDP
  • 4篇调焦
  • 4篇图像识别
  • 4篇主控
  • 4篇自动发送
  • 4篇物镜
  • 4篇光束
  • 4篇光源
  • 4篇感器
  • 3篇调制
  • 3篇度分布
  • 3篇主控模块
  • 3篇显微镜

机构

  • 39篇中国科学院上...
  • 1篇华中科技大学
  • 1篇国家纳米科学...
  • 1篇中国科学院大...
  • 1篇上海恒益光学...

作者

  • 39篇范永涛
  • 18篇徐文东
  • 9篇邵建达
  • 7篇郝春宁
  • 7篇王斌
  • 7篇齐红基
  • 7篇陈端阳
  • 4篇刘前
  • 4篇王睿
  • 4篇魏劲松
  • 4篇赵成强
  • 3篇顿爱欢
  • 3篇徐学科
  • 3篇罗继全
  • 3篇杨金涛
  • 2篇陈璐
  • 2篇洪小刚
  • 2篇杨明红
  • 2篇王虎
  • 2篇焦佳

传媒

  • 1篇光学精密工程
  • 1篇光子学报
  • 1篇光谱学与光谱...

年份

  • 2篇2021
  • 4篇2020
  • 3篇2019
  • 1篇2018
  • 3篇2017
  • 4篇2016
  • 1篇2015
  • 2篇2014
  • 1篇2013
  • 2篇2012
  • 4篇2011
  • 1篇2010
  • 7篇2009
  • 2篇2008
  • 1篇2007
  • 1篇2006
39 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
无掩模激光直写纳米光刻机
自21世纪以来,由半导体微电子技术引发的微型化革命进入了一个新的时代,这就是“纳米技术”时代。微纳米技术依赖于微纳米尺度的功能结构与器件,实现功能结构微纳米化的基础是先进的微纳米加工技术。激光直写光刻技术作为一种先进的微...
范永涛
关键词:激光直写无掩模光刻微纳加工自动聚焦
高准确度多功能激光直写装置
2009年
采用高数值孔径物镜和高准确度纳米平台搭建了一台激光直写装置,可以在光敏感薄膜材料上进行打点、刻画矢量和标量图形等多种操作,其最小特征尺寸小于300nm,重复性5nm.在刻写前准确标定刻写激光功率,刻写过程中采用象散法精确自动聚焦,刻写完成后采用两种不同波长的激光束探测样品的透过率和反射率的细微变化,最终实现了高准确度亚微米图形的刻写和检测.
范永涛徐文东刘前郭传飞曹四海
关键词:激光直写微纳加工自动聚焦
可控的制备光纤探针的装置和方法
一种可控的制备光纤探针的装置和方法,该装置由光纤探针位置控制装置、可编程控制电路板和电机控制程序构成:所说的电机控制程序是指烧写在可编程微处理器芯片内存中的根据制作光纤探针的工艺过程编制的控制驱动旋转电机和直流电机的转速...
罗继全徐文东范永涛杨金涛
文献传递
高速多光束并行激光直写装置
一种适用于微纳加工的高速多光束并行激光直写装置,由刻写光源调制模块、刻写光头、离焦检测模块、照明与监控模块、样品位移台和主控模块组成,本实用新型提供多光束激光并行高速刻写,大大提高了刻写速度。可根据实际应用需要,将多光束...
徐文东范永涛
文献传递
大型环抛机抛光胶盘平面度的测量装置及其测量方法
一种大型环抛机抛光胶盘平面度的测量装置,包括激光器底座、激光器、直线导轨、滑块、位置传感器和位置传感器底座。测量时,激光器和直线导轨一起放置在待测工件之上,二者不发生接触。滑块仅与直线导轨垂直面接触,位置传感器随滑块沿直...
徐学科范永涛邵建达王哲顿爱欢杨明红
文献传递
可控的制备光纤探针的装置和方法
一种可控的制备光纤探针的装置和方法,该装置由光纤探针位置控制装置、可编程控制电路板和电机控制程序构成:所说的电机控制程序是指烧写在可编程微处理器芯片内存中的根据制作光纤探针的工艺过程编制的控制驱动旋转电机和直流电机的转速...
罗继全徐文东范永涛杨金涛
文献传递
模块化的激光直刻装置
一种模块化的激光直刻装置,整套装置采用模块化设计,由激光调制模块、光点扫描模块、激光功率检测模块、自动聚焦模块、控制和检测模块构成。系统将激光器发出的平行激光会聚成光点聚焦在待刻写的样品表面,利用计算机控制射向样品表面的...
范永涛徐文东
文献传递
基于二元光学元件的艾里光束光片照明显微成像装置
一种基于二元光学元件的艾里光束光片照明显微成像装置,包括激光器,沿激光器的激光输出方向依次是扩束准直镜组、二元光学元件、柱面镜和待测样品,在待测样品的正上方是显微镜,该显微镜的输出端接计算机的输入端,本发明采用艾里光束光...
孙彦华范永涛
文献传递
近红外光谱分析中温度影响的修正被引量:7
2020年
样品温度变化会对模型预测结果产生影响,为解决这个问题,首先,对同一样品不同温度下的光谱与同一样品相同温度的光谱进行了比较。结果显示,不同温度下的光谱差异较大。然后研究了样品温度对玉米粗蛋白模型的预测结果的影响,对随机选取的粗蛋白含量为6.04%的样品不同温度采集光谱,对这些光谱进行预处理消除温度之外的因素对光谱的影响,将预处理后的光谱代入已建立好的模型中进行预测,结果显示,预测结果与实测值之间的差别随着光谱温度与建模温度相之间差别的增大而增大,最大的误差为1.12%。为了解决温度对模型预测结果的影响,进而分析了温度与不同温度下的光谱数据之间的关系,发现在去除了光谱两端噪声较严重的区域后,不同温度下,同一波长点处的光谱数据之间存在一定的线性关系。依据这一发现,文中提出了温度修正理论,以建模时的光谱为基准光谱,然后根据温度与光谱之间的线性关系使用线性回归算法对不同波长点的光谱进行一元线性回归,求出不同温度下的光谱与基准光谱之间的差,最后将不同温度下的光谱校正为基准光谱,通过该理论对光谱进行校正之后,不同温度下的同一样品的光谱之间的差别和修正之前相比已经有了很大改善,将修正后的光谱代入模型,大部分预测结果得到了提高,符合国家标准±0.5%以下的要求。最后使用和建模无关的34个不同含量的样品对该温度修正理论进行验证,光谱修正前后粗蛋白的模型预测值与标准理化值决定系数分别为0.910和0.982,均方根误差分别为0.558和0.172,平均相对误差分别为6.05%和1.75%。该温度修正理论从近红外光谱分析的本质上进行了温度修正,为其他样品的温度修正提供了参考,有利于手持式近红外光谱仪使用的推广。
孙彦华范永涛
关键词:近红外光谱法
高速多光束并行激光直写装置
一种适用于微纳加工的高速多光束并行激光直写装置,由刻写光源调制模块、刻写光头、离焦检测模块、照明与监控模块、样品位移台和主控模块组成,本发明提供多光束激光并行高速刻写,大大提高了刻写速度。可根据实际应用需要,将多光束的刻...
徐文东范永涛
文献传递
共4页<1234>
聚类工具0