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刘本锋

作品数：3 被引量：6H指数：2
供职机构：武汉理工大学更多>>
相关领域：电子电信理学电气工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇会议论文

领域

  • 2篇电子电信
  • 1篇电气工程
  • 1篇理学

主题

  • 3篇溅射
  • 3篇硅薄膜
  • 3篇磁控
  • 3篇磁控溅射
  • 2篇溅射法
  • 2篇磁控溅射法
  • 1篇电池
  • 1篇直流磁控
  • 1篇直流磁控溅射
  • 1篇制备及性能
  • 1篇太阳电池
  • 1篇氢化非晶硅
  • 1篇氢化非晶硅薄...
  • 1篇纳米硅
  • 1篇纳米硅薄膜
  • 1篇硅薄膜太阳电...
  • 1篇非晶
  • 1篇非晶硅
  • 1篇非晶硅薄膜
  • 1篇薄膜太阳电池

机构

  • 3篇武汉理工大学
  • 1篇陕西科技大学

作者

  • 3篇刘本锋
  • 2篇潘震
  • 2篇赵青南
  • 1篇赵修建
  • 1篇冯敏鸽

传媒

  • 1篇材料导报
  • 1篇中国硅酸盐学...

年份

  • 2篇2009
  • 1篇2008
共 3 条 记 录，以下是 1-3
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排序方式：
纳米硅薄膜及磁控溅射法沉积被引量：3
2009年
纳米硅薄膜具有卓越的光学和电学特性,其在光电器件方面潜在的应用越来越引起人们的兴趣。讨论了用磁控溅射法制备纳米硅薄膜的微观机理及沉积参数对薄膜结构和性能的影响。其中,氢气分压、基片温度、溅射功率是磁控溅射法沉积纳米硅的关键参数,适当的温度、较高的氢气分压和较低的溅射功率有利于纳米硅的生成。
刘本锋赵青南潘震冯敏鸽
关键词：纳米硅磁控溅射
氢化非晶硅薄膜的磁控溅射制备及性能研究
采用直流磁控溅射方法制备氢化非晶硅(a-Si：H)薄膜.用X射线衍射(XRD)、NKD7000W薄膜分析仪、傅里叶变换红外光谱仪(FTIR)、紫外-可见光透射光谱仪(UV-VIS)测试了薄膜的物相结构、膜厚、硅氢键和透过...
潘震赵青南刘本锋赵修建
关键词：氢化非晶硅薄膜直流磁控溅射沉积速率
文献传递
磁控溅射法沉积硅薄膜的研究
太阳电池是一个朝阳产业，也是现在发展正非常火热的一个行业。非晶硅、微晶硅薄膜太阳电池在硅系太阳电池中具有很大的性价比优势。本文使用磁控溅射法沉积硅薄膜，通过优化薄膜沉积的工艺参数，以期为用溅射法最终制备出高质量的器件级硅...
刘本锋
关键词：硅薄膜太阳电池磁控溅射法
文献传递
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