刘震
- 作品数：32 被引量：33H指数：3
- 供职机构：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学机械工程电子电信一般工业技术更多>>
- 23.4nm软X射线多层膜反射镜研制被引量：2
- 2011年
- 为了满足类氖-锗X射线激光研究的需要,设计制备了23.4 nm软X射线多层膜反射镜。依据多层膜选材原则并考虑材料的物理化学特性选择新的材料Ti与Si组成材料对。设计优化材料多层膜的周期厚度(d),材料比例(Γ),周期数(N),计算出Ti/Si反射率曲线。通过实验优化各种镀膜工艺参数,制备出了23.4 nm的Ti/Si多层膜反射镜。利用X射线衍射仪和软X射线反射率计对Ti/Si多层膜结构和反射率进行检测,测量结果为Ti/Si多层膜反射镜中心波长0λ=23.2nm,正入射峰值反射率为R=25.8%。将Ti/Si多层膜反射镜与软X射线波段常用的Mo/Si多层膜反射镜相比,在23.4 nm处,Ti/Si多层膜反射镜的反射率提高10%,而带宽减小1.8 nm,光学性能显著提高。
- 刘震李旭马月英陈波曹健林
- 关键词：极紫外磁控溅射X射线衍射仪
- 大口径反射镜高反射膜研究进展被引量：8
- 2016年
- 大口径反射镜是大型反射式光学系统中关键的光学元件,在工作波段的反射率直接决定了光学系统的性能。随着地基、天基观测设备的发展,对大口径反射镜高反射膜提出了更宽的工作波段、更高的反射率、更好的环境适应性等要求。针对这些挑战,各种新的膜系结构、新的镀制方法、新的膜层材料纷纷出现,满足了大口径反射镜高反射膜的各种需求。本文对近些年国内外的大口径反射镜高反射膜研究进展予以综述,并预测大口径反射镜高反膜制备的技术趋势将由铝反射膜向银反射膜、由热蒸发向磁控溅射发展。
- 孙梦至王彤彤王延超刘震刘海王笑夷杨海贵高劲松
- 关键词：大口径反射镜高反射膜环境适应性
- 月基极紫外相机多层膜反射镜被引量：1
- 2013年
- 月基极紫外相机用于月球表面对地球等离子体层辐射出的30.4nm谱线进行成像观测,多层膜反射镜是月基极紫外相机的重要光学元件。根据月基极紫外相机技术参数,选择了B4C/Mg,B4C/Mg2Si,B4C/Al,B4C/Si,Mo/Si等材料,对其周期厚度、材料比例、周期数等参数进行优化。计算了以上材料组合在30.4nm的反射率曲线。考虑到月球环境的特殊性和材料的物理化学性质,从中选择出Mo/Si和B4C/Si两种组合,利用磁控溅射进行镀制。Mo/Si和B4C/Si多层膜在30.4nm反射率分别达到15.3%和22.8%。
- 刘震高劲松陈波王彤彤王笑夷申振峰陈红
- 关键词：极紫外磁控溅射反射率等离子体层
- 一种消除大尺寸碳化硅基底硅改性层内应力的方法
- 本发明提供一种消除大尺寸碳化硅基底硅改性层内应力的方法，属于薄膜技术领域。该方法通过在碳化硅基底硅改性层的成膜过程中，利用磁控溅射镀膜技术，设置镀膜工艺参数，在环状磁场控制下荷能离子轰击靶材，在SiC基底上沉积一定厚度的...
- 李资政高劲松刘震王笑夷杨海贵刘海申振峰
- 文献传递
- 磁控溅射镀膜真空箱体
- 本发明公开了一种磁控溅射镀膜真空箱体，属于薄膜制备设备技术领域。解决了现有技术中磁控溅射镀膜真空箱体结构固定、耗费人力大，对体积限制性强，对于大口径SiC表面改性的局限性大的技术问题。该真空箱体，包括箱盖、上箱体、下箱体...
- 高劲松刘震刘海王笑夷杨海贵王彤彤申振峰
- 文献传递
- 13．9和19．6nm正入射Mo／Si多层膜反射镜的反射率测量被引量：4
- 2008年
- 为了进一步研究13.9 nm类镍银和19.6 nm类氖锗X射线激光,制备了工作在上述两个波长的Mo/Si多层膜反射镜。设计了结构简单、操作方便的小型反射率计,将其安装在Mcpherson247单色仪出射狭缝附近,以铜靶激光等离子体辐射源为极紫外光源,组建了一套适合反射率测量的实验装置,利用此装置测量了实验室制备的多层膜反射镜的反射率。测量之前对单色仪进行了标定并对光源稳定性进行了测量,结果显示,波长准确度是0.08 nm,光源信号抖动范围<5%,光源稳定性好。反射率测量结果显示,实验室能够制备出中心波长分别是13.91和19.60 nm的Mo/Si多层膜反射镜,相应反射率分别为41.9%和22.6%,半宽度为0.56和1.70 nm。同时还用WYKO测量得到13.9和19.6 nmMo/Si多层膜的表面粗糙度分别为0.52和0.55 nm。
- 李敏董宁宁刘震刘世界李旭范鲜红王丽辉马月英陈波
- 关键词：表面粗糙度
- 一种均匀镀膜方法、镀膜设备及计算机可读存储介质
- 本发明公开了一种均匀镀膜方法、镀膜设备及计算机可读存储介质，该均匀镀膜方法包括以下步骤：(1)，根据待沉积光学元件的面形确定沉积源的第一沉积函数分布特性；(2)，根据待沉积光学元件的面形和沉积源的第一沉积函数分布特性确定...
- 王延超刘震杨海贵高劲松王笑夷
- 文献传递
- 一种去除烧结碳化硅反射镜的铝掺杂硅改性膜的方法
- 一种去除烧结碳化硅反射镜的铝掺杂硅改性膜的方法，属于薄膜沉积技术领域中的方法。解决了传统物理抛光方法周期长、耗时多，且存在镜胚的面形改变的技术问题。该方法是使用化学试剂的方法，先用稀释的酸溶剂将表面的有机污染物去除，然后...
- 王彤彤高劲松王笑夷刘震刘海李玉东
- 文献传递
- 采用多次间断共蒸发制备大面积高质量较厚铝膜的方法
- 采用多次间断共蒸发制备大面积高质量较厚铝膜的方法，涉及薄膜制备领域，解决了现有的厚铝成膜工艺存在的无法制备大面积铝膜的问题。该方法为：在镀膜机中，利用多个中心对称设置的电子束蒸发源同时蒸发多个坩埚中的铝料，在大面积铝膜基...
- 高劲松李资政杨海贵王延超王笑夷申振峰刘震刘海
- 文献传递
- 大口径光学膜层沉积方法及镀膜设备
- 本发明涉及光学镀膜技术领域，具体涉及一种大口径光学膜层沉积方法及镀膜设备，包括以下步骤：根据待沉积光学元件的形状选择沉积源的形状尺寸；根据待沉积光学元件的形状与沉积源的形状尺寸确定沉积源的移动轨迹；移动轨迹为沉积源与待沉...
- 王笑夷王延超刘震张建高劲松杨海贵王海峰
