姚妍
- 作品数：9 被引量：30H指数：4
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- 相关领域：化学工程理学金属学及工艺一般工业技术更多>>
- CO--B储能合金的制备与电化学性能研究
- 姚妍
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- 原位测量法研究AZ31镁合金表面化学镀Ni-P的沉积机理(英文)被引量：7
- 2011年
- 设计一种原位方法去测量AZ31镁合金在化学镀Ni-P过程中基体在镀液中的开路电位和体积表面的镀层形貌变化。通过开路电位曲线、扫描电子显微镜和能谱分析研究AZ31镁合金化学镀Ni-P的沉积机理。结果表明:化学镀Ni-P的沉积过程包括镀层的形成过程和镀层的增厚过程,其中镀层的形成过程又包括镍晶核的形核和长大过程、镀层的二维扩展过程和镀层的三维搭接过程。扫描电镜分析证实了Ni-P镀层的球形瘤状物不仅形成于镀层的增厚阶段,同样也形成于Ni-P镀层的初始沉积阶段。不同沉积阶段的沉积速度变化分别与各自的沉积机理对应。
- 秦铁男马立群姚妍倪聪赵相玉丁毅
- 关键词：镁合金化学镀NI-P形核
- 活化处理对钴粉电化学性能的影响
- 2010年
- 采用氯化钯活化处理改善钴粉的电化学储能性能。通过充放电测试和交流阻抗等方法研究了PdCl2活化处理对钴粉的电化学性能的影响。结果表明,Pd活化处理提高了钴粉的放电容量和循环稳定性,原始钴粉的最大放电容量为357.2 mAh/g,处理后钴粉的最大放电容量达到405.1 mAh/g,经50次充放电循环后,原始钴粉的容量保持率仅为55.2%,经活化处理后的钴粉的容量保持率提高到66.7%。同时,Pd活化处理还可以降低电极的电化学反应电阻,从而提高合金的高倍率放电性能。
- 姚妍赵相玉马立群秦铁男丁毅
- 关键词：钴活化处理氯化钯电化学性能
- sol-gel法制备WO_3电致变色薄膜的工艺研究被引量：6
- 2009年
- 采用sol-gel法制备了WO3电致变色薄膜,通过工艺参数的优化,对WO3薄膜的电致变色性能、表面结构和物相进行比较研究。结果表明:陈化3d的前驱体溶液,以5cm/min的提拉速度在ITO导电玻璃基体上镀膜,经250℃保温60min热处理的薄膜在着色态、褪色态下的透射率之差达到50%以上,电致变色可逆性能较好。
- 姚妍马立群丁毅王琳瑛杨猛
- 关键词：SOL-GEL法WO3薄膜电致变色
- AZ 31变形镁合金化学镀前无铬酸洗工艺研究被引量：4
- 2011年
- 主要研究了AZ 31变形镁合金化学镀前的磷酸-硝酸-氢氟酸混合酸洗工艺及各组分对镁合金基体的腐蚀失重表面形貌、镀层与基体的截面形貌和结合力的影响。结果表明:氢氟酸的加入可以有效降低酸洗反应速率并防止新鲜的镁合金基体表面的再次氧化;硝酸的体积分数对镁合金表面形貌的改变有较大影响;当磷酸-硝酸-氢氟酸的体积分数分别为300 mL/L,60 mL/L和100 mL/L时,镀层与基体的结合力最好。
- 秦铁男马立群贺忠臣姚妍丁毅
- 关键词：AZ31镁合金化学镀镍酸洗
- 添加聚乙烯醇改善三氧化钨电致变色薄膜性能的研究被引量：3
- 2009年
- 为改善三氧化钨薄膜的电致变色性能,采用钨粉过氧化聚钨酸溶胶-凝胶法制备了添加聚乙烯醇的三氧化钨电致变色薄膜。采用扫描电镜、紫外可见分光光度计和CH I电化学工作站分别测定和分析了三氧化钨薄膜的微观结构、光透过性能和循环伏安特性。结果表明,添加一定量的聚乙烯醇可使薄膜的结构更加平整,变色更为均匀;在着色态、褪色态下的光透过率之差达到60%以上,变色可调范围变大。电致变色可逆性能和光谱性能较不添加聚乙烯醇有所提高。
- 姚妍马立群丁毅王琳瑛杨猛
- 关键词：溶胶-凝胶聚乙烯醇电致变色
- WO_3变色薄膜材料制备方法及应用进展被引量：5
- 2010年
- 分析比较WO3变色薄膜的各种制备方法,概述近年来WO3变色薄膜在国内外的应用现状和发展趋势。
- 姚妍王琳瑛丁毅马立群
- 关键词：无机非金属材料WO3薄膜
- sol-gel法制备WO_3电致变色薄膜的研究被引量：1
- 2009年
- 采用正交实验设计方法,优化了钨粉过氧化聚钨酸sol-gel法制备WO3薄膜的配方,并且通过测定薄膜的物相结构、光透过率和循环伏安特性等研究了薄膜的电致变色性能。结果表明,制备WO3薄膜的最优配方为:钨粉(纯度为99.5%)6g、浓双氧水20mL、无水乙醇22mL、冰醋酸6mL。该配方所制备的薄膜具有非晶态结构,且薄膜在着色态、褪色态下的透过率之差达到50%以上。
- 王琳瑛丁毅姚妍马立群
- 关键词：无机非金属材料SOL-GEL法WO3薄膜电致变色
- AZ31镁合金在化学镀镀液中的电化学行为研究被引量：3
- 2012年
- 采用混合电位-时间曲线、极化曲线和电化学阻抗谱,研究经不同浓度氢氟酸活化处理后的AZ31变形镁合金在化学镀镀液中的电化学行为,并通过扫描电子显微镜(SEM)观察AZ31活化前后的形貌变化。结果表明,经活化的试样在化学镀过程中被镀层完全覆盖,所用时间随着氢氟酸浓度的增加而延长;镀液中的镍离子被还原的起始电位随着氢氟酸浓度的增加而向正偏移;电极/镀液界面反应的电荷转移电阻随着氢氟酸浓度的增加而增大,并且电极/镀液界面反应是化学镀初始沉积期的控制步骤;AZ31镁合金基体中的Mn-Al相在氢氟酸活化过程中的颗粒脱落是导致氟化膜产生缺陷的主要原因,氢氟酸浓度越高,氟化膜缺陷越少。
- 秦铁男马立群姚妍解瑞丁毅
- 关键词：AZ31镁合金化学镀镍阻抗
