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宣斌

作品数:31 被引量:77H指数:5
供职机构:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所更多>>
发文基金:国家高技术研究发展计划中国科学院知识创新工程重要方向项目更多>>
相关领域:机械工程电子电信理学化学工程更多>>

文献类型

  • 16篇专利
  • 15篇期刊文章

领域

  • 10篇机械工程
  • 6篇电子电信
  • 5篇理学
  • 3篇化学工程
  • 2篇自动化与计算...
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇文化科学

主题

  • 19篇光学
  • 12篇光学元件
  • 7篇非球面
  • 5篇离轴
  • 5篇机械手
  • 5篇摆杆
  • 5篇大口径
  • 5篇大口径光学元...
  • 4篇抛光
  • 4篇球面
  • 4篇光学加工
  • 4篇非球面光学
  • 3篇数控
  • 3篇曲柄连杆
  • 3篇曲柄连杆机构
  • 3篇连杆
  • 3篇面形
  • 3篇光学检测
  • 3篇波像差
  • 2篇电气控制

机构

  • 31篇中国科学院长...
  • 7篇中国科学院研...
  • 1篇中国科学院大...

作者

  • 31篇宣斌
  • 21篇李俊峰
  • 19篇宋淑梅
  • 18篇谢京江
  • 15篇陈亚
  • 14篇陈晓苹
  • 14篇王朋
  • 6篇张红
  • 2篇康健

传媒

  • 5篇光学精密工程
  • 3篇中国光学与应...
  • 2篇光学技术
  • 2篇电子测量与仪...
  • 1篇光子学报
  • 1篇应用光学
  • 1篇中国光学

年份

  • 2篇2020
  • 1篇2018
  • 2篇2017
  • 1篇2015
  • 1篇2014
  • 6篇2013
  • 1篇2012
  • 4篇2011
  • 6篇2010
  • 5篇2009
  • 2篇2008
31 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
一种离轴非球面光学冷加工机床
一种离轴非球面光学冷加工机床,属于光学冷加工技术领域中涉及的机床。解决的技术问题:提供一种离轴非球面光学冷加工机床。技术方案包括下模曲柄盘、下模连杆、下模摆杆、离轴非球面光学元件、下模主轴、下模工作台、抛光磨盘、上模摆臂...
宋淑梅王朋李俊峰宣斌陈亚陈晓苹
文献传递
瑞奇-康芒两角度检测法的一种波像差解读方法
2011年
瑞奇-康芒法是大口径平面元件面形检测的有效方法。通过分析检测光瞳到被检平面的位置转换关系以及波像差到面形误差的幅值转换关系,分别对检测得到的波像差以及干涉仪离焦产生的Power进行转换处理,利用最小二乘法计算出瑞奇-康芒两角度检测时的干涉仪离焦量,从而获得被检平面的面形误差分布。实验部分给出了第4项到第37项泽尼克多项式分布形式的被检平面面形误差的仿真检测结果的误差分布,其峰谷值和均方根值的相对数值误差的平均值分别为6.22%和3.48%,相对分布误差的平均值分别为28.1%和14.4%;并给出了一个随机面形误差的仿真检测结果。此波像差解读方法不存在多项式拟合的误差,适用于任意形状的被检平面通光口径,具有较高的精度,达到了实际工程要求。
宣斌谢京江
关键词:应用光学光学检测光学平面
一种离轴抛物面反射镜几何参数的检测标定方法
本发明提供了一种离轴抛物面反射镜几何参数的检测和标定方法,属于光学检测技术领域,可以解决离轴抛物面反射镜几何参数难以高精度测量和标定问题,实现其几何参数的低成本、高精度快速检测和标定。
李俊峰谢京江宋淑梅陈亚宣斌张红
文献传递
偏振正交性对偏振相移干涉检测精度的影响被引量:4
2013年
为了提高线偏振相移干涉检测的精度,分析了参考光和测试光的偏振方向正交性对该项检测技术的影响。分析了线偏振相移干涉的原理,提出偏振非正交引起的检测误差与波像差有关,且检测误差峰谷值与测试光和参考光振幅之比以及偏振非正交量成正比。讨论了偏振非正交产生的原因,认为测试光在被检元件表面的折射或者反射都有可能引起偏振非正交。针对不同被检元件,给出了减少偏振非正交的几种方法,包括合理镀膜、选择合理入射角偏振方向等。通过Skip-Flat检测对理论分析进行了验证。结果显示,对于入射角为45°的检测光路,偏振正交性引入的检测误差呈现与条纹一致的分布,峰谷值为0.174 1λ,这与理论分析相吻合。文章指出,进行偏振相移干涉检测时,需要针对不同的被检元件进行分析,以确保偏振非正交产生的检测误差能够满足技术要求。
宣斌宋淑梅
关键词:波像差
PVD改性RB-SiC表面缺陷研究
2013年
为获得高表面质量的PVD改性RB-SiC反射镜,解决实际加工中出现的表面缺陷问题,对缺陷的形成机理及处理方法进行了研究。根据Preston假设设计相关试验,推测表面缺陷是由于PVD改性层中的大颗粒结晶受到较大冲击,从而使大颗粒结晶剥落而非对其产生磨削作用而产生的。试验表明:过高的抛光速度或过高的抛光压力会造成改性层表面缺陷的产生,调整抛光的相对速度及抛光压力等关键工艺参数,可在保持抛光效率的同时有效减少和避免表面缺陷问题的产生。经试验验证,当表面缺陷产生后,通过选择适当的相对速度和抛光压强,改性层去除0.7μm^1μm后,可有效修复缺陷,并且无新的表面缺陷产生。
康健宣斌谢京江
关键词:光学加工
离轴抛物镜光轴方向的标定方法及系统
本发明公开了一种离轴抛物镜光轴方向的标定方法,包括以下步骤:调整干涉仪、离轴抛物镜、标准平面镜的相对位置,进行离轴抛物镜自准直干涉检验,使干涉仪焦点与标准平面镜镜面位于同一平面上;在离轴抛物镜几何中心做第一标记,在干涉条...
宣斌康健李俊峰陈亚宋淑梅谢京江
对筒形光学元件进行面形精度修正和超光滑加工的抛光装置及方法
本发明提供一种对筒形光学元件进行面形精度修正和超光滑加工的抛光装置及方法,该抛光装置改进了现有技术无法修正元件面形精度以及只能采用单一加工方式的缺陷,可以根据实际需要在直接接触加工和准接触加工之间进行方式切换,且通过四轴...
陈亚康健谢京江宋淑梅宣斌李俊峰
文献传递
环带抛光技术材料去除理论模型研究被引量:2
2009年
为了完善环带抛光技术并指导加工,根据Preston方程建立了材料去除量的理论模型。考虑环带抛光技术中的影响因素,如抛光盘与工件之间的转速比、偏心距及压强分布等参数,建立了材料去除量与各影响因素之间相互关系的数学模型。理论分析和实验结果显示,转速比、偏心距和压强分布对磨削量均有影响,材料的去除效率随转速比和偏心距增加而增大,转速比越接近于1,磨削越均匀;工件露边时,工件露出部分材料的去除效率急剧下降。实验结果表明,通过对该理论模型中相关技术参数的研究来完善环带抛光技术,有效地提高了抛光的效率及稳定性。
李俊峰陈亚宣斌王朋陈晓苹宋淑梅
关键词:偏心距
表面改性碳化硅基底反射镜加工技术现状被引量:27
2013年
针对表面改性SiC基底反射镜在空间光学系统中的应用,总结了该类反射镜在国内外的研究现状。概括了碳化硅基底反射镜的发展趋势。介绍了常用的碳化硅材料,分析了它们的性质。给出了几种常用的碳化硅镜坯制备工艺,包括成型、改性和不同的抛光技术。通过对国内现有加工工艺和改性技术的分析,总结出了适应我国的表面改性碳化硅反射镜加工的发展方向。
康健宣斌谢京江
关键词:光学加工碳化硅碳化硅反射镜表面改性
用分子着色剂检测玻璃微裂纹的方法
本发明用分子着色剂检测玻璃微裂纹的方法,属于光学冷加工技术领域中实时检测方法。在玻璃毛坯进行粗加工后,为了应力释放放置数十小时,再对其进行表面酸腐蚀,然后涂抹分子着色剂,放置数分钟,利用玻璃本身对水溶液的亲和性和着色剂的...
张红陈晓苹李俊峰王朋宣斌
文献传递
共4页<1234>
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