公共文化服务平台

廖斌: 作品数：225 被引量：140H指数：6; 供职机构：北京师范大学更多>>; 发文基金：国家自然科学基金国家科技重大专项教育部重点实验室开放基金更多>>; 相关领域：金属学及工艺一般工业技术理学化学工程更多>>

合作作者

一种气浮电机润滑涂层制备方法: 本发明公开了一种气浮电机润滑涂层制备方法，包括以下步骤：S1：利用气体离子源对基体表面进行高低能交替清洗；S2：利用BN加热器在真空度1×10‑2‑1×10‑3Pa下对清洗后的...; 廖斌欧阳潇欧阳晓平罗军庞盼陈琳张旭吴先映华青松英敏菊; 文献传递

基于磁过滤阴极真空弧沉积技术制备AlCrTiZrMo非晶高熵合金薄膜及其性能研究: 2022年; 基于磁过滤阴极真空弧沉积技术研究了负偏压对AlCrTiZrMo非晶高熵合金薄膜的形貌、元素以及微观结构的影响,进而讨论了AlCrTiZrMo非晶高熵合金薄膜的成膜及结晶机制.通过SEM、EDS、XRD和TEM对薄膜的形貌与结构等性能进行测试分析,实验结果表明:不同沉积离子能量条件下,薄膜具有优异的表面品质;随着沉积离子能量的不断增加,薄膜厚度随之减小;同时,沉积离子能量对高熵晶相的调控有明显效果,沉积离子能量的增加使AlCrTiZrMo高熵合金薄膜微结构从非晶相(am)转变为相稳定的am+FCC纳米复合结构.; 陈淑年廖斌欧阳晓平

DLC、TiN涂层对TC4钛合金抗砂尘冲蚀性能的影响被引量：18: 2016年; 为提高TC4钛合金的抗砂尘冲蚀性能,采用金属蒸汽真空弧(MEVVA)离子源注入与磁过滤真空阴极弧(FCVA)沉积复合技术、磁控溅射技术在TC4钛合金表面制备DLC、TiN涂层。采用SEM、Raman、XRD、纳米压痕仪和划痕仪等方法对涂层的物相结构、硬度、弹性模量以及与基体的结合力进行表征。在冲蚀试验平台上考核试样在不同入射角度条件下的抗砂尘冲蚀性能。结果表明:DLC涂层表面结构致密,含有大量sp3键,硬度为62.1 GPa,弹性模量为391.64 GPa,结合力达80.4 N;TiN涂层表面存在许多熔滴颗粒及空穴,硬度为22.72 GPa,弹性模量为383.18 GPa,结合力达34.7 N。30°冲蚀条件下,涂层主要是通过提高基体表面硬度来抵抗砂尘粒子的微切削作用,从而提高TC4钛合金的抗砂尘冲蚀性能。90°冲蚀条件下,涂层通过延缓基体的塑性变形来实现TC4钛合金抗砂尘冲蚀性能的提高。; 曹鑫何卫锋何光宇廖斌张虹虹李应红; 关键词：TC4钛合金 TIN涂层

一种离子束双过滤沉积技术制备手机屏幕抗划伤氧化铝涂层的方法: 本发明公开了一种在玻璃上沉积Al2O3膜的方法及适用于手机屏幕表面镀膜。其中，具体涉及一种磁过滤等离子体沉积法制备Al2O3薄膜技术...; 廖斌欧阳晓平罗军张旭吴先映王宇东; 文献传递

线性缀加平面波法计算掺杂钨和钒锐钛矿二氧化钛的电子结构被引量：3: 2008年; 利用基于密度泛函理论的线性缀加平面波(LAPW)法,计算未掺杂和掺杂钨和钒的锐钛矿TiO_2晶体的能带和电子态密度.计算结果表明,钨和钒的掺杂能够使锐钛矿TiO_2的能带明显变窄.; 廖斌覃礼钊侯兴刚刘安东; 关键词：TIO2 电子态密度

离子束稳流装置及电弧离子镀设备: 本发明公开一种离子束稳流装置，包括弧电源、阴极组件以及触发组件，其中，弧电源的正极接地；阴极组件包括阴极靶材和靶材座，靶材座处还设置永磁体；触发组件包括触发电极、触发针和辅助阳极板。弧电源在靶材座和触发电极施加电压，使触...; 廖斌欧阳潇陈琳罗军英敏菊庞盼

在多晶CZT上沉积DLC膜的方法及CZT半导体探测器: 本发明公开了一种在多晶CZT上沉积DLC膜的方法及CZT半导体探测器，其中，该在多晶CZT上沉积DLC膜的方法包括：采用磁过滤阴极真空弧沉积方法，在多晶CZT的晶体表面沉积第一层DLC膜；在所述第一层DLC膜之上，采用磁...; 廖斌欧阳晓平王宇东吴先映张旭罗军; 文献传递

一种离子注入缺陷诱导的室温铁磁性ZnO单晶薄膜制备方法: 本发明公开一种离子注入缺陷诱导的室温铁磁性ZnO单晶薄膜的制备方法。利用分子动力学程序模拟不同能量的离子注入到ZnO后的能量损失和分布，设计多次叠加注入条件，在分子束外延技术或者金属有机物化学气相沉积技术制备的ZnO单晶...; 英敏菊王施达段涛张旭廖斌吴先映

一种在活塞环表面快速沉积DLC膜层的设备及方法: 本发明公开了一种在活塞环表面快速沉积DLC膜层的设备及方法，该设备包括：离子注入系统，用于纵向均匀注入离子流；真空室，其一端与离子注入系统密封连接，另一端密封连接有宽束磁过滤沉积系统的一端，宽束磁过滤沉积系统的另一端设置...; 廖斌欧阳晓平罗军张旭吴先映韩然王宇东; 文献传递

一种刀具涂层及其沉积方法: 本发明公开了一种微型刀具涂层的沉积方法，包括以下步骤：在惰性气体中，在刀具基体上沉积金属离子形成金属过渡层；在金属过渡层上依次沉积金属离子、金属碳化物、碳离子形成单元涂层；循环步骤2S若干次；在所述单元循环涂层表层沉积S...; 廖斌欧阳潇欧阳晓平罗军陈琳庞盼张旭吴先映英敏菊; 文献传递