张扬
- 作品数：2 被引量：1H指数：1
- 供职机构：西南交通大学信息科学与技术学院更多>>
- 相关领域：一般工业技术自动化与计算机技术电子电信更多>>
- 实现关键层1um到0.8um光刻工艺改进的研究
- 当前,芯片制造技术日新月异,已达到纳米级。根据摩尔定律,可以进一步缩小其最小线宽。但是,另一方面,由于半导体生产线(特别是光刻机等设备)造价高昂、投入巨大、投产周期长等原因,如何在现有设备和生产条件下改进其工艺将是一个非...
- 张扬王丹康剑孙伟
- 关键词：光刻工艺半导体生产线
- 文献传递
- 简化的后处理快速景深效果被引量：1
- 2009年
- 基于几何光学中透镜成像模型,在保持景深真实特点的同时,采用后处理实现景深效果,提出一种易于在图形处理器上实现的简化算法,以进一步提高景深效果计算速度。相对于已有的后处理景深在图形处理器上的实现,该方法使用帧缓存对象(FBO)通过一遍模型绘制和一遍后处理实现景深效果。该算法可以在不改动固定图形管线渲染代码的情况下对给定场景实现快速的景深效果。实验表明,在通用的硬件条件下该后处理耗时0.3毫秒左右。
- 余伟张扬
- 关键词：后处理虚拟现实图形处理器
