您的位置： 专家智库 > >

张流强

作品数：19 被引量：62H指数：4
供职机构：上海交通大学材料科学与工程学院金属基复合材料国家重点实验室更多>>
发文基金：中国工程物理研究院基金更多>>
相关领域：理学金属学及工艺电子电信核科学技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 16篇期刊文章
  • 3篇会议论文

领域

  • 11篇理学
  • 4篇金属学及工艺
  • 2篇电子电信
  • 1篇化学工程
  • 1篇机械工程
  • 1篇核科学技术
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 8篇多层膜
  • 8篇纳米
  • 6篇纳米多层膜
  • 6篇溅射
  • 5篇微结构
  • 5篇磁控
  • 5篇磁控溅射
  • 3篇内应力
  • 3篇微结构研究
  • 3篇钨
  • 3篇MO
  • 2篇氮化
  • 2篇氮化钛
  • 2篇调制
  • 2篇调制结构
  • 2篇涂层
  • 2篇晶格
  • 2篇SIC
  • 2篇超晶格
  • 2篇W

机构

  • 14篇上海交通大学
  • 8篇中国科学院上...
  • 5篇中国工程物理...
  • 1篇交通大学

作者

  • 19篇张流强
  • 15篇李戈扬
  • 13篇李鹏兴
  • 9篇吴亮
  • 7篇施晓蓉
  • 4篇顾明元
  • 3篇许俊华
  • 3篇郑永铭
  • 2篇杨根庆
  • 2篇漆玄
  • 2篇常富华
  • 1篇王岱峰
  • 1篇解健芳
  • 1篇韩增虎
  • 1篇田家万
  • 1篇郑永铭

传媒

  • 5篇功能材料
  • 3篇电子显微学报
  • 2篇上海交通大学...
  • 2篇微细加工技术
  • 1篇稀有金属材料...
  • 1篇光学学报
  • 1篇真空科学与技...
  • 1篇材料工程
  • 1篇第四届全国微...
  • 1篇第六届全国核...
  • 1篇第十次全国电...

年份

  • 1篇2003
  • 2篇2000
  • 4篇1999
  • 5篇1998
  • 3篇1997
  • 4篇1996
共 19 条 记 录，以下是 1-10
全选 清除 导出
排序方式：
W/Mo超晶格薄膜的微结构研究被引量：4
1999年
纳米多层膜因常出现物理或力学性能的异常而成为薄膜研究的热点之一。采用ＸＲＤ和ＴＥＭ技术研究了Ｗ／Ｍｏ纳米多层膜微结构。结果表明，Ｗ和Ｍｏ由于同为体心立方结构，且晶格常数相近，由它们交互重叠形成的纳米多层膜具有柱状晶穿过调制界面外延生长的结构特征，形成多晶超晶格结构。
李戈扬张流强许俊华吴亮吴亮顾明元
关键词：多层膜超晶格钨钼XRD
TiN/AlN纳米多层膜的调制结构研究被引量：1
1998年
纳米多层膜具有多种物理性能和力学性能的异常效应，其中超模量、超硬度效应为近年来的研究热点之一。本文采用高分辨透射电子显微镜（ＨＲＥＭ）研究了ＴｉＮ／ＡｌＮ纳米多层膜的微结构并对其力学性能的变化给予解释。ＴｉＮ／ＡｌＮ纳米多层膜采用反应溅射法在日本产Ａ...
李戈扬施晓蓉张流强许俊华李鹏兴顾明元
关键词：纳米多层膜调制结构HREM
金属泡沫Al激光靶的研制
常富华张流强
金属-绝缘体复合薄膜中的纳米颗粒形态控制被引量：3
1997年
本文采用多靶磁控溅射仪旋转基片的方法，利用红外灯管加热基片，制备了不同基片温度的Ａｇ－ＳｉＯ２复合薄膜（１５．０ａｔ％Ｓｉ）。采用ＴＥＭ分析了薄膜的微观结构并测定了薄膜的电阻率。研究结果表明：通过改变基片温度，可以控制Ａｇ－ＳｉＯ２复合薄膜中Ａｇ粒子的形态；当基片温度高于３００℃时，复合膜中孤立的Ａｇ颗粒直径为１０～１００ｎｍ；薄膜的电阻率亦可通过基片加热在１０２～１０６μΩ·ｃｍ范围内改变。
李戈扬吴亮张流强李鹏兴
关键词：微结构
Ag-SiO_2纳米复合薄膜微结构研究被引量：2
1997年
本文采用基片可旋转并利用红外灯管加热基片多靶磁控溅射台的制备了不同成分及基片温度的Ag～Sio2复合薄膜。采用XRD、TEM、SEM等手段分析了薄膜的微观组织结构，并测定了薄膜的电阻率。研究结果表明：复合薄膜的微结构由多晶富Ag区和细密的Ag晶体和非晶SiO2混合物组成；室温下随SiO2含量的增加．薄膜中金属Ag呈网状分布．晶粒细化，电阻率上升；随基片温度的升高．复合薄膜中银晶体最终聚集成孤立的纳米颗粒；与微结构相对应，薄膜的电阻率可在大范围（102～106μΩcm）内变化。
李戈扬吴亮张流强施晓蓉李鹏兴
关键词：磁控溅射微结构
W/SiC纳米多层膜界面微结构研究(英文)被引量：1
1998年
本文采用双靶交替磁控溅射方法制备了Ｗ／ＳｉＣ纳米多层膜，并用高分辨电镜对多层膜截面形貌及界面微结构进行了分析。结果表明：Ｗ／ＳｉＣ纳米多层膜具有良好的调制结构，其中Ｗ为多晶，ＳｉＣ为非晶，且Ｗ晶粒在垂直于膜面的方向上的长大受到调制周期的限制。Ｗ与ＳｉＣ形成完全非共格界面，该界面具有宏观平直而微观粗糙的特点。在界面上存在一个模糊的过渡层，该过渡层由Ｗ与ＳｉＣ的成份混合区和Ｗ的结构过渡区构成。
李戈扬张流强吴亮施晓蓉施晓蓉
关键词：钨碳化硅纳米多层膜微结构
Cu-TiN复合薄膜的微结构与电性能被引量：3
1999年
本文采用ＳＥＭ、ＥＤＡＸ和ＴＥＭ等手段研究了多靶磁控溅射制备的Ｃｕ－ＴｉＮ复合薄膜，并测定了薄膜的电阻率。研究表明：复合薄膜的微结构随ＴｉＮ含量及基片温度发生明显变化，其电阻率在基片温度约为２００℃时取得极小值，约为室温沉积薄膜电阻率的１／４。
李戈扬吴亮施晓蓉张流强李鹏兴
关键词：磁控溅射微结构电性能
界面梯度对TiN／不锈钢涂层应力的影响被引量：2
1996年
气相沉积表面涂层在科学技术各领域得到广泛应用，然而，由于涂层与基体在化学和物理性质上的差异，使得涂层与基体在界面两侧产生结构和性能上的突变，影响了涂层功能的充分发挥。为此，采用多靶磁控溅射技术制备了具有梯度过渡层的ＴｉＮ／不锈钢涂层，并研究了梯度层对涂层内应力的影响。研究结果表明：采用多靶磁控溅射技术，分别控制各靶的功率，能够精确控制梯度层的成份变化，制备不同厚度的镀层；应力分析显示，随梯度过渡层厚度的增加，涂层的内应力明显降低。
李戈扬漆玄施晓蓉李鹏兴张流强郑永铭
关键词：磁控溅射涂层内应力不锈钢氮化钛
TiN/AlN 纳米多层膜的制备及力学性能被引量：8
1999年
采用多靶反应磁控溅射法制备了ＴｉＮ／ＡｌＮ纳米多层膜，并通过ＸＲＤ、ＴＥＭ和显微硬度计对多层膜的调制结构和力学性能进行了研究．结果表明，反应磁控溅射法制得的纳米多层膜调制界面平直清晰；薄膜的硬度随其调制周期Λ的减小而单调增加，硬度在Λ＝２ｎｍ时达到最大值ＨＫ３２．９３ＧＰａ．
李戈扬施晓蓉张流强张流强吴亮
关键词：纳米多层薄膜力学性能氮化钛氮化铝
梯度过渡涂层的制备被引量：4
1996年
本文采用多靶磁控溅射技术制备ＴｉＣ／Ａｌ界面梯度过渡层，过渡层由ＴｉＣ和Ａｌ的成分梯度变化组成，其成分由Ａｌ基体侧平缓过渡到ＴｉＣ涂层侧。梯度过渡层的成分变化经ＡＥＳ测定，并用光学金相显微镜观察了涂层形貌。实验结果表明，当梯度层厚度大于某临界值后。
李戈扬王岱峰王公耀李鹏兴张流强郑永铭
关键词：磁控溅射梯度涂层内应力涂层
全选 清除 导出
共2页<12>
聚类工具0