您的位置： 专家智库 > >

曲凤钦

作品数：4 被引量：14H指数：2
供职机构：烟台大学物理系更多>>
相关领域：一般工业技术理学更多>>

合作作者

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 3篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 2篇溅射
  • 2篇磁控
  • 2篇磁控溅射
  • 1篇氧化物
  • 1篇真空
  • 1篇射频溅射
  • 1篇水冷系统
  • 1篇马达驱动
  • 1篇PTCR
  • 1篇铟
  • 1篇BATIO
  • 1篇BATIO3
  • 1篇ITO膜

机构

  • 4篇烟台大学

作者

  • 4篇曲凤钦
  • 3篇苗晔
  • 3篇黄士勇
  • 2篇孟兆坤
  • 1篇钟玉荣
  • 1篇傅胜奇

传媒

  • 2篇真空科学与技...
  • 1篇真空

年份

  • 2篇2001
  • 1篇2000
  • 1篇1999
共 4 条 记 录，以下是 1-4
全选 清除 导出
排序方式：
BaTiO3系薄膜和微型片式PTCR的电压效应
用溶胶-凝胶法在Pt/Ti/Si(100)衬底上制备了Y掺杂的BaTiO薄膜和3mm×1mm×0.3mm微型片式PTCR,并在恒定电压下通过测量其R-T特性观察到了PTC效应.当测量电压力0.5V时,PTCR薄膜的升阻比...
苏树兵曲凤钦宋世庚郑应智
关键词：PTCR
文献传递
真空和射频溅射对ITO膜性能的影响被引量：7
1999年
为进一步探求磁控溅射的机理，本文通过用直流和射频两种磁控溅射沉积ＩＴＯ（ＩｎｄｉｕｍＴｉｎＯｘｉｄｅ）膜的方法，由沉积后的ＩＴＯ膜的特性来揭示不同溅射方法的机制。
黄士勇曲凤钦苗晔
关键词：磁控溅射ITO膜
无马达驱动的旋转圆柱形磁控溅射器被引量：1
2001年
在大型薄膜连续生产线中 ,磁控溅射器的溅射速率、使用周期是影响生产效率与成本的重要因素。本文提出一种新型的无马达驱动的具有高溅射速率、高靶材利用率、长的靶使用周期、安装与使用简单的磁控溅射器。可广泛应用于各类大。
黄士勇曲凤钦苗晔钟玉荣孟兆坤傅胜奇
关键词：磁控溅射水冷系统
高靶材利用率的新型磁控溅射器被引量：7
2000年
在现代大型薄膜连续生产线中 ,其生产效率主要受以下两因数的影响 :溅射器的沉积速率和靶材的使用周期。本实验研制了一种圆筒形靶材绕溅射器中心轴线匀速旋转 ,并且与溅射器之间用螺丝固定连接的新型磁控溅射器。论述了新型溅射器的结构与组成 ,并给出实验结果与结论。其具有靶材利用率高、使用周期长、换靶时间短等优点。同时在反应溅射时避免在靶面上的形成介质层 ,提高了溅射过程的稳定性。
黄士勇曲凤钦苗晔孟兆坤
全选 清除 导出
共1页<1>
聚类工具0