朱宏杰
- 作品数：7 被引量：45H指数：3
- 供职机构：华东理工大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：化学工程冶金工程理学一般工业技术更多>>
- 高频等离子体化学气相淀积法制备TiO_2超细粒子被引量：11
- 1994年
- 利用ＴｉＣｌ＿４＋Ｏ＿２体系，在高频等离子体化学气相淀积反应器中合成了纯度高、粒度细的ＴｉＯ＿２粒子。考察了工艺条件对ＴｉＯ＿２粒子物性的影响；探讨了ＴｉＯ＿２粒子晶型控制的方法。金红石型质量分数可通过工艺条件控制，减少ＴｉＯ＿２单体浓度可提高金红石型质量分数；也可通过在原料ＴｉＣｌ＿４中添加ＡｌＣｌ＿３等晶型转化剂，使产品转化为单一金红石型ＴｉＯ＿２。
- 朱宏杰王新李春忠胡黎明
- 关键词：二氧化钛化学气相淀积超细粒子
- 织物洗涤中低温含氧体系漂白催化剂的制备及机理研究
- 漂白过程在人们日常生活和工业生产中都扮演着重要的角色,而氧化漂白剂在织物,硬表面漂白上也已经应用了很多年。这种漂白剂在温度较低的情况下,漂白效率不足,实际应用中为了解决这一问题在系统中引入了漂白活化剂和催化剂。本文基于市...
- 朱宏杰
- 关键词：过氧化物催化剂低温漂白金属配合物
- 文献传递
- 高频等离子体化学气相淀积制备氮化硅超细粒子被引量：8
- 1995年
- 利用高频等离子体化学气相淀积方法以四氯化硅及氨为原料，合成了粒度小、粒径分布均匀、氮含量为36.3％的无定形氮化硅粉末。研究了放置环境、合成及热处理环境、进料位置、NH_3与SiCl_4配比等不同的工艺条件对产物氮化硅氮含量的影响。推究了高温下四氯化硅与氨反应合成氨化硅的过程机理。
- 韩今依朱宏杰朱以华杨根兵胡黎明
- 关键词：高频等离子体氮化硅陶瓷
- RFCVD反应器中超细粒子合成过程研究
- 该文工作以高频等离子体化学气相淀积(RFCVD)方法合成超细Si<,3>N<,4>粒子的工艺研究为基础,将化学工程学、流体力学、数值计算等学科的基本原理与研究方法以及气溶胶动力学,应用到RFCVD...
- 朱宏杰
- 关键词：等离子体化学气相淀积超细粒子
- 氧化铝粒子化学气相包覆氧化钛的过程研究被引量：2
- 1995年
- 探讨了回转炉化学气相淀积（CVD）包覆新工艺,利用Ti（OC_4H_9）_4水解,在Al_2O_3粒子表面实现了TiO_2包覆,研究了包覆过程特征。结果表明,TiO_2在Al_2O_3粒子表面的包覆是成功的,并具有一定的致密性,包覆量为0.1%～10%;化学气相包覆过程中既存在成膜包覆,又存在成核包覆,通过控制反应物浓度等方法可以强化成膜包覆,提高包覆效果。
- 李春忠韩今依胡黎明华彬朱宏杰
- 关键词：回转炉气相淀积氧化钛
- Ag／Si_3N_4纳米复合材料的电学性质研究被引量：2
- 1996年
- 利用干压方法制得了０～７０ｖｏｌ％Ａｇ弥散的Ａｇ／Ｓｉ３Ｎ４纳米复合材料．借助于ＳＥＭ、ＥＤＳ和复阻抗谱等方法研究了Ａｇ／Ｓｉ３Ｎ４复合材料的结构和反常电学性质．结果表明，纳米Ａｇ粒子以μｍ尺寸的团聚体形式存在于纳米Ｓｉ３Ｎ４基体中．随着Ａｇ含量增加，Ａｇ／Ｓｉ３Ｎ４纳米复合材料的介电常数和电导率均增大．有关这种反常电学性质和掺入Ａｇ粒子的作用在本文中作了详细讨论．
- 朱以华朱宏杰胡黎明韩今依车继龙潘孝仁
- 关键词：纳米复合材料介电性质氮化硅电学性质
- 化学气相淀积制备Si_3N_4超细粉末被引量：22
- 1995年
- 本文研究了ＳｉＣｌ４－ＮＨ３－Ｎ２－Ｈ２系统平衡热力学，确定了Ｓｉ３Ｎ４合成的最佳热力学条件．采用电阻炉化学气相淀积法制备了Ｓｉ３Ｎ４超细粉末，并考察了工艺条件对颗粒形貌的影响．
- 朱宏杰李春忠陈红胡黎明
- 关键词：化学气相淀积热力学超细粉末氮化硅陶瓷
