您的位置: 专家智库 > >

武瑜

作品数:2 被引量:1H指数:1
供职机构:西安理工大学自动化与信息工程学院电子工程系更多>>
发文基金:国家自然科学基金西安市科技计划项目陕西省工业科技攻关项目更多>>
相关领域:理学电子电信更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 1篇异质结
  • 1篇异质结双极晶...
  • 1篇双极晶体管
  • 1篇晶体管
  • 1篇发射极
  • 1篇高频
  • 1篇SIGE_H...
  • 1篇SIGE异质...
  • 1篇SIGE异质...
  • 1篇HBT
  • 1篇新结构
  • 1篇SIGE

机构

  • 2篇西安理工大学

作者

  • 2篇刘静
  • 2篇武瑜
  • 2篇高勇

传媒

  • 1篇物理学报
  • 1篇微电子学

年份

  • 1篇2015
  • 1篇2014
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
沟槽型发射极SiGe异质结双极晶体管新结构研究
2014年
提出了一种沟槽型发射极SiGe异质结双极晶体管新结构.详细分析了新结构中沟槽型发射极的引入对器件性能的影响,并对其机理进行研究.新型发射极结构通过改变发射极电流路径使电阻分区并联,在不增大结电容的前提下,有效减小发射极电阻,提高器件的频率特性.结果表明,新结构器件的截止频率和最大振荡频率分别增加至100.2 GHz和134.4 GHz,更重要的是沟槽型发射极结构的引入,在提高器件频率特性的同时,不会降低器件的电流增益,也不会增加结电容,很好实现了频率特性、电流增益和结电容之间的折中.对沟槽型发射极进行优化设计,改变侧墙高度和侧墙宽度.沟槽型发射极电阻不受侧墙高度改变的影响,频率性能不变;侧墙宽度增加,频率性能降低.
刘静武瑜高勇
关键词:SIGE异质结双极晶体管
SiGe HBT高频特性研究被引量:1
2015年
从器件结构、工艺条件等方面,对影响SiGe HBT高频特性的因素进行对比分析,并在此基础上,对提高SiGe HBT频率特性的方法进行了总结归纳。渡越时间受温度改变影响,SiGe HBT的高频性能在低温下提高。多种形状的基区Ge分布影响基区渡越时间,对提高频率起关键作用。降低工艺温度能有效减小杂质扩散,优化频率。采用新结构以减小发射极电阻,或增加工艺隔离步骤以抑制寄生参数,均可提高频率。
刘静武瑜高勇
关键词:SIGEHBT
共1页<1>
聚类工具0