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王勤堂

作品数:6 被引量:0H指数:0
供职机构:北京大学更多>>
相关领域:理学一般工业技术化学工程更多>>

文献类型

  • 5篇会议论文
  • 1篇期刊文章

领域

  • 3篇理学
  • 1篇化学工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 4篇
  • 4篇
  • 3篇磁结构
  • 2篇微结构
  • 2篇显微技术
  • 2篇磁记录
  • 1篇性能分析
  • 1篇微磁学
  • 1篇显微形貌
  • 1篇介质
  • 1篇磁畴
  • 1篇磁各向异性
  • 1篇磁化
  • 1篇磁化强度
  • 1篇磁记录材料
  • 1篇磁介质
  • 1篇磁晶各向异性
  • 1篇磁性
  • 1篇磁性材料
  • 1篇存储器

机构

  • 6篇北京大学
  • 2篇中国科学院

作者

  • 6篇潘国宏
  • 6篇王勤堂
  • 4篇张小平
  • 3篇孙允希
  • 3篇孙玉秀
  • 1篇阮慎康
  • 1篇雷晓均
  • 1篇张晓萍
  • 1篇田芳

传媒

  • 1篇信息记录材料
  • 1篇第1届全国磁...
  • 1篇中国计算机学...
  • 1篇第十届全国磁...

年份

  • 1篇2001
  • 2篇1999
  • 1篇1995
  • 1篇1985
  • 1篇1900
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
用高分辨显微技术对钴铬垂直磁化薄膜作微、磁结构研究
用电子束蒸镀和二极直流溅射方法分别制作了钴铬垂直磁化薄膜:1.用VSM等方法作了磁性等测量。证明蒸镀和溅射两种方法都能制备出优质钴铬垂直磁化薄膜;2.用高分辨透射电镜作了晶粒形貌、选区衍射和能谱分析,揭示了Co-Cr垂直...
潘国宏张小平雷晓均王勤堂孙允希孙玉秀田芳
关键词:磁结构微结构
文献传递网络资源链接
钴铬垂直磁化膜的高分辨显微学研究
钴铬薄膜是垂直磁化薄膜的基本品种。国内外研究多限于宏观测试和某些典型的微观分析。结晶结构则认为是非磁铬在磁性钴晶粒间界析出隔离形成钴单畴颗粒的观点。对薄膜结晶结构与磁畴结构关系及其机理的高分辨显微学研究则极少见。本文正是...
潘国宏张小平孙允希王勤堂孙玉秀
关键词:磁化强度微磁学
文献传递
钴铬垂直磁化膜的显微形貌和磁畴结构
张小平潘国宏孙允希王勤堂雷晓钧孙玉秀田芳
复合镀膜磁介质研究是磁记录的重要前沿方向
1995年
近年国外磁记录密度有惊人发展。IBM[1]和日立[2]先后分别超过1和2Gbpi2,都远超过光盘密度[3]。在多种技术改进中最基本的是磁介质。IBM用Cr\CoCrPt\C,日立用Cr\CoCrPtsi\CoCrPt\C,都是复合镀膜磁介质。本文主要从复合镀膜介质微、磁结构和复合镀膜磁介质新材料这两个重要前沿研究方面来说明它们是复合镀膜磁介质研究的。
潘国宏孙允希王勤堂蔡一坤孙玉秀阮慎康张晓萍汪裕华
关键词:磁介质磁各向异性磁结构磁晶各向异性
磁记录材料发展动向
磁记录广泛迅速地应用,记录产品正向着高效能,高密度,微型化,低成本的方向发展;尽管磁化方式目前还是水平、各向异性、垂直和光盘各型在竟争中并存,但记录材料、产品磁性的发展方向是比较明确的;镀膜材料制备方法从磁性,记录密度和...
潘国宏王勤堂
关键词:磁记录磁性材料存储器性能分析
用高分辨显微技术对钴铬垂直磁化薄膜作微、磁结构研究
用电子束蒸镀和二极直流溅射方法分别制作了钴铬垂直磁化薄膜:1.用VSM等方法作了磁性等测量。证明蒸镀和溅射两种方法都能制备出优质钴铬垂直磁化薄膜;2.用高分辨透射电镜作了晶粒形貌、选区衍射和能谱分析,揭示了Co-Cr垂直...
潘国宏张小平雷晓均王勤堂孙允希孙玉秀田芳
关键词:磁结构微结构
文献传递
共1页<1>
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