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顾小勇

作品数：8 被引量：6H指数：1
供职机构：苏州大学更多>>
发文基金：江苏省高校优势学科建设工程资助项目国家自然科学基金更多>>
相关领域：理学机械工程电子电信一般工业技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 6篇专利
  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇机械工程
  • 2篇理学
  • 1篇电子电信
  • 1篇自动化与计算...
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 3篇激光
  • 3篇激光干涉
  • 3篇光刻
  • 2篇电极
  • 2篇电极表面
  • 2篇氧化石墨
  • 2篇液晶
  • 2篇液晶显示
  • 2篇液晶显示装置
  • 2篇石墨
  • 2篇透射
  • 2篇透射光
  • 2篇偏振
  • 2篇偏振光
  • 2篇平行光
  • 2篇气体传感
  • 2篇气体传感器
  • 2篇轻薄
  • 2篇主光轴
  • 2篇显示装置

机构

  • 8篇苏州大学

作者

  • 8篇顾小勇
  • 7篇彭长四
  • 7篇刘维萍
  • 4篇张伟
  • 4篇王艳艳
  • 2篇元磊
  • 2篇董晓轩
  • 2篇张锋
  • 2篇陈林森
  • 2篇周云
  • 1篇张伟

传媒

  • 1篇强激光与粒子...

年份

  • 3篇2014
  • 2篇2013
  • 1篇2012
  • 2篇2011
共 8 条 记 录，以下是 1-8
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排序方式：
背光照明装置及液晶显示装置
本发明公开了一种背光照明装置，包括：点光源、矩形状的导光条和平板状的导光薄膜。导光条包括第一入光面和第一出光面，所述线偏振光从第一入光面射入并通过第一出光面射出线偏振平行光；导光薄膜包括第二入光面和第二出光面，所述线偏振...
张伟彭长四顾小勇刘维萍王艳艳张锋元磊
文献传递
多光束激光干涉光刻图样被引量：5
2011年
利用电磁理论,研究了多光束激光干涉图样的产生原理,结合计算机数值模拟和相关实验结果,分析了干涉图样的影响因素。研究结果表明:多光束激光干涉图样可以看成是多组余弦分布的平行线条纹的叠加;相干光束的偏振方向、入射方向、光束间相位差是干涉图样的重要影响因素,改变这些因素,余弦分布的平行线条纹的振幅、位置、周期和方向发生变化,图样也随之变化。
张伟刘维萍顾小勇谈春雷彭长四
关键词：激光干涉光刻
一种激光干涉光刻系统
本发明公开一种激光干涉光刻系统，包括：至少两个镜组；所述镜组包括：分光镜、第一全反镜和第二全反镜；所述镜组的分光镜均位于入射光的主光轴上；不同镜组位于所述主光轴的不同位置；入射光经过所述镜组的分光镜后，产生反射光和透射光...
彭长四董晓轩张伟顾小勇周云刘维萍
一种基于还原氧化石墨烯的气体传感器及其制备方法
一种基于还原氧化石墨烯的气体传感器及其制备方法，超声制备氧化石墨烯分散液，采用苯胺对氧化石墨进行还原，并将所得到的还原氧化石墨烯有机溶剂分散液滴加到电极表面，从而得到还原氧化石墨烯气体传感器。本发明所制备的还原氧化石墨烯...
王艳艳彭长四陈林森顾小勇刘维萍
文献传递
一种激光干涉光刻系统
本发明公开一种激光干涉光刻系统，包括：至少两个镜组；所述镜组包括：分光镜、第一全反镜和第二全反镜；所述镜组的分光镜均位于入射光的主光轴上；不同镜组位于所述主光轴的不同位置；入射光经过所述镜组的分光镜后，产生反射光和透射光...
彭长四董晓轩张伟顾小勇周云刘维萍
文献传递
减反特性的微纳复合结构的制备和研究
近年来，为了提高太阳能电池的转换效率，人们一直在研究怎样降低单晶硅表面的光反射率。在硅表面制备减反结构已经成为研究的热点，人们已经在实验上制备出了各种微纳结构，如金字塔结构、纳米柱结构、纳米圆锥体结构等。蛾类等昆虫用各种...
顾小勇
文献传递
背光照明装置及液晶显示装置
本发明公开了一种背光照明装置，包括：点光源、矩形状的导光条和平板状的导光薄膜。导光条包括第一入光面和第一出光面，所述线偏振光从第一入光面射入并通过第一出光面射出线偏振平行光；导光薄膜包括第二入光面和第二出光面，所述线偏振...
张伟彭长四顾小勇刘维萍王艳艳张锋元磊
一种基于还原氧化石墨烯的气体传感器及其制备方法
一种基于还原氧化石墨烯的气体传感器及其制备方法，超声制备氧化石墨烯分散液，采用苯胺对氧化石墨进行还原，并将所得到的还原氧化石墨烯有机溶剂分散液滴加到电极表面，从而得到还原氧化石墨烯气体传感器。本发明所制备的还原氧化石墨烯...
王艳艳彭长四陈林森顾小勇刘维萍
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