赵云鹤
- 作品数:5 被引量:7H指数:1
- 供职机构:河北工业大学更多>>
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- 相关领域:电子电信环境科学与工程一般工业技术经济管理更多>>
- 硼掺杂浓度对金刚石薄膜电极的影响
- 2013年
- 金刚石由于其独特的物理和化学性质,使其成为电极材料的首选。通过热丝化学气相沉积(HFCVD)技术,在钽片上制备了p型掺硼金刚石(BDD)薄膜电极。通过掺入硼元素在金刚石带隙间引入杂质能级,改变了电极的电学特性,同时硼替位碳原子改变了金刚石的结构。通过原子力显微镜(AFM)和循环伏安法(CV)分析讨论了硼掺杂浓度对BDD电极的表面形貌和电化学特性的影响。结果表明,优化硼掺杂浓度可以使薄膜有好的致密性和稳定的电化学性质。硼掺杂浓度优化后制备的BDD电极电化学窗口可达3.8 V。
- 郭倩檀柏梅高宝红甄加丽赵云鹤
- 关键词:硼掺杂
- 廊坊市节能减排难点分析及对策
- 来,廊坊市全面贯彻落实科学发展观,坚持实施可持续发展战略,强 力推进交通工具节能降耗、重点区域环境综合整治、垃圾和污水处理设施建设、循环经济发 展等工作,一些重点领域的节能减排取得明显成效,但仍存在一些难点与问题,本文针...
- 张金霞赵云鹤
- 关键词:节能减排
- 电化学制备新型氧化液在铜CMP中的应用
- 2013年
- 在铜化学机械抛光(CMP)中,双氧水易分解的不稳定性严重制约铜化学机械抛光速率。为了寻求一种稳定性好且氧化能力强的新型氧化液,采用电化学方法电解水基硫酸盐,得到了氧化性很强且稳定的过氧焦硫酸盐氧化液。采用自制的氧化液配制抛光液进行铜CMP实验,分别改变氧化液、硅溶胶磨料和螯合剂的浓度,分析了各组分的作用,得到了抛光液的优化配比,获得了较高的去除速率和较低的表面粗糙度。抛光速率达889.44 nm/min,粗糙度达6.3 nm,满足工业应用要求。
- 甄加丽檀柏梅高宝红郭倩赵云鹤
- 关键词:电化学去除速率
- 不同磨料对蓝宝石CMP的影响被引量:7
- 2014年
- 在化学机械抛光(CMP)系统中,磨料是决定去除速率和表面状态的重要因素。在单一磨料下进行了单因素实验,在不同的压力、转速、流量和温度下对比了SiO2磨料和Al2O3磨料对蓝宝石去除速率及表面状态的影响;同时也探究了混合磨料对蓝宝石去除速率的影响。研究表明,在单一磨料的CMP实验中,当压力为4 psi(1 psi=6 894.76 Pa)、转速为80 r/min、流量为70 mL/min和温度为35℃时,SiO2磨料对蓝宝石的去除速率高,表面状态好;在混合磨料的CMP实验中,和单一的SiO2磨料相比,Al2O3/SiO2混合磨料对蓝宝石的去除速率要低很多,而SiO2/CeO2混合磨料的去除速率要比单一SiO2磨料的略高一些。
- 赵云鹤檀柏梅牛新环甄加丽郭倩
- 关键词:蓝宝石混合磨料去除速率
- 廊坊市节能减排难点分析及对策
- 近年来,廊坊市全面贯彻落实科学发展观,坚持实施可持续发展战略,强力推进交通工具节能降耗、重点区域环境综合整治、垃圾和污水处理设施建设、循环经济发展等工作,一些重点领域的节能减排取得明显成效,但仍存在一些难点与问题,本文针...
- 张金霞赵云鹤
- 关键词:节能减排
- 文献传递