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郑正龙

作品数：15 被引量：12H指数：2
供职机构：合肥工业大学更多>>
发文基金：国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域：一般工业技术电子电信化学工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 10篇专利
  • 2篇期刊文章
  • 2篇会议论文
  • 1篇学位论文

领域

  • 6篇一般工业技术
  • 1篇化学工程
  • 1篇电子电信

主题

  • 11篇纳米
  • 8篇光栅
  • 6篇光刻
  • 6篇光刻胶
  • 6篇光栅图形
  • 4篇旋涂
  • 4篇显影
  • 4篇流控
  • 4篇纳米流体
  • 4篇基底
  • 4篇键合
  • 4篇超疏水
  • 3篇脱模
  • 3篇纳米压印
  • 2篇等离子体聚合
  • 2篇低压
  • 2篇酸酯
  • 2篇碳酸酯
  • 2篇脱模剂
  • 2篇离子

机构

  • 15篇合肥工业大学
  • 1篇中国科学技术...

作者

  • 15篇郑正龙
  • 14篇王旭迪
  • 13篇李鑫
  • 9篇金建
  • 7篇涂吕星
  • 7篇汤启升
  • 6篇刘玉东
  • 3篇付绍军
  • 2篇李小军
  • 2篇田扬超
  • 1篇饶欢乐
  • 1篇邱克强

传媒

  • 1篇真空
  • 1篇真空科学与技...
  • 1篇中国真空学会...

年份

  • 1篇2014
  • 2篇2013
  • 9篇2012
  • 3篇2011
共 15 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
动态纳米刮印结合等离子体聚合制作纳米通道的方法及系统
本发明公开了一种动态纳米刮印结合等离子体聚合制作纳米通道的方法及系统，其特征是：在硅片上制作出纳米尺寸光栅图形的模板，纳米尺寸光栅图形在模板的上表面前沿的棱边上形成有光栅线槽；将柔性聚合物基底设置为可连续前行的传送带，其...
王旭迪汤启升涂吕星刘玉东李鑫郑正龙金建
文献传递
基于PET表面超疏水结构的制备与表征
固体表面的润湿性由固体的表面形态和表面能决定。首先采用氧等离子体刻蚀的方法对PET基片表面进行处理，改变其表面形貌；然后在PET基片上沉积疏水性涂层以降低基片的表面能。经检测，通过上述两步处理过后的PET基片表面对水的接...
郑正龙李鑫刘玉东涂吕星王旭迪
关键词：表面形态表面能超疏水PET
基于PET表面超疏水结构的制备与表征
固体表面的润湿性由固体的表面形态和表面能决定。首先采用氧等离子体刻蚀的方法对PET基片表面进行处理,改变其表面形貌;然后在PET基片上沉积疏水性涂层以降低基片的表面能。经检测,通过上述两步处理过后的PET基片表面对水的接...
郑正龙李鑫刘玉东涂吕星王旭迪
关键词：表面形态表面能超疏水PET
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动态纳米刮印结合等离子体聚合制作纳米通道的系统
本实用新型公开了一种动态纳米刮印结合等离子体聚合制作纳米通道的系统，其特征是：在硅片上制作出纳米尺寸光栅图形的模板，纳米尺寸光栅图形在模板的上表面前沿的棱边上形成有光栅线槽；将柔性聚合物基底设置为可连续前行的传送带，其在...
王旭迪汤启升涂吕星刘玉东李鑫郑正龙金建
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基于液气平衡的聚合物纳米通道自构建机理制备微纳米通道的方法
本发明公开了一种基于液气平衡的聚合物纳米通道自构建机理制备微纳米通道的方法，是使用光栅模板利用纳米压印技术制备SU-8胶的纳米光栅结构，接着在SU-8胶的光栅结构上旋涂一层脱模剂，然后利用狭缝型挤压涂胶的方式在覆有脱模剂...
王旭迪李鑫涂吕星郑正龙刘玉东
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聚碳酸酯(PC)表面改性技术研究
聚碳酸酯(PC)是一种综合性能优良的热塑性工程塑料，具有良好的机械和光学性能。但在超疏水以及有机电子器件封装领域，聚碳酸酯的表面性质以及内部结构并不能满足要求，需要对其进行表面改性。　　 固体表面的润湿性由固体的表面形...
郑正龙
关键词：聚碳酸酯六甲基二硅氧烷表面改性
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卷对卷纳米压印脱模过程的有限元模拟被引量：7
2012年
本文提出卷对卷纳米压印脱模的两种形式并分析了脱模过程中的阻力。选取垂直于光栅形微结构的截面作为研究对象,忽略脱模过程中旋转角度的影响,将模板上微结构当作竖直平移脱离胶层的方式来处理,利用ANSYS有限元软件模拟了卷对卷脱模过程中不同位置的变形和等效应力分布。结果显示脱模过程中出现两处应力集中,且应力集中处的最大应力在脱模刚发生时出现波动,随后逐渐增大。
汤启升金建李鑫郑正龙王旭迪
关键词：脱模有限元分析
低压键合制作微纳米流控系统的方法
本发明公开了一种低压键合制作微纳米流控系统的方法，其特征是首先以玻璃片为基底，制得具有光栅图形的KMPR母版，并制得到PDMS软印章；再利用PDMS软印章制得后续制作纳米通道的光栅纳米尺寸结构Si基底；另取PET片制得具...
王旭迪金建李鑫汤启升郑正龙
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一种通过正负光刻胶复合显影制备微纳米流体系统的方法
本发明公开了一种通过正负光刻胶复合显影制备微纳米流体系统的方法，是首先以玻璃片为基底，制备具有光栅图形的正光刻胶层，接着在正光刻胶层的表面镀上一层SiO<Sub>2</Sub>薄膜，随后在所述SiO<Sub>2</Sub...
王旭迪金建郑正龙李鑫汤启升
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基于SU-8光刻胶的纳米流体系统自支撑结构的制作方法
本发明公开了一种基于SU-8光刻胶的纳米流体系统自支撑结构的制作方法，其特征是首先加工制作PDMS软模板，利用PDMS软模板制作SU-8纳米通道基底，同时利用紫外曝光显影制作包含样品池的SU-8键合层，并利用键合技术实现...
王旭迪李小军郑正龙李鑫金建田扬超付绍军
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共2页<12>
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