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文献类型

  • 71篇专利
  • 5篇期刊文章

领域

  • 7篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 45篇显示装置
  • 36篇晶体管
  • 32篇薄膜晶体
  • 32篇薄膜晶体管
  • 15篇基板
  • 14篇钝化层
  • 13篇液晶
  • 12篇绝缘层
  • 11篇有源
  • 10篇显示技术
  • 10篇面板
  • 10篇光电
  • 9篇液晶显示
  • 9篇刻蚀
  • 8篇有源层
  • 8篇漏极
  • 8篇TFT
  • 7篇氧化物
  • 7篇栅绝缘层
  • 7篇树脂

机构

  • 76篇北京京东方光...
  • 12篇京东方科技集...

作者

  • 76篇阎长江
  • 57篇谢振宇
  • 36篇徐少颖
  • 32篇李田生
  • 27篇陈旭
  • 14篇郭建
  • 13篇姜晓辉
  • 12篇田宗民
  • 8篇曲连杰
  • 7篇龙君
  • 5篇张家祥
  • 4篇李靖
  • 4篇闵泰烨
  • 2篇王智勇
  • 2篇王亮
  • 2篇林雨
  • 2篇蒋晓伟
  • 2篇陈峰武
  • 2篇王丽鹏
  • 2篇李婧

传媒

  • 5篇液晶与显示

年份

  • 4篇2018
  • 5篇2017
  • 8篇2016
  • 8篇2015
  • 14篇2014
  • 23篇2013
  • 14篇2012
76 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
薄膜晶体管及其制造方法、阵列基板和显示装置
本发明公开了一种薄膜晶体管及其制造方法、阵列基板和显示装置,涉及显示技术领域,用以降低薄膜晶体管的漏电流,提高TFT稳定性。一种薄膜晶体管,包括形成在基板上的栅极、栅绝缘层、有源层和源漏电极层,所述源漏电极层包括所述薄膜...
阎长江李田生徐少颖谢振宇陈旭
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电润湿显示面板及其制作方法、显示装置
本发明提供了一种电润湿显示面板及其制作方法、显示装置,属于显示领域。其中,该电润湿显示面板,包括第一衬底基板、与所述第一衬底基板相对设置的第二衬底基板、设置在所述第一衬底基板上的多个像素单元,所述第一衬底基板上设置有与所...
姜晓辉阎长江
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阵列基板检测装置
本实用新型提供一种阵列基板检测装置。涉及液晶薄膜晶体管的检测装置。解决了阵列基板检测装置可应用的场景的灵活性较低的问题。具体可以包括:探针,探针中用于检测阵列基板的尖端在第一温度下的横截面积与在第二温度下的横截面积不同,...
阎长江龙君李田生徐少颖谢振宇
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信号线的制作方法、薄膜晶体管、阵列基板及显示装置
本发明公开了一种信号线的制作方法、薄膜晶体管、阵列基板及显示装置,用以解决现有技术中因栅极和源极、漏极存在一定重合而产生耦合电容的问题。所述方法包括在基板上依次沉积用于制作信号线的材料层、用于制作第一阻挡层的材料层和用于...
阎长江谢海征陈磊徐少颖谢振宇
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一种自动搬运轨道系统
本实用新型公开了一种自动搬运轨道系统,涉及显示器生产制造领域,用于解决搬运车在自动搬运轨道上运行,搬运车电池的使用寿命短的问题。该自动搬运轨道系统包括:自动搬运轨道和搬动装置;其中,所述自动搬运轨道包括连通第一位置和第二...
李田生阎长江徐少颖谢振宇
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有源层刻蚀工艺优化对TFT-LCD品质的影响被引量:3
2013年
TFT-LCD产品为现代显示的主流,如何提高其显示品质成为大家普遍关注的问题,尤其近期发现的 过孔发黑(黑点)问题尤为突出,严重影响了产品的良率,降低了产品的品质,文章通过研究发现产生黑点不良的罪魁祸首不是过孔刻蚀的问题,而是有源层刻蚀工艺所导致的,并有针对性地进行了试验设计,分别考察了有源层刻蚀条件、附加一步刻蚀方式对黑点不良的解决效果,根据实验效果附加一步刻蚀方式完美地解决了黑点不良问题,从而将产品的良率提升了3%~4%,而电学性能评价(Ion:开态电流、Ioff:关态电流、Vth:阈值电压、迁移率)和正常条件相比没有异常,从而获得了最终完美的解决该不良的方案,提高了产品品质。
李田生谢振宇李婧阎长江徐少颖陈旭闵泰烨
关键词:有源层刻蚀
一种基板及其制作方法、显示装置
本发明涉及显示技术领域,公开了一种基板及其制作方法、显示装置。所述基板上的两个导电层通过位于两者之间的第一绝缘层中的第一过孔电性连接,其中,位于上方的导电层包括对应非过孔制作区的待连接结构和位于第一绝缘层过孔底部的第一连...
曲连杰阎长江
薄膜晶体管、阵列基板及显示器
本实用新型公开了一种薄膜晶体管、阵列基板及显示器,用以避免半导体有源层受到光照影响而导致薄膜晶体管产生漏电流的问题。所述薄膜晶体管包括源极和漏极、半导体有源层、栅极绝缘层和栅极,该薄膜晶体管还包括:位于源极与漏极之间的遮...
阎长江蒋晓纬姜晓辉谢振宇陈旭
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钝化层沉积工艺对过孔尺寸减小的研究被引量:4
2012年
为了适应TFT-LCD小型化与窄边框化以及在面板布线精细化的趋势,提高工艺设计富裕量以及增加面板的实际利用率,研究了通过改变钝化层(PVX)的沉积工艺来减小液晶面板阵列工艺中连接像素电极与漏极的过孔(VIA)尺寸的方案,通过设计实验考察了影响过孔大小的钝化层的主要影响因素(黑点、倒角、顶层钝化层沉积厚度,顶层钝化层沉积压力),得出了在不改变原有刻蚀方式基础之上使过孔的尺寸降低20%~30%的优化方案,并对其进行了电学性能评价(Ion:开态电流、Ioff:关态电流、Vth:阈值电压、Mobility:迁移率),从而获得了较佳的减小过孔尺寸的方案,提高了产品品质。
李田生谢振宇张文余阎长江徐少颖陈旭闵泰烨苏顺康
关键词:钝化层刻蚀过孔
阵列基板及X射线平板探测器
本实用新型公开了一种阵列基板及X射线平板探测器,涉及光电技术领域,为能够增强薄膜晶体管的稳定性而设计。所述阵列基板包括:基板;形成于所述基板上的栅线层,所述栅线层包括栅极以及与所述栅极连接的栅线;形成于所述栅线层上方的栅...
阎长江李田生徐少颖谢振宇陈旭
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