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王巍

作品数:3 被引量:6H指数:1
供职机构:中南大学湘雅医院更多>>
发文基金:湖南省科技计划项目湖南省自然科学基金湖南省科技厅项目更多>>
相关领域:医药卫生更多>>

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 3篇医药卫生

主题

  • 2篇单纯性
  • 2篇缺牙
  • 2篇先天
  • 2篇先天缺牙
  • 2篇BMP2
  • 1篇牙本质
  • 1篇牙本质敏感
  • 1篇突变
  • 1篇脱敏
  • 1篇位点
  • 1篇位点分析
  • 1篇疗效
  • 1篇疗效观察
  • 1篇后牙
  • 1篇活髓基牙
  • 1篇基牙
  • 1篇基因
  • 1篇基因突变
  • 1篇BMP4

机构

  • 3篇中南大学

作者

  • 3篇高清平
  • 3篇邹川
  • 3篇王巍
  • 1篇杨宝贵
  • 1篇卢守仪
  • 1篇陈志英
  • 1篇胡山

传媒

  • 1篇上海口腔医学
  • 1篇中国现代医学...

年份

  • 1篇2015
  • 2篇2014
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
脱敏抛光膏治疗活髓牙牙体预备后牙本质敏感的疗效观察被引量:1
2014年
目的探讨脱敏抛光膏对活髓基牙预备后牙本质敏感的临床疗效。方法 43例96颗行冠桥修复的活髓基牙在暂时冠桥及正式冠桥修复前分别用脱敏抛光膏处理,在疼痛游标尺上采用数字化疼痛评判法(VAS),记录处理前后的敏感程度(VAS值),采用SPSS 17.0软件包,对脱敏治疗前后VAS值采用配对t检验进行统计学分析。结果 43例患者(男19例,女24例)96颗活髓基牙,敏感位点分布在唇颊侧占43.37%;应用脱敏抛光膏后72.92%基牙症状即刻完全或部分缓解。暂时冠桥修复前未经脱敏抛光膏处理时的VAS值为(4.43±2.33),脱敏处理后VAS值为(2.23±1.85),处理前后差异有统计学意义(P<0.05)。正式冠桥修复前未经脱敏抛光膏处理的VAS值为(4.16±2.21),经脱敏处理后的VAS值为(1.99±1.83),处理前后差异有统计学意义(P<0.05)。96颗活髓基牙(男47颗,女49颗),暂时冠桥修复前的VAS平均值分别为3.48±2.65和4.16±2.62,差异无统计学意义(P>0.05)。结论活髓基牙预备后唇颊侧最敏感;脱敏抛光膏能够即刻缓解牙体预备后牙本质敏感,值得临床推广;活髓基牙预备后敏感程度与性别无关。
白新娜高清平胡山王巍邹川何芳奇曾婷雯卢守仪陈志英杨宝贵
关键词:活髓基牙牙本质敏感脱敏
单纯性先天缺牙患者BMP2/BMP4基因位点分析被引量:5
2015年
目的:对BMP2/BMP4基因在单纯性先天缺牙患者中的基因表达进行观察,探讨其在先天缺牙疾病中可能的发病机制。方法:提取单纯性先天缺牙患者40例及其家系成员外周静脉血基因组DNA,另选择100例非先天缺牙患者作为对照,应用聚合酶链式反应(PCR)扩增BMP2/BMP4基因编码外显子,纯化、测序,应用DNASTAR软件对测序结果进行对比分析。采用SPSS13.0软件包对数据进行统计学处理。结果:40例先天缺牙患者中,共检测到BMP2/BMP4基因5个突变位点,其中BMP2基因4个突变点:3个错义突变c.109T>G,c.166C>G,c.570A>T,检出率分别为7.5%、2.5%和95%;1个同义突变(c.261A>G),检出率为100%。3个为db SNP数据库中已报道过的多态位点:BMP2SNPs c.109T>G p.Ser37Ala;c.261A>G p.Ser87Ser;c.570A>T p.Arg190Ser;家系先证者BMP2 c.166C>G突变在正常对照组未检出,db SNP数据库未报道,也未被收录于致病基因数据库,为新突变位点。BMP4基因检测出错义突变c.455T>C,检出率为55%,为db SNP数据库中已报道过的多态位点。与对照组等位基因及基因型比较,无显著差异。结论:单纯性先天缺牙可能与BMP2/BMP4基因检出SNPs相关。BMP2c.166C>G杂合突变是新发现的突变,可能是单纯性先天缺牙家系的致病突变。
邹川高清平Hussam Haji Bakrv王巍白新娜何芳奇
关键词:先天缺牙BMP2BMP4基因突变
BMP2/BMP4基因在单纯性先天缺牙患者中的表达
<正>目的:对BMP2/BMP4基因在单纯性先天缺牙患者中的表达进行观察,探讨其在先天缺牙疾病中可能的发病机制。方法:提取患者40人及其家系成员外周静脉血基因组DNA,采用100人非先天缺牙患者为对照,用聚合酶链式反应(...
高清平邹川Hussam Haji Bakr何芳奇陈韵佳王巍
文献传递
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