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江伟

作品数：4 被引量：0H指数：0
供职机构：安徽科技学院更多>>

合作作者

文献类型

  • 4篇中文专利

主题

  • 3篇萃取
  • 2篇萃取剂
  • 2篇甲基
  • 2篇甲基丙烯
  • 2篇甲基丙烯酸
  • 2篇反萃取
  • 2篇丙烯酸
  • 1篇盐酸
  • 1篇盐酸溶液
  • 1篇一体化
  • 1篇印迹
  • 1篇印迹聚合物
  • 1篇桑色素
  • 1篇色素分子
  • 1篇酸溶液
  • 1篇铁离子
  • 1篇萃取塔
  • 1篇污染
  • 1篇污染物
  • 1篇环境问题

机构

  • 4篇安徽科技学院

作者

  • 4篇毛杰
  • 4篇江伟
  • 2篇常蕊
  • 1篇吴顺东
  • 1篇倪可
  • 1篇欧国松

年份

  • 2篇2017
  • 2篇2014
共 4 条 记 录，以下是 1-4
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排序方式：
一种萃取剂可循环的正反萃取装置
一种萃取剂可循环的正反萃取装置是一种正反萃取装置，正反萃取一般有两步萃取过程，一般情况下需要两套萃取装置，工艺复杂。本实用新型采用一体化的设计，用池代替萃取塔。使生产可以不间断，操作更加简单，占地小，显著的降低了装置的高...
毛杰江伟王乐
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铁离子印迹聚合物的制备方法
本发明提供一种铁离子印迹聚合物制备方法。将环氧树脂和二乙烯三胺溶于甲醇,搅拌加入甲基丙烯酸铁、丙烯酰胺和N,N-亚甲基双丙烯酰胺、偶氮二异丁氰、甲醇，再搅拌至体系制得具有空间网络结构的高聚物，进一步反应得交联后的共聚物，...
毛杰刘茂祝秦存琪常蕊蒋玉轲江伟石睿劼
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桑色素分子印迹硅胶的制备方法
本发明公开了一种桑色素分子印迹硅胶的制备方法：以桑色素分子为模板,丙烯酰胺或甲基丙烯酸为功能单体，利用硅胶表面接枝印迹技术合成桑色素分子制备印迹硅胶。其制备分为三个步骤：（1）N-丙基马来酰胺酸修饰硅胶的制备；（2）桑色...
毛杰倪可秦存琪常蕊江伟吴顺东欧国松
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一种可清洗萃取剂的正反萃取装置
本实用新型是一种可清洗萃取剂的正反萃取装置。传统的正反萃取装置会由于环境问题引入污染物，污染萃取剂，一般情况下萃取剂需要定期更换，成本高，不易操作。本实用新型所解决的技术问题是针对上述技术的不足，提供的一种可清洗萃取剂的...
毛杰江伟王乐吴秦
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