郝萍
- 作品数：19 被引量：13H指数：2
- 供职机构：上海市计量测试技术研究院更多>>
- 发文基金：上海市质量技术监督局科技项目上海市科学技术委员会科研基金更多>>
- 相关领域：理学金属学及工艺电子电信化学工程更多>>
- 四甲基氢氧化铵溶液中阴离子含量检测方法
- 2022年
- 提出了一种对低浓度四甲基氢氧化铵溶液中氟离子、氯离子、溴离子、亚硝酸根离子、硝酸根离子、硫酸根离子和磷酸根离子含量的检测方法。TMAH溶液稀释质量浓度为2.38%,经在线浓缩处理,离子色谱仪检测,该方法六种阴离子的检出限21~109 ng/L,定量限70~360 ng/L,线性相关系数>0.999,5.0μg/L加标回收率98%~128%。该方法对TMAH溶液中常见的六种阴离子组分检测结果良好,可满足半导体及面板行业用TMAH溶液的检测需求。
- 高一鸣郝萍李春华
- 关键词：四甲基氢氧化铵离子色谱无机阴离子
- 高浓度纳米二氧化硅浆料Zeta电位的测量被引量：3
- 2020年
- 高浓度纳米二氧化硅浆料是晶圆化学机械抛光的常用磨料,保持浆料中高浓度纳米颗粒悬浮液体系的分散稳定是关键技术,通常用Zeta电位来表征,而高浓度浆料的Zeta电位测量仍存在较多问题。采用电泳光散射法,通过稀释和离心方式降低浆料浓度来测量高浓度纳米二氧化硅浆料Zeta电位,并研究了该方法的可行性。结果表明:可以保持颗粒表面和溶液间化学平衡的原液平衡稀释法是准确测量高浓度样品Zeta电位的基础;对于较难获得上层清液的高浓度浆料的稀释,离心以降低颗粒浓度的样品制备方法可快速而准确地获得Zeta电位测量结果;在同一分散体系下,Zeta电位测量值与分散体系中颗粒粒径大小无关。
- 陈鹰周莹厉艳君郝玉红郝萍吴立敏
- 关键词：ZETA电位硅溶胶抛光液
- 一种孔面离子通道衬度试样的制备方法
- 本发明涉及一种微纳米级尺寸范围的孔面离子通道衬度试样的制备方法，对孔面离子通道衬度试样（3）的抛光面（8）至少进行一次聚焦离子束（5）预抛光，至少进行一次交叉式聚焦离子束（5）粗抛光，至少进行一次交叉式聚焦离子束（5）精...
- 周莹陈鹰郝玉红吴立敏陈永康郝萍历艳君徐建
- 文献传递
- 用HR-ICPMS测定高纯有机试剂中金属杂质的方法研究
- 在医药和半导体等行业的应用中，高纯有机试剂中的金属杂质对终端产品的品质有着非常大的影响[1]。比如碱金属与碱土金属(Li、Na、K、Ca、Mg、Ba等)的污染可导致半导体元件击穿电压的降低，过渡金属与重金属(Fe、Cr、...
- 李春华郝萍李永利李杰
- 关键词：高纯试剂金属杂质
- 三重四极杆电感耦合等离子体质谱法测定集成电路用N-甲基吡咯烷酮中14种金属杂质的含量
- 2023年
- 提出了有机加氧进样系统结合三重四极杆电感耦合等离子体质谱法测定集成电路用N-甲基吡咯烷酮(NMP)中Na、Cd、Pb、Mg、Al、Ca、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、K等14种金属杂质含量的方法。通过氧气在线燃烧的方式降低了碳沉积对锥口的影响,采用标准加入法匹配基体效应,使用冷等离子体-氨气碰撞反应模式解决了碳元素质谱干扰的问题,如^(12) C^(12) C^(+)对^(24) Mg^(+)的干扰,^(12)C^(40) Ar+对^(52)Cr^(+)的干扰。14种元素的加标回收率为83.2%~123%,14种元素工作曲线的相关系数均大于0.9990,方法可用于分析杂质元素质量分数低于20.00ng·kg^(-1)的样品,满足先进制程的质量要求。
- 李春华高一鸣郝萍田玉平曹建雄李杰
- 关键词：金属杂质
- 印制电路板表面沾污表征技术
- 2022年
- 通过选用扫描电子显微镜结合X射线能量谱分析和XPS能谱分析配合平行成像技术,对印制电路板表面沾污进行分析,测量结果存在较大差异。通过设计氩离子刻蚀清洁样品表面实验对两种方法的测量结果差异性进行分析,结果表明,印制电路板表面沾污主要来源于样品表层污染。因此,两种分析技术中具有表面分析功能的XPS能谱分析配合平行成像技术更具优势,可以较为准确地探测表面污染元素的种类、含量以及各污染元素在样品表面的分布状况,对查找器件失效原因具有指导意义,值得推广和应用。
- 徐建陈永康郝萍周莹吴立敏
- HR-ICP-MS测定电子级氨中的痕量杂质被引量：1
- 2021年
- 电子级超纯氨是半导体产业上游关键配套原材料,其痕量杂质含量直接影响材料的光学及电学性能乃至器件的使用寿命,是半导体产业链发展中一个重要环节。本文采用高分辨电感耦合等离子质谱仪(HR-ICP-MS)标准加入法检测电子级氨水中痕量杂质元素,回收率在92.1%~119.6%之间,重复性在0.2%~3.9%,检测限能满足电子级氨中杂质含量在(0.1~1.0)μg·kg^(-1)的测试需求。
- 陈永康徐建郝萍张笑旻李春华
- 关键词：HR-ICP-MS标准加入法痕量杂质
- 一种平面离子通道衬度试样的制备方法
- 本发明涉及一种微纳米级尺寸范围的平面离子通道衬度试样的制备方法，对平面离子通道衬度试样（3）的抛光区域（8）至少进行一次聚焦离子束（5）预抛光，至少进行一次交叉式聚焦离子束（5）粗抛光，至少进行一次交叉式聚焦离子束（5）...
- 周莹陈鹰郝玉红吴立敏陈永康郝萍历艳君徐建
- 文献传递
- 微纳功能材料关键参数表征技术和量值溯源体系的建立及应用
- 吴立敏胡军周莹徐建陈鹰龚飞雁姜阳郝玉红陈永康郝萍
- 该项目属于计量科学技术领域。 功能材料作为新材料产业核心，已被视为国民经济、社会发展和国防建设基础和先导，广泛应用于半导体、生物医药、航空航天、新能源、环保等高新技术领域。随着“中国制造2025”强国战略实施，大力发展先...
- 关键词：
- 蒙特卡罗方法在亚微米尺度金镀层厚度分析中的应用被引量：1
- 2016年
- 利用能谱仪(energy dispersive spectrometer,EDS)及蒙特卡罗方法(Monte Carlo method)确定金(Au)镀层厚度。使用不同加速电压对试样表面进行EDS成分分析,选取镀层元素含量在80%～99%的加速电压进行蒙特卡罗模拟计算,可以快速获得镀膜厚度。同时,为了验证蒙特卡罗方法的可靠性,对样品进行FIB制样和SEM厚度测试。两者结果基本一致。该方法适用于20～1000 nm金(Au)镀层厚度的测量。
- 周莹杨静张丽琪厉艳君郝萍
- 关键词：蒙特卡罗方法能谱仪镀层厚度
