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谢辉

作品数：1 被引量：0H指数：0
供职机构：四川大学更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇正胶
  • 1篇准分子
  • 1篇准分子激光
  • 1篇准分子激光光...
  • 1篇激光
  • 1篇激光光刻
  • 1篇光刻
  • 1篇分子

机构

  • 1篇四川大学

作者

  • 1篇周业为
  • 1篇潘大任
  • 1篇谢健
  • 1篇曾传相
  • 1篇田文彦
  • 1篇谢辉

传媒

  • 1篇四川大学学报...

年份

  • 1篇1992
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
准分子激光光刻AZ1350SF正胶的实验研究
1992年
80年代,准分子激光一出现,世界上各先进国家就开展了准分子激光光刻的研究工作。目前,美、日等国准分子激光光刻水平已低于0.4μm的分辨率。他们研究中采用准分子激光多为KrF和XeCl激光,光致抗蚀剂有MP2400,PMMA,PMGI和NOVOLAK等,XeCl激光暴光时采用的是重氮型光刻胶AZ2400。我们采用XeCl准分子激光(波长为308nm)对美国正胶AZ1350SF进行光刻研究,研究中获得一些重要实验结果。
田文彦曾传相潘大任谢辉周业为谢健
关键词：准分子激光光刻正胶
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