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许志平

作品数:13 被引量:1H指数:1
供职机构:华南理工大学更多>>
相关领域:电子电信化学工程更多>>

文献类型

  • 12篇专利
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇电子电信
  • 1篇化学工程

主题

  • 4篇晶体管
  • 4篇衬底
  • 3篇柔性衬底
  • 3篇解离
  • 3篇基板
  • 3篇半导体
  • 3篇薄膜晶体
  • 3篇薄膜晶体管
  • 2篇导电
  • 2篇低阻值
  • 2篇电镀
  • 2篇电镀法
  • 2篇电路
  • 2篇电子元
  • 2篇电子元件
  • 2篇淀积
  • 2篇有源
  • 2篇粘度
  • 2篇双向开关
  • 2篇透明导电

机构

  • 13篇华南理工大学

作者

  • 13篇许志平
  • 9篇徐苗
  • 9篇陶洪
  • 9篇彭俊彪
  • 9篇王磊
  • 9篇邹建华
  • 3篇吴为敬
  • 3篇李民
  • 3篇颜骏
  • 3篇赖志成
  • 2篇谢佳松
  • 1篇周雷

年份

  • 2篇2018
  • 2篇2017
  • 3篇2016
  • 2篇2015
  • 1篇2014
  • 1篇2013
  • 2篇2011
13 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
一种柔性透明导电膜的制备方法
本发明公开了一种柔性透明导电薄膜的制备方法,包括制备复合导电层制备、水氧阻隔层沉积、柔性衬底贴合及解离工序。本发明还公开了柔性透明导电薄膜,由下至上依次包括柔性衬底、黏结层、水氧阻隔层、复合导电层;所述复合导电层由下至上...
徐苗阮崇鹏王磊李民邹建华陶洪彭俊彪许志平
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用于柔性显示器件制备的柔性薄膜衬底与基板分离工艺
本发明公开了用于柔性显示器件制备的柔性薄膜衬底与基板分离工艺,包括以下步骤:(1)在载体基板上制备柔性薄膜衬底,对柔性薄膜衬底与载体基板的结合处进行处理,使得某些区域成为高黏附区域;其余区域成为低黏附区域;(2)在低黏附...
王磊许志平徐苗李洪濛邹建华陶洪彭俊彪
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一种衬底与基板分离工艺、柔性显示器件及其制备工艺
本发明公开了一种衬底与基板分离工艺,包括以下步骤:(1)在基板上制备柔性薄膜衬底,所述柔性薄膜衬底位于基板之上,并包覆基体的侧面;(2)在柔性薄膜衬底上制备电子元件;(3)沿着电子元件外围,从柔性薄膜衬底表面垂直向下切割...
王磊许志平邹建华徐苗陶洪彭俊彪
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具有单栅双沟道结构的薄膜晶体管及其制造方法
本发明公开了具有单栅双沟道结构的薄膜晶体管及其制造方法,在基板上形成第一源、漏极,然后淀积第一有源层,有源层边缘与第一源、漏极边缘重叠。继而在第一有源层上依次形成第一绝缘层、栅极、第二绝缘层。第二有源层以对应第一有源层的...
许志平吴为敬赖志成谢佳松颜骏
OLED显示器的像素驱动电路及其驱动方法
本发明公开了OLED显示器的像素驱动电路及其驱动方法,该像素电路包括驱动晶体管,两个开关晶体管,耦合电容,存储电容和有机发光二极管。其中第一开关晶体管的漏极接数据线,栅极接第一扫描控制线,源极接耦合电容的B端,第二开关晶...
吴为敬周雷颜骏许志平赖志成
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用于柔性电子器件的低阻值透明导电网络膜及其制备方法
本发明属于半导体制造技术领域,公开了用于柔性电子器件的低阻值透明导电网络膜及其制备方法。所述方法为:a.在衬底上沉积第一金属层,并将金属层图形化为金属导电网格;b.涂覆负性光刻胶,从衬底侧对负性光刻胶进行曝光处理,形成导...
陶洪徐苗许志平彭俊彪王磊邹建华
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用于AMOLED显示的聚酰亚胺柔性衬底研究
近年来,柔性显示技术发展日新月异。柔性有源矩阵有机发光二极管(active-matrix organic light emitting diode,AMOLED)显示技术由于具有快响应、广视角、宽色域和超便携等特性而受到...
许志平
关键词:聚酰亚胺薄膜晶体管金属氧化物半导体
具有单栅双沟道结构的薄膜晶体管及其制造方法
本发明公开了具有单栅双沟道结构的薄膜晶体管及其制造方法,在基板上形成第一源、漏极,然后淀积第一有源层,有源层边缘与第一源、漏极边缘重叠。继而在第一有源层上依次形成第一绝缘层、栅极、第二绝缘层。第二有源层以对应第一有源层的...
许志平吴为敬赖志成谢佳松颜骏
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一种柔性透明导电膜的制备方法
本发明公开了一种柔性透明导电薄膜的制备方法,包括制备复合导电层制备、水氧阻隔层沉积、柔性衬底贴合及解离工序。本发明还公开了柔性透明导电薄膜,由下至上依次包括柔性衬底、黏结层、水氧阻隔层、复合导电层;所述复合导电层由下至上...
徐苗阮崇鹏王磊李民邹建华陶洪彭俊彪许志平
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用于柔性电子器件的低阻值透明导电网络膜及其制备方法
本发明属于半导体制造技术领域,公开了用于柔性电子器件的低阻值透明导电网络膜及其制备方法。所述方法为:a.在衬底上沉积第一金属层,并将金属层图形化为金属导电网格;b.涂覆负性光刻胶,从衬底侧对负性光刻胶进行曝光处理,形成导...
陶洪徐苗许志平彭俊彪王磊邹建华
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共2页<12>
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