杨正
- 作品数：33 被引量：14H指数：3
- 供职机构：中国科学院重庆绿色智能技术研究院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金重庆市科技攻关计划中国科学院国防科技创新基金更多>>
- 相关领域：理学机械工程电子电信自动化与计算机技术更多>>
- 采用DMD与液晶调制的曲面光刻方法
- 本发明涉及采用DMD与液晶调制的曲面光刻方法，属于光刻技术领域。采用DMD作为数字灰度掩模调制器，对入射光的振幅进行调制，同时加入液晶作为相位调制器，对入射光的相位进行调制，从而将入射的平面波转化为特定波前的光束，然后再...
- 孙秀辉尹韶云江海波陈建军杨正杜凯
- 文献传递
- 基于多角度散斑曝光实现大散射角全息扩散片的制备被引量：2
- 2021年
- 光学扩散片是液晶显示器中的关键元件,兼具广角、高透过率、高均匀性的扩散片一直是液晶显示领域的重要研究目标。基于Helmholtz-Kirchhoff理论,推导了激光透过粗糙表面的散斑强度频谱分布,提出通过特定入射角度的多个光束依次照射粗糙表面形成散射场叠加曝光的全息扩散片设计方法。该方法拓宽了全息扩散片的散射角度,提升了散射强度的均匀性。搭建了全息扩散片的制作光路,采用上述方法制作了全息扩散片,测量获得的远场强度分布与仿真结果能很好地吻合,散射角的半峰全宽达到130°,透过率达到90%以上,扩散系数达到92%,同时实现了广角、高透过率和高亮度均匀性,在液晶显示中具有潜在的应用前景。
- 杨朝雄江海波孙秀辉刘毅杨正房启鹏尹韶云
- 关键词：全息散斑散射
- 聚酰亚胺薄膜的反应离子刻蚀抛光被引量：1
- 2019年
- 为进一步提高聚酰亚胺薄膜光学器件的表面质量,提出了一种聚酰亚胺薄膜的反应离子刻蚀抛光方法,对其抛光原理和抛光实验进行了研究。利用光刻胶流体的低表面张力及流动特性,通过在聚酰亚胺薄膜表面涂覆光刻胶对其表面缺陷进行填补;结合聚酰亚胺与光刻胶的反应离子高各向异性等比刻蚀工艺,将光刻胶光滑平整表面高保真刻蚀转移至聚酰亚胺表面,从而实现聚酰亚胺薄膜的反应离子刻蚀抛光。实验结果表明:PV、RMS分别为1.347μm和340nm的粗糙表面,通过二次抛光其粗糙度可降低至75nm和13nm;PV、RMS分别为61nm和8nm的表面,其粗糙度可降低至9nm和1nm。该抛光方法能有效提高聚酰亚胺薄膜的表面光洁度,可为以聚酰亚胺薄膜为代表的高分子柔性光学器件的精密加工提供新的工艺思路。
- 杨正靳志伟靳志伟饶先花尹韶云饶先花
- 关键词：抛光聚酰亚胺光刻胶反应离子刻蚀
- 一种基于几何超表面的动态全息方法
- 本发明涉及一种基于几何超表面的动态全息方法，属于光学元件、系统及仪器技术领域。在该方法中，光源出射光依次通过起偏器、四分之一波片、几何超表面，最后到达接收屏，所述接收屏尺寸由几何超表面与观察距离决定；几何超表面结构通过M...
- 尹韶云郑倩颖刘丹骏杨正蔡文涛孙秀辉杜春雷
- 文献传递
- 一种基于偏振敏感金属纳米天线的两相位动态全息装置
- 本发明公开了一种基于偏振敏感金属纳米天线的两相位动态全息装置，包括起偏器、第一液晶层、偏振敏感金属纳米天线、第二液晶层、检偏器和接收屏，起偏器将光源的光转换为线偏光，线偏光通过第一液晶层后以偏振态出射，偏振光通过偏振敏感...
- 尹韶云郑倩颖李晶杨正刘丹骏杜春雷
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- 傅立叶变换光谱仪及其测试方法
- 本发明提供了一种傅立叶变换光谱仪及其测试方法。傅立叶变换光谱仪包括：依次共光轴设置的起偏器、作用液晶盒、补偿液晶盒、检偏器、光电探测器和计算装置；作用液晶盒中的双折射液晶分子的方向与起偏器的起偏方向的夹角为45度；作用液...
- 杨正夏良平崔钧尹韶云杜春雷
- 文献传递
- 无色透明高性能低表面粗糙度的聚酰亚胺光学薄膜材料及其制备方法
- 本发明公开了无色透明高性能低表面粗糙度的聚酰亚胺光学薄膜材料及其制备方法，聚酰亚胺光学薄膜材料由含氟芳香族二胺和芳香二酐单体在摩尔比为0.98～1.02条件下缩聚反应形成聚酰胺酸溶液后，加入流平剂混合后经成膜、亚胺化制得...
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- 基于瑞利-索末菲衍射理论的近场大衍射角衍射光学元件的设计被引量：3
- 2017年
- 提出了一种基于瑞利-索末菲衍射理论的设计方法,用于近场大衍射角衍射光学元件的设计.研究在大衍射角条件下,衍射光学元件面和输出面采样点之间应满足的空间位置关系.采用无远场和傍轴近似的正、逆向衍射计算方法对传统盖师贝格-撒克斯通算法进行改进,得到近场大衍射角衍射光学元件的设计方法.以"田"字形目标光强为例,将传统设计方法、现有大衍射角衍射光学元件设计方法和本文提出的设计方法进行对比,结果表明:在近场区域,本文方法可以准确重构出大衍射角衍射光学元件的目标光场,其他两种方法则会导致重构光场产生明显的畸变或者模糊化.
- 李晶吴鹏杨正郑倩颖李韬杰向阳杜春雷尹韶云
- 关键词：光学设计衍射光学衍射光学元件计算全息相位恢复
- UV LED光源结构及平行光曝光机
- 本实用新型提供一种UV LED光源结构及平行光曝光机，包括UV LED光源模块、复眼透镜匀化系统与主反射镜，沿UV LED光源模块的光路方向，复眼透镜匀化系统与主反射镜依序布置，UV LED光源模块用于射出紫外光线，UV...
- 江海波孙秀辉蔡文涛杨正尹韶云杜春雷
- 文献传递
- 一种用于紫外LED曝光机的电子快门
- 本发明公开了一种用于紫外LED曝光机的电子快门，其特征在于：所述电子快门包括：曝光强度设定模块、曝光时间设定模块、光强度温度探测模块、中心控制模块、光强度调节模块和上位机通讯模块；本发明通过光强度、温度检测，光强度温度反...
- 尹韶云李任远苟健孙秀辉杨正吴鹏杜春雷
- 文献传递
