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李璐杰

作品数:4 被引量:4H指数:1
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所更多>>
发文基金:中国人民解放军总装备部预研基金更多>>
相关领域:理学化学工程电子电信更多>>

文献类型

  • 4篇中文期刊文章

领域

  • 2篇理学
  • 1篇化学工程
  • 1篇电子电信

主题

  • 3篇单晶
  • 3篇GASB
  • 2篇GASB单晶
  • 2篇LEC
  • 1篇有限元
  • 1篇碳化硅
  • 1篇碳化硅单晶
  • 1篇热应力
  • 1篇热应力分析
  • 1篇位错
  • 1篇位错密度
  • 1篇温场
  • 1篇晶体
  • 1篇隔热屏
  • 1篇固-液界面
  • 1篇硅单晶
  • 1篇放肩
  • 1篇覆盖剂
  • 1篇LEC法
  • 1篇大尺寸

机构

  • 4篇中国电子科技...

作者

  • 4篇李璐杰
  • 3篇程红娟
  • 3篇张颖武
  • 2篇于凯
  • 1篇徐永宽
  • 1篇孟大磊
  • 1篇张政
  • 1篇张志鹏
  • 1篇练小正

传媒

  • 2篇压电与声光
  • 1篇人工晶体学报
  • 1篇材料研究与应...

年份

  • 1篇2020
  • 3篇2016
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
LEC-GaSb单晶生长技术研究被引量:1
2016年
采用液封直拉(LEC)法进行了生长GaSb单晶的实验研究,对比了等摩尔比的(LiCl+KCl)和氧化硼(B2O3)两种液封剂作用下的生长控制效果。通过模拟了解了保温罩是如何改善系统温场的梯度,进而分析了温场对成晶的影响。对晶体单晶区域的测试结果给出了晶体内部的位错分布特点,X线衍射(XRD)的测试结果显示该区域的晶体质量较好。
于凯李璐杰程红娟张颖武
关键词:GASB晶体温场
LEC法GaSb晶体生长数值模拟研究被引量:1
2016年
采用有限元模拟软件对液封直拉(LEC)法生长锑化镓晶体过程进行计算机建模。模拟分析了晶体旋转、坩埚旋转及隔热屏等因素对GaSb固-液界面形貌的影响。结果表明,晶体旋转与坩埚旋转分别具有促使凸向熔体的固-液界面曲率减小及增大的作用,且同等转速条件下,坩埚旋转对固-液界面形貌影响更大。此外,减小放肩角度、去除炉体上部的隔热屏等措施,均具有使凸向熔体的固-液界面曲率降低的作用。而使用液封剂使凸向熔体的固-液界面曲率增大。坩埚在加热器中存在某一位置,使熔体内部轴向梯度最大。炉膛内氩气流速最剧烈部位为保温罩与拉晶杆间的区域,Ar气对流导致上炉膛温度提高,并降低熔体表面温度约8℃。
李璐杰程红娟张颖武于凯
关键词:固-液界面隔热屏
PVT法碳化硅晶体生长热应力分析被引量:2
2020年
基于有限元数值计算方法,对物理气相传输(PVT)法生长碳化硅(SiC)晶体过程中籽晶托、坩埚侧壁、轴向温度梯度三个因素导致的热应力进行分析.研究结果表明:籽晶托与晶体之间的热失配所引起的热应力最大区域位于二者连接部位且靠近晶锭侧边缘,且与籽晶托厚度成正相关;坩埚壁与晶体之间热失配产生的热应力集中区域位于晶锭侧面,也与坩埚壁厚度成正相关;轴向温度梯度产生的热应力取值与轴向温度梯度取值正相关,存在一温度梯度取值,使得切应力分量低于位错形成的临界剪切应力限σ_(crs).根据研究结果,优化籽晶托及坩埚结构和热场,抑制了晶体开裂现象,并大幅降低了所制备SiC晶体的位错密度.
孟大磊李璐杰张政
关键词:碳化硅单晶热应力有限元
大尺寸高质量GaSb单晶研究被引量:1
2016年
采用垂直布里奇曼法(VB法)生长2英寸GaSb单晶,分析了GaSb多晶产生的原因,即GaSb原料与覆盖剂中残留水分发生化学反应生成氧化镓残渣,残渣吸附在坩埚内壁导致GaSb多晶形成。通过增加覆盖剂除水工艺,成功生长出2英寸高质量GaSb单晶。此外,研究了单晶内部位错分布特点,结果显示GaSb晶体具有较低的位错密度,EPD≤500 cm^(-2);同时,对晶体进行XRD摇摆曲线测试,其FWHM值为27arcsec,表明晶体质量较高;此外,对晶体进行了电学性能测试,结果显示制备的GaSb晶体呈P型导电,晶体迁移率为610 cm^2/V·s,载流子浓度达到了1.68×10^(17)cm^(-3)。
练小正李璐杰张志鹏张颖武程红娟徐永宽
关键词:GASB位错密度覆盖剂
共1页<1>
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