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张议丹

作品数：2 被引量：0H指数：0
供职机构：牡丹江师范学院更多>>
发文基金：黑龙江省自然科学基金更多>>
相关领域：理学一般工业技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 1篇温度
  • 1篇膜制备
  • 1篇金刚石薄膜
  • 1篇金刚石膜
  • 1篇工艺参
  • 1篇工艺参数
  • 1篇硅衬底
  • 1篇合成温度
  • 1篇CVD法
  • 1篇衬底
  • 1篇大尺寸

机构

  • 2篇牡丹江师范学...

作者

  • 2篇张议丹
  • 1篇郑友进
  • 1篇于淼
  • 1篇王倩

传媒

  • 1篇哈尔滨师范大...

年份

  • 2篇2015
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
硅衬底温度对金刚石薄膜品质影响
2015年
采用PCVD法制备金刚石薄膜的设备研究硅衬底温度变化对沉积金刚石薄膜品质的影响.实验发现,温度从750℃增加到950℃的过程中,随着硅衬底温度上升,金刚石薄膜的质量先变好,生长速率减小;850℃质量达到最好,生长速率降到最低;850℃后质量开始变差,生长速率增加;950℃膜由反聚乙炔构成.随着硅衬底温度增加,氢原子刻蚀作用逐渐增大且愈加集中,膜表面空洞缺陷和晶界缺陷增加.综合考量,金刚石薄膜的品质先变好后变差.
张议丹于淼王倩郑友进
关键词：硅衬底温度
大尺寸金刚石膜制备的研究
本论文采用间歇式P-CVD法，H2/CH4气氛。以直径20mm的Si基底在上直径40mm的Mo基底在下的叠放方式，同时研究了温度对二者合成金刚石膜的影响。通过SEM、RAMAN分析得出Si基底合成金刚石膜的适宜温度为85...
张议丹
关键词：金刚石膜合成温度工艺参数
文献传递
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